JPS6094247A - 静電チヤツク - Google Patents
静電チヤツクInfo
- Publication number
- JPS6094247A JPS6094247A JP20423983A JP20423983A JPS6094247A JP S6094247 A JPS6094247 A JP S6094247A JP 20423983 A JP20423983 A JP 20423983A JP 20423983 A JP20423983 A JP 20423983A JP S6094247 A JPS6094247 A JP S6094247A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- electrostatic chuck
- wafer
- chuck
- dielectric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業」二の利111分野〕
本発明は、静電チャックに係り、特に半導体ウェハのよ
うな自然状態において反っていることのある被チャック
物(以下ウェハとして説明する)を平坦などの所定形状
に矯正し7て支持固定するための静電チャックに関する
ものである。
うな自然状態において反っていることのある被チャック
物(以下ウェハとして説明する)を平坦などの所定形状
に矯正し7て支持固定するための静電チャックに関する
ものである。
従来、この種の静電チャックは、−第1図に示すように
、平板状の電極1の表面に、絶縁物からなる薄板ないし
は膜状の誘電体2を刺着さぜ、この誘電体2の表面(以
下チャック面という〕に置かれたウェハ3と電極1との
間に直流電源4を接続して両者の間に生ずる電位差にか
り吸引力を生じさせて、該ウェハ3をチャック面に密着
固定させるようになっていた。この静電チャックの吸引
力fは、下式で表わされる。
、平板状の電極1の表面に、絶縁物からなる薄板ないし
は膜状の誘電体2を刺着さぜ、この誘電体2の表面(以
下チャック面という〕に置かれたウェハ3と電極1との
間に直流電源4を接続して両者の間に生ずる電位差にか
り吸引力を生じさせて、該ウェハ3をチャック面に密着
固定させるようになっていた。この静電チャックの吸引
力fは、下式で表わされる。
たたし、Kは定数、nは誘電体2の誘電率、■は電極1
とウェハ3の間の電位差、a(は誘電体2の厚さ、l)
は誘電体2とウェハ3の間のすき間である。
とウェハ3の間の電位差、a(は誘電体2の厚さ、l)
は誘電体2とウェハ3の間のすき間である。
上式から明りつかなように吸引力は、電極Iとウェハ3
との間のすき間1)が小さいところほど大きくなる。そ
こで、第2図に示すようにウエノ・3′が中火より外方
が高くなるように反っている場合(佳問題ないが、第1
図に示す」:うに、中央が高くなるように反っている場
合には、周囲がチャック面に接触もしくU接近している
ためにより強い吸引力を受け、この周囲部分が先に吸引
固定されてし寸う。ウェノ・3の中火部(佳、その後、
吸引力によってチャック面に密着されようとするが、こ
の中央部が下降してチャック面に密着するために(は、
周囲部分が外方へすべF、)fJ: <てにならない。
との間のすき間1)が小さいところほど大きくなる。そ
こで、第2図に示すようにウエノ・3′が中火より外方
が高くなるように反っている場合(佳問題ないが、第1
図に示す」:うに、中央が高くなるように反っている場
合には、周囲がチャック面に接触もしくU接近している
ためにより強い吸引力を受け、この周囲部分が先に吸引
固定されてし寸う。ウェノ・3の中火部(佳、その後、
吸引力によってチャック面に密着されようとするが、こ
の中央部が下降してチャック面に密着するために(は、
周囲部分が外方へすべF、)fJ: <てにならない。
ところが、この周囲部分it 1)il R+2のよう
にすでにチャック面に密着1.でより強い吸引力を受け
ているため、すべることができす、したがってウニ/・
3の中央部をチャック面へ密着させることができず、ウ
ェハ3の反りを完全に矯庄することができない。本願発
明者の実験によれば、前記のように中央が高いウェハ3
の場合には、第3図に示すように、電極1′をウェハ3
の中央部にのみ対向するように小さくすると、ウェハ3
の反りを除去してより完全に矯正した状態でチャックで
きること全確認したが、このような静電チャック(は、
第4図に示すように、外方が高くなるように反っている
ウェハ3′の反りを矯正することはできない。なお、第
3図および第4図において、4は基板である。
にすでにチャック面に密着1.でより強い吸引力を受け
ているため、すべることができす、したがってウニ/・
3の中央部をチャック面へ密着させることができず、ウ
ェハ3の反りを完全に矯庄することができない。本願発
明者の実験によれば、前記のように中央が高いウェハ3
の場合には、第3図に示すように、電極1′をウェハ3
の中央部にのみ対向するように小さくすると、ウェハ3
の反りを除去してより完全に矯正した状態でチャックで
きること全確認したが、このような静電チャック(は、
第4図に示すように、外方が高くなるように反っている
ウェハ3′の反りを矯正することはできない。なお、第
3図および第4図において、4は基板である。
本発明の目的は、前述したような欠点を除去し、ウェハ
などの被チャック物が自然状態において前記のようにい
ずれの方向に反っていても該反りをより完全に矯正して
支持固定することのできる静電チャックを提供するにあ
る。
などの被チャック物が自然状態において前記のようにい
ずれの方向に反っていても該反りをより完全に矯正して
支持固定することのできる静電チャックを提供するにあ
る。
かかる目的を達成するための本発明(は、電極を被チャ
ック物に対向するチャック面の全面に及ぶように設ける
のではなく、該チャック面に沿った面内で部分的に電極
が存在しない空白部を適宜な割合で分散配置させたもの
であり、このような電極形態にすると外方が高く反って
いる場合はもちろん中央が高くなるように反っている場
合でもか−反りをより完全に矯正できる。
ック物に対向するチャック面の全面に及ぶように設ける
のではなく、該チャック面に沿った面内で部分的に電極
が存在しない空白部を適宜な割合で分散配置させたもの
であり、このような電極形態にすると外方が高く反って
いる場合はもちろん中央が高くなるように反っている場
合でもか−反りをより完全に矯正できる。
以下本発明の一実施例を示す第5図ないし第6図につい
て説明する。第5図(1電極IIの形状を示すもので、
中火の円形部++aとそれ全同上・円状に囲む2つのリ
ング部11b、IIcおよびそれらを互いに連結する連
結部+1dとからなっており、このようなパター7にな
された電極IIが第6図に示すようにセラミック製の基
板14の表面に471着されている。電極11の−にに
はガラス板からなる誘電体12が接着法によって貼付け
1)れている。なお、l b icV’l[4’、極1
1への給電用のl)−ド線である(、) 1iiJ記′
1(Lイ命11の夕1径1) LK l 20+?1m
、中央の円形部1し1の直径c1は30箇とし、リン
グ状電1N’(l Il]、11 t: :F、・よび
これらに隣接する空白部Aの幅t(第5図参照)はそれ
ぞれ等しい値に配分さhている。
て説明する。第5図(1電極IIの形状を示すもので、
中火の円形部++aとそれ全同上・円状に囲む2つのリ
ング部11b、IIcおよびそれらを互いに連結する連
結部+1dとからなっており、このようなパター7にな
された電極IIが第6図に示すようにセラミック製の基
板14の表面に471着されている。電極11の−にに
はガラス板からなる誘電体12が接着法によって貼付け
1)れている。なお、l b icV’l[4’、極1
1への給電用のl)−ド線である(、) 1iiJ記′
1(Lイ命11の夕1径1) LK l 20+?1m
、中央の円形部1し1の直径c1は30箇とし、リン
グ状電1N’(l Il]、11 t: :F、・よび
これらに隣接する空白部Aの幅t(第5図参照)はそれ
ぞれ等しい値に配分さhている。
前記のように構成されている静電チャックの誘電体12
0表面すなわちチャック面に直径が125胴のウェハ1
3を載置し、電極(1とウェハI3との間に400Vの
電位差を与えた。その結果、自然状態において約30μ
m中央が高くなるように反っていたウェハ13は高低差
が約5μmまで減少し、十分に反りが矯正されているこ
とが確認できた。なお、第1図に示すように、電極Iが
チャック面の全面に及んでいる静電チャックの場合には
高低差が約15μmであった。
0表面すなわちチャック面に直径が125胴のウェハ1
3を載置し、電極(1とウェハI3との間に400Vの
電位差を与えた。その結果、自然状態において約30μ
m中央が高くなるように反っていたウェハ13は高低差
が約5μmまで減少し、十分に反りが矯正されているこ
とが確認できた。なお、第1図に示すように、電極Iが
チャック面の全面に及んでいる静電チャックの場合には
高低差が約15μmであった。
また、本発明の静電チャックによれば、第6図に示した
ウェハ13と逆に反っているウェハitより容易に反り
全矯正することができることは言うまでもない。
ウェハ13と逆に反っているウェハitより容易に反り
全矯正することができることは言うまでもない。
第7図ないし第9図は、電極パターンのそれぞ7’L異
なる例を/」<すもので、第7図(−i連結部を持た示
し、第8図および第9図は中火から放射状に伸びる複数
の突起31a寸たは41aからなる電極31と41を示
している。
なる例を/」<すもので、第7図(−i連結部を持た示
し、第8図および第9図は中火から放射状に伸びる複数
の突起31a寸たは41aからなる電極31と41を示
している。
なお、前述したような電極パターンは、電極が中央で密
ノ及がl’i < 、周辺部で低くなる(第9図参照)
ように形成すノしに1、中央が高いウェノ・の反り矯正
がより確つノLにできる。
ノ及がl’i < 、周辺部で低くなる(第9図参照)
ように形成すノしに1、中央が高いウェノ・の反り矯正
がより確つノLにできる。
以」二述べたように本発明によれば、チャック面に沿っ
た面内て部分的に空白部を有するように電極パター7を
・形成することにより、外方が高くなるように反っlζ
ウェノ・などの被チャック物と中央が高くなるように反
ったX被チャック物との両方の反りをより完全に矯正し
て支持固定することができる。
た面内て部分的に空白部を有するように電極パター7を
・形成することにより、外方が高くなるように反っlζ
ウェノ・などの被チャック物と中央が高くなるように反
ったX被チャック物との両方の反りをより完全に矯正し
て支持固定することができる。
第1図および第2図は従来の静電チャックとそれに対す
る被チャック物との関係を示す概要断面図、第3図およ
び第4図は実験に用いた静電チャックとそれに対する被
チャック物との関係を示す概要断面図、第5図は本発明
による静電チャックの電極パターンの一例を示す平面図
、第6図I−1第5図のVI−VI線による静電チャッ
クとそれに対する被チャック物の関係を示す概要断面図
、第7図ないし第9図は本発明による静電チャックのそ
れぞれ異なる電極パターンの例を示す平面図である。 1 、l 1.2+ 、31.41・・・電極、2.1
2・・・誘電体、 3.3’、13・・・被チャック物
、4.14・・・基板、15・・リード線。 出願人 東芝機械株式会社 第1区 才2図 才5図 矛7図 才8図 才9図 手 続 捕 正 1 1、事件の表示 昭和58年特許願第204239号 乙発明の名称 静電チャック 3、補正をする者 特許出願人 〒104 住 所 東全部中央区銀座4丁目2蚕11号4、補正の
対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 b 補正の内容 1)[り1細書第2頁下から4行
る被チャック物との関係を示す概要断面図、第3図およ
び第4図は実験に用いた静電チャックとそれに対する被
チャック物との関係を示す概要断面図、第5図は本発明
による静電チャックの電極パターンの一例を示す平面図
、第6図I−1第5図のVI−VI線による静電チャッ
クとそれに対する被チャック物の関係を示す概要断面図
、第7図ないし第9図は本発明による静電チャックのそ
れぞれ異なる電極パターンの例を示す平面図である。 1 、l 1.2+ 、31.41・・・電極、2.1
2・・・誘電体、 3.3’、13・・・被チャック物
、4.14・・・基板、15・・リード線。 出願人 東芝機械株式会社 第1区 才2図 才5図 矛7図 才8図 才9図 手 続 捕 正 1 1、事件の表示 昭和58年特許願第204239号 乙発明の名称 静電チャック 3、補正をする者 特許出願人 〒104 住 所 東全部中央区銀座4丁目2蚕11号4、補正の
対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 b 補正の内容 1)[り1細書第2頁下から4行
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 絶縁物で形成さ7La面に被チャック物を吸着する
誘電体と、同誘電体の裏面側に配置された電極とからな
る静電チャックにおいて、前記電極をチャック面に沿っ
/こ面内で部分的に空白部を有するように形成し7たと
と’:x ’l”f徴とする静電チャック。 2、電41計がリングを含む略同心円状の、Cターンに
形成されている市1;′1品求の範囲第1項記載の静電
チャック0 3、電極が略放射状に伸びる複数の突起からなるパター
ンに形成さ7Lでいる特許請求の範囲第1項記載の静電
チャック。 4、電極が中火部で密IWが高く周辺部で低くなるよう
に形成さ)1ている特it’l請求の範囲第1,2また
(は3項記載の静電チャック。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58204239A JPH0615130B2 (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | 静電チヤツク |
| US06/664,408 US4692836A (en) | 1983-10-31 | 1984-10-24 | Electrostatic chucks |
| DE19843439371 DE3439371A1 (de) | 1983-10-31 | 1984-10-27 | Elektrostatische aufspannvorrichtung |
| FR848416701A FR2554288B1 (fr) | 1983-10-31 | 1984-10-31 | Mandrins electrostatiques |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58204239A JPH0615130B2 (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | 静電チヤツク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6094247A true JPS6094247A (ja) | 1985-05-27 |
| JPH0615130B2 JPH0615130B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=16487148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58204239A Expired - Lifetime JPH0615130B2 (ja) | 1983-10-31 | 1983-10-31 | 静電チヤツク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0615130B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015515123A (ja) * | 2012-02-29 | 2015-05-21 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 静電クランプ |
| JP2022136872A (ja) * | 2021-03-08 | 2022-09-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板支持器 |
| EP4227984A4 (en) * | 2020-10-12 | 2024-04-10 | Raycer Advanced Materials Technology Co., Ltd. | PATTERN STRUCTURE OF ELECTROSTATIC CHUCK ELECTRODE HAVING CONCENTRIC CIRCLE STRUCTURE |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57161241U (ja) * | 1981-04-03 | 1982-10-09 | ||
| JPS6013740U (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-30 | 日本電子株式会社 | 試料保持装置 |
-
1983
- 1983-10-31 JP JP58204239A patent/JPH0615130B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57161241U (ja) * | 1981-04-03 | 1982-10-09 | ||
| JPS6013740U (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-30 | 日本電子株式会社 | 試料保持装置 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015515123A (ja) * | 2012-02-29 | 2015-05-21 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 静電クランプ |
| EP4227984A4 (en) * | 2020-10-12 | 2024-04-10 | Raycer Advanced Materials Technology Co., Ltd. | PATTERN STRUCTURE OF ELECTROSTATIC CHUCK ELECTRODE HAVING CONCENTRIC CIRCLE STRUCTURE |
| US12224197B2 (en) | 2020-10-12 | 2025-02-11 | Raycer Advanced Materials Technology Co., Ltd | Electrode pattern structure of concentric-circular-structured electrostatic chuck |
| JP2022136872A (ja) * | 2021-03-08 | 2022-09-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板支持器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0615130B2 (ja) | 1994-03-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW559944B (en) | Electrode cover, plasma apparatus utilizing the cover, and method of fitting the cover onto the plasma electrode | |
| US6522519B1 (en) | Electrostatic chucking device and methods for holding microlithographic sample | |
| JPH10313044A (ja) | 半導体ウェーハ処理システム内のペデスタルにウェーハを機械的及び静電的にクランプする方法及び装置 | |
| KR102694924B1 (ko) | 하드 마스크를 갖는 기판 캐리어 | |
| TWI308849B (en) | Electrostatic chuck for vacuum processing apparatus, vacuum processing apparatsu havign the same, and method for manufacturing the same | |
| JP2001185607A5 (ja) | ||
| CN103247563A (zh) | 具有多区域控制的静电卡盘 | |
| JPS6094247A (ja) | 静電チヤツク | |
| JPH0473950A (ja) | 静電チャック | |
| CN111788670B (zh) | 用于保持大面积基板的双极静电卡盘 | |
| JPH09266242A (ja) | 吸着用チャック装置 | |
| CN114221580B (zh) | 磁悬浮装置以及转子位置调节方法 | |
| KR20200010856A (ko) | Oled 화소 형성용 마스크 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| JP2006253352A (ja) | 吸着装置 | |
| JPH06224281A (ja) | ウエハ移載用治具 | |
| TW202441690A (zh) | 靜電吸盤 | |
| JP7174141B2 (ja) | 静電チャック | |
| JP4056599B2 (ja) | 静電チャックを用いた液晶表示装置用ガラス基板の吸着方法 | |
| JPH03292753A (ja) | 静電チャック | |
| JPS6095932A (ja) | 静電チヤツク | |
| KR102457215B1 (ko) | 정전척 및 그 제조방법 | |
| CN107434166A (zh) | 基板移送装置 | |
| JPH0352079Y2 (ja) | ||
| JPH04133443U (ja) | セラミツク製静電チヤツク | |
| JPH0739255Y2 (ja) | ワイヤボンディングを行う両面フレキシブル基板の構造 |