JPS6096583A - 接合用セラミツクス部材及びその接合方法 - Google Patents
接合用セラミツクス部材及びその接合方法Info
- Publication number
- JPS6096583A JPS6096583A JP20054083A JP20054083A JPS6096583A JP S6096583 A JPS6096583 A JP S6096583A JP 20054083 A JP20054083 A JP 20054083A JP 20054083 A JP20054083 A JP 20054083A JP S6096583 A JPS6096583 A JP S6096583A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- layer
- bonding
- metal layer
- ceramic member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 47
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 87
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 87
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 238000005219 brazing Methods 0.000 claims description 25
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 11
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 10
- 230000013011 mating Effects 0.000 claims description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 229910001149 41xx steel Inorganic materials 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000002343 gold Chemical class 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052575 non-oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011225 non-oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は接合用セラミックス部材及びその接合方法に係
シ、特に活性金属を利用した接合用セラミックス部材及
びその接合方法に関するものである。
シ、特に活性金属を利用した接合用セラミックス部材及
びその接合方法に関するものである。
近年、高温高強度構造材料として窒化珪素、炭化珪素、
サイアロンなどの非酸化物セラミックス、あるいは酸化
アルミニウム、酸化ジルコニウムナど、いわゆるニュー
・セラミックスが急速にクローズアップされ、多くの研
究や開発がなされている。これらのセラミックスの用途
は、ガスタービンのロータ、ディーゼルエンジンのシリ
ンダ、その他高温用機械部品として数多くあるが、いず
れも形状や寸法精度の要求が厳しく、始めから一体のも
のとして成形製作することは困難であることが多い。
サイアロンなどの非酸化物セラミックス、あるいは酸化
アルミニウム、酸化ジルコニウムナど、いわゆるニュー
・セラミックスが急速にクローズアップされ、多くの研
究や開発がなされている。これらのセラミックスの用途
は、ガスタービンのロータ、ディーゼルエンジンのシリ
ンダ、その他高温用機械部品として数多くあるが、いず
れも形状や寸法精度の要求が厳しく、始めから一体のも
のとして成形製作することは困難であることが多い。
このために部分的な製品同志を接着させて、複雑な形状
のものに仕上げる必要があシ、セラミックス同志、ある
いはセラミックスと金属とを強固に接合させる方法の開
発が望まれている。
のものに仕上げる必要があシ、セラミックス同志、ある
いはセラミックスと金属とを強固に接合させる方法の開
発が望まれている。
従来、セラミックス間に接着材を介在させて高温加圧す
るいわゆるホットプレス接合法が、セラミックスの接合
方法として一般的に行われているが、複雑異形の部材の
接着は困難である。
るいわゆるホットプレス接合法が、セラミックスの接合
方法として一般的に行われているが、複雑異形の部材の
接着は困難である。
また無機接着材も複数種類のものが開発されつつあり、
日本国内でも各種のものが製造市販されている。しかる
にこれらの無機接着材の多くは、通常、シリカ、アルミ
ナ、あるいはジルコニアを主原料としておシ、耐熱性を
有してはいるものの接着面をはがすような力に対しては
弱いという欠点がある。
日本国内でも各種のものが製造市販されている。しかる
にこれらの無機接着材の多くは、通常、シリカ、アルミ
ナ、あるいはジルコニアを主原料としておシ、耐熱性を
有してはいるものの接着面をはがすような力に対しては
弱いという欠点がある。
またこのような無機接着材よりも接合強度の高い接合方
法として、ろう付法がある。ところでセラミックスをろ
う付する条件としては、ろう材によって被接着物がぬれ
、被接合部材とろう材とが密実に接合することが必要で
あるが、セラミックスとりわけ非酸化物系セラミックス
は一般に溶融物に対する親和性(いわゆるぬれ性)が悪
く、また各種の物質との反応性も低いために必ずしも十
分なろう付強度が得られないのが現状である。
法として、ろう付法がある。ところでセラミックスをろ
う付する条件としては、ろう材によって被接着物がぬれ
、被接合部材とろう材とが密実に接合することが必要で
あるが、セラミックスとりわけ非酸化物系セラミックス
は一般に溶融物に対する親和性(いわゆるぬれ性)が悪
く、また各種の物質との反応性も低いために必ずしも十
分なろう付強度が得られないのが現状である。
セラミックスとろう材とのぬれ性を改良し、良好な接合
を行なう方法として活性金属法がある。
を行なう方法として活性金属法がある。
この方法は非常に活性であるTi、Zrなどと、これと
比較的低融点の合金をっくるNi 、 CulAgとを
共晶組成になるようにセラミックス部材と相手方部材と
の間に挿入し、真空中または不活性ガス中で、1回の加
熱操作によシ接合する方法である。
比較的低融点の合金をっくるNi 、 CulAgとを
共晶組成になるようにセラミックス部材と相手方部材と
の間に挿入し、真空中または不活性ガス中で、1回の加
熱操作によシ接合する方法である。
この活性金M法は、1回の加熱操作で接合が完了すると
ともに、サファイアなどの単結晶、その他t1とんどの
セラミックに使用でき便利であるが、Ti、Zr等が非
常に活性であることがら極めて酸化されやすく、接合処
理の際にこれらが酸化するのを防ぐために、真空または
不活性ガス雰囲気中で操作しなければならないという問
題点がある。
ともに、サファイアなどの単結晶、その他t1とんどの
セラミックに使用でき便利であるが、Ti、Zr等が非
常に活性であることがら極めて酸化されやすく、接合処
理の際にこれらが酸化するのを防ぐために、真空または
不活性ガス雰囲気中で操作しなければならないという問
題点がある。
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであって、その
目的とするところは、大気中においても活性金属を用い
てセラミックスを強固に接合することができる接合用セ
ラミックス部材及びその接合方法を提供することにある
。
目的とするところは、大気中においても活性金属を用い
てセラミックスを強固に接合することができる接合用セ
ラミックス部材及びその接合方法を提供することにある
。
この目的を達成するために、本発明はセラミックス部側
の接合予定面に形成する活性金属層を非活性金属層で被
覆し、この非活性金属層によって活性金属の酸素との結
合を防止するようにしたものである。
の接合予定面に形成する活性金属層を非活性金属層で被
覆し、この非活性金属層によって活性金属の酸素との結
合を防止するようにしたものである。
以下に本発明を図面を参照して詳細に説明する。
第1図ないし一第3図は本発明の接合用セラミックス部
材の実施例を示す断面図である。
材の実施例を示す断面図である。
本発明の接合用セラミックス部材は、第1図ないし第3
図に示す如くセラミックス部材1の接合予定面に活性金
属の層2が設けられ、さらにこれを被覆する非活性金属
層3が形成されている。
図に示す如くセラミックス部材1の接合予定面に活性金
属の層2が設けられ、さらにこれを被覆する非活性金属
層3が形成されている。
接合予定面に設ける活性金属の層2の活性金属としては
、具体的にはTi、 ZrlHf%Ta、Nb、Ce%
La、Y等が挙げられ、特にTi、Zr及びHfの第1
Va族金属、とシわけTi、Zrが好ましい。
、具体的にはTi、 ZrlHf%Ta、Nb、Ce%
La、Y等が挙げられ、特にTi、Zr及びHfの第1
Va族金属、とシわけTi、Zrが好ましい。
活性金属層2を形成させる方法としては特に制限はなく
、スパッタ蒸着あるいは活性金属の箔を取シ付ける等の
方法が好適に採用可能である。特にセラミックス部材l
が多孔質の場合には蒸着によるのが好ましい。このよう
な活性金属層2をスパッタ蒸着によシ形成させる場合に
は、0.5〜20μmの層を、また箔を用いる場合には
10〜100μmの箔を用いて形成させるのが好ましい
。
、スパッタ蒸着あるいは活性金属の箔を取シ付ける等の
方法が好適に採用可能である。特にセラミックス部材l
が多孔質の場合には蒸着によるのが好ましい。このよう
な活性金属層2をスパッタ蒸着によシ形成させる場合に
は、0.5〜20μmの層を、また箔を用いる場合には
10〜100μmの箔を用いて形成させるのが好ましい
。
活性金属層2を被覆する非活性金属層3としてはAu、
Pt、 Ag、 Pd%Rh等ol金Rあるいはこれら
の貴金属の合金の層、またはろう材組成の合金等の層が
挙げられる。貴金属としてはコスト面からAgが好まし
く、道金属合金としてはろう材組成のAg−Cu合金が
好ましい。
Pt、 Ag、 Pd%Rh等ol金Rあるいはこれら
の貴金属の合金の層、またはろう材組成の合金等の層が
挙げられる。貴金属としてはコスト面からAgが好まし
く、道金属合金としてはろう材組成のAg−Cu合金が
好ましい。
非活性金属層3を形成させる方法としては特に制限はな
く、スパッタMMなどの蒸着、非活性金属箔の圧着、め
っき、溶射、バック処理等が採用し得る。非活性金属層
3は活性金属の酸化を防止するためのものであるので、
活性金属層2を被覆するように形成させる。従って第1
図に示す如く、活性金JIi層2とともにセラミックス
部材1全体をAg等の貴金属で被覆するもの、第2図の
如く、活性金属層2の部分のみAg等の貴金属の層を設
け、その他の部分はAl又はステンレス等f)163’
を設けて被覆するものでも良い。また非活性金属IN
3とセラミックス部材1との接合部11が密着している
場合には、第3図の如く、活性金属層2のみを被覆する
ものでも良い。第2図、第3図のようにすれば第1図の
ものよりもAg使用量が少なくて足シ、低コスト化しう
る。
く、スパッタMMなどの蒸着、非活性金属箔の圧着、め
っき、溶射、バック処理等が採用し得る。非活性金属層
3は活性金属の酸化を防止するためのものであるので、
活性金属層2を被覆するように形成させる。従って第1
図に示す如く、活性金JIi層2とともにセラミックス
部材1全体をAg等の貴金属で被覆するもの、第2図の
如く、活性金属層2の部分のみAg等の貴金属の層を設
け、その他の部分はAl又はステンレス等f)163’
を設けて被覆するものでも良い。また非活性金属IN
3とセラミックス部材1との接合部11が密着している
場合には、第3図の如く、活性金属層2のみを被覆する
ものでも良い。第2図、第3図のようにすれば第1図の
ものよりもAg使用量が少なくて足シ、低コスト化しう
る。
非活性金属層30層厚は、非活性金属の種類、形成方法
等により異なるが、例えばAg層を蒸着等によシ形成す
る場合には10〜40μmの層厚とし、Ag箔を圧着し
て形成する場合には30〜200 /aの箔を用いるの
が好ましい。
等により異なるが、例えばAg層を蒸着等によシ形成す
る場合には10〜40μmの層厚とし、Ag箔を圧着し
て形成する場合には30〜200 /aの箔を用いるの
が好ましい。
非活性金属層3は、活性金属の酸化を極力防止するため
にセラミックス部材1に活性金属層2を形成させた後、
すぐに形成するのが好ましく、また非活性金属層3をパ
ック処理等で形成する場合には、活性金属層2と非活性
金属層3との間な真空ポンプ等で脱気するのが好ましい
。さらに非活性金属層3と活性金属層2との間には、適
当な応力緩和層又はTi 、Mg 、 Ca等の脱酸剤
を介在させてもよい。
にセラミックス部材1に活性金属層2を形成させた後、
すぐに形成するのが好ましく、また非活性金属層3をパ
ック処理等で形成する場合には、活性金属層2と非活性
金属層3との間な真空ポンプ等で脱気するのが好ましい
。さらに非活性金属層3と活性金属層2との間には、適
当な応力緩和層又はTi 、Mg 、 Ca等の脱酸剤
を介在させてもよい。
これらの他、予めr i / Ag又はTi/Ag−C
u合金等の活性金属と非活性金属とのクラツド材を形成
させておき、これをセラミックス部材の接合予定面に接
着する方法も採用し得る。
u合金等の活性金属と非活性金属とのクラツド材を形成
させておき、これをセラミックス部材の接合予定面に接
着する方法も採用し得る。
次に本発明の接合方法について第4図ないし第6図を参
照して説明する。
照して説明する。
本発明の接合方法は、上述の如き本発明の接合用セラミ
ックス部材を接合する方法であシ、接合予定面に活性金
属の層と活性金属層を被覆する非活性金属の層を形成さ
せた後、これを接合材を介して相手方部材と当接し、加
熱して接合する第1の方法、及び、活性金属層をろう材
組成の層で被覆した後これを相手方部材と当接し加熱し
て接合する第2の方法、を含む。
ックス部材を接合する方法であシ、接合予定面に活性金
属の層と活性金属層を被覆する非活性金属の層を形成さ
せた後、これを接合材を介して相手方部材と当接し、加
熱して接合する第1の方法、及び、活性金属層をろう材
組成の層で被覆した後これを相手方部材と当接し加熱し
て接合する第2の方法、を含む。
本発明の接合方法の第1の方法は、例えば第4図の如く
、活性金属層2及び非活性金属層3を形成させたセラミ
ックス部材1同志を、接合材4を介して当接し、加熱し
て接合材4を溶融させて接合するものである。接合材4
としては、ろう材又は非活性金属と融合してろう材組成
となる成分の金属又は合金が挙げられる。ろう材として
は貴金属ろう、特に大気中で(又は必要に応じ簡単なA
rシールドによシ)使用可能なセルフフラックス型Ag
ろう等が好ましい。非活性金属と融合してろう材組成と
なるものとしては、非活性金属がAgの場合にはCu又
はCu合金等が好ましい。
、活性金属層2及び非活性金属層3を形成させたセラミ
ックス部材1同志を、接合材4を介して当接し、加熱し
て接合材4を溶融させて接合するものである。接合材4
としては、ろう材又は非活性金属と融合してろう材組成
となる成分の金属又は合金が挙げられる。ろう材として
は貴金属ろう、特に大気中で(又は必要に応じ簡単なA
rシールドによシ)使用可能なセルフフラックス型Ag
ろう等が好ましい。非活性金属と融合してろう材組成と
なるものとしては、非活性金属がAgの場合にはCu又
はCu合金等が好ましい。
また本発明の接合方法の第2の方法は、第5図の如く活
性金属層2をろう材組成の層5で被覆したセラミックス
部材1同志を当接し、加熱してろう材組成の層5を溶融
させて接合するものである。
性金属層2をろう材組成の層5で被覆したセラミックス
部材1同志を当接し、加熱してろう材組成の層5を溶融
させて接合するものである。
この方法においては、ろう材等の接合材を介在させる必
要はないが、これを介在させて接合することは何らさし
つかえない。
要はないが、これを介在させて接合することは何らさし
つかえない。
第4図及び第5図は、いずれも本発明の方法によりセラ
ミックス部材同志を接合する場合を示すもので、従って
、両部材ともに活性金属層及びこれを被覆する層が設け
られているが、本発明においては、セラミックス部材を
金属部材等の他の相手方部材に接合することも可能であ
る。相手方部材が金属部材の場合には、金属部材には伺
ら処理を施す仁となく、そのまま本発明を適用すること
ができる。
ミックス部材同志を接合する場合を示すもので、従って
、両部材ともに活性金属層及びこれを被覆する層が設け
られているが、本発明においては、セラミックス部材を
金属部材等の他の相手方部材に接合することも可能であ
る。相手方部材が金属部材の場合には、金属部材には伺
ら処理を施す仁となく、そのまま本発明を適用すること
ができる。
本発明において、セラミックス部材を相手方部材に当接
した後の加熱方法としては、通常採用し得る加熱方法が
いずれも採用可能であるが、高周波誘導加熱とするのが
最も好ましい。
した後の加熱方法としては、通常採用し得る加熱方法が
いずれも採用可能であるが、高周波誘導加熱とするのが
最も好ましい。
このような本発明の方法は、特に大型の板状セラミック
スの接合にも極めて有効であるが、その場合には、例え
ば第6図に示す如く、活性金属層2及びこれを被覆する
ろう材組成の層5を形成させたセラミックス部材1を金
属等の相手方部材14に当接し、接合面と反対の側から
高周波コイル12を有する鉄芯15を用いて加熱し、接
合を行なうことができる。この鉄芯15は円盤形状であ
って、中央部の一方には円形の凸部16が設けられてお
り、前記コイル12は凸部16と同心的に巻回配置され
ている。セラミックス部材1と相手方部材14とを接合
するには、まず両部材を当接した後、鉄芯15を図の如
くその凸部16がセラミックス部材1と接する様に配置
する。そして鉄芯15のコイル12に通電しろう材組成
の層5を加熱・溶融して接合する。この場合、活性金属
の酸化をより確実に防止するためにノズル13等により
アルゴンガスG等の不活性ガスでシールドするのが好ま
しい。
スの接合にも極めて有効であるが、その場合には、例え
ば第6図に示す如く、活性金属層2及びこれを被覆する
ろう材組成の層5を形成させたセラミックス部材1を金
属等の相手方部材14に当接し、接合面と反対の側から
高周波コイル12を有する鉄芯15を用いて加熱し、接
合を行なうことができる。この鉄芯15は円盤形状であ
って、中央部の一方には円形の凸部16が設けられてお
り、前記コイル12は凸部16と同心的に巻回配置され
ている。セラミックス部材1と相手方部材14とを接合
するには、まず両部材を当接した後、鉄芯15を図の如
くその凸部16がセラミックス部材1と接する様に配置
する。そして鉄芯15のコイル12に通電しろう材組成
の層5を加熱・溶融して接合する。この場合、活性金属
の酸化をより確実に防止するためにノズル13等により
アルゴンガスG等の不活性ガスでシールドするのが好ま
しい。
なお、第6図においては、活性金属層をろう材組成の層
で被覆したセラミックス部材を用いた場合について示し
たが、活性金属層をろう柱以外の金属層で被覆したセラ
ミックス部材の場合においても、セラミックス部材と相
手方部材との間にろう材等の接合材を介在させて、同様
な手法により容易に接合を行なうことができる。
で被覆したセラミックス部材を用いた場合について示し
たが、活性金属層をろう柱以外の金属層で被覆したセラ
ミックス部材の場合においても、セラミックス部材と相
手方部材との間にろう材等の接合材を介在させて、同様
な手法により容易に接合を行なうことができる。
以下に本発明を実施例によシ更に具体的に説明するが、
本発明はその要旨を越えない限ル、以下の実施例に限定
されるものではない。
本発明はその要旨を越えない限ル、以下の実施例に限定
されるものではない。
実施例1
市販のジルコニア板(組成: ZrO,−3mo#%Y
、03.大きす: 30mX 30mgX 10FJ
)を本発明方法によJ) CrMo鋼板に接合した。
、03.大きす: 30mX 30mgX 10FJ
)を本発明方法によJ) CrMo鋼板に接合した。
上記ジルコニア板を表面粗度ISに仕上げた後、洗浄し
、接合面(30+usX30順の面)に5μm厚のTi
層を蒸着した。しかる後、Ti層を全て覆うように10
μm厚のAg層を蒸着した。このようにして11層及び
Ag層を形成させたジルコニア板の接合面とCrMo鋼
板との間に厚さ0.1露の銀ろうシートを介在させて、
第6図に示す方法で大気中にてArシールドをしながら
900°Cに高周波誘導加熱して両者を接合した。
、接合面(30+usX30順の面)に5μm厚のTi
層を蒸着した。しかる後、Ti層を全て覆うように10
μm厚のAg層を蒸着した。このようにして11層及び
Ag層を形成させたジルコニア板の接合面とCrMo鋼
板との間に厚さ0.1露の銀ろうシートを介在させて、
第6図に示す方法で大気中にてArシールドをしながら
900°Cに高周波誘導加熱して両者を接合した。
ナオ用イタ銀ろうはBAg4(Ag 30ωt、% C
u −固に接合された。
u −固に接合された。
実施例2
実施例1と同じジルコニア板の接合面上に厚さ5μmの
Ti層を蒸着し、さらに上記BAg4組成の銀ろうシー
トをこのTi層の上に圧着した。
Ti層を蒸着し、さらに上記BAg4組成の銀ろうシー
トをこのTi層の上に圧着した。
このジルコニア板とCrMo鋼板とを実施例1と同様の
方法によって接合したところ極めて強固に接合された。
方法によって接合したところ極めて強固に接合された。
比較例I
Ti層上にAg層を被覆させなかった以外は実施例1と
同様にして接合処理を行なったが、ジルコニア板とCr
Mo鋼板とは接合されなかった。
同様にして接合処理を行なったが、ジルコニア板とCr
Mo鋼板とは接合されなかった。
比較例2
2と同様にして接合処理を行なった。
その結果ジルコニア板とCrMo鋼板とは接合されたが
、その強度は実施例2よりも遥かに低かった。
、その強度は実施例2よりも遥かに低かった。
以上詳述した如く、本発明はセラミックス部材に活性金
属層とこれを被覆する非活性金属層を形成するものであ
シ、セラミックス部材とろう材とのぬれ性を改良すると
いう活性金属の特徴を生かすと共に、この活性金属の酸
化を防止するようにしたものであり、極めて強固なセラ
ミックスの接合を、厳密な雰囲気コントロールをするこ
となく、大気中で容易に実施することができる。従って
、超大型部材同志の接合が可能でアシ、また屋外での接
合も可能であシ、接合の作業性が極めて良好である。
属層とこれを被覆する非活性金属層を形成するものであ
シ、セラミックス部材とろう材とのぬれ性を改良すると
いう活性金属の特徴を生かすと共に、この活性金属の酸
化を防止するようにしたものであり、極めて強固なセラ
ミックスの接合を、厳密な雰囲気コントロールをするこ
となく、大気中で容易に実施することができる。従って
、超大型部材同志の接合が可能でアシ、また屋外での接
合も可能であシ、接合の作業性が極めて良好である。
第1図ないし第3図は本発明の接合用セラミックス部材
の実施例を示す断面図、第4図及び第5図は本発明によ
りセラミックス部材同志を接合する方法を説明する断面
図、第6図は本発明により板状セラミックスを相手方部
材に接合する方法を説明する断面図である。 1・・・セラミックス部材、2・・・活性金属層、3・
・・非活性金属層、 4・・・接合材、5・・・ろう材
組成層、 12・・・高周波コイル、13・・・ノズル
、 14・・・相手方部材。 代理人 弁理士 重 野 剛 第1図 第2図 第3図 第4図 第6図
の実施例を示す断面図、第4図及び第5図は本発明によ
りセラミックス部材同志を接合する方法を説明する断面
図、第6図は本発明により板状セラミックスを相手方部
材に接合する方法を説明する断面図である。 1・・・セラミックス部材、2・・・活性金属層、3・
・・非活性金属層、 4・・・接合材、5・・・ろう材
組成層、 12・・・高周波コイル、13・・・ノズル
、 14・・・相手方部材。 代理人 弁理士 重 野 剛 第1図 第2図 第3図 第4図 第6図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (り セラミックス部材の接合予定面に、活性金属の層
と該活性金属層を被覆する非活性金属層とを設けてなる
接合用セラミックス部材。 (2) 前記非活性金属は、貴金属又は貴金属の合金で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の接
合用セラミックス部材。 (3) 前記非活性金属は、ろう材組成の合金であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の接合用セ
ラミックス部材。 (4) セラミックス部材を相手方部材に接合する方法
において、セラミックス部材の接合予定面に活性金屑の
層と該活性金属層を被覆する非活性金属の層とを形成し
た後、接合材を介して相手方部材と当接し、加熱して該
接合部材を溶融して接合するようにしたことを特徴とす
るセラミックス部材の接合方法。 (5)前記非活性金属は貴金属又は貴金属の合金であシ
、前記接合材はろう材であることを特徴とする特許請求
の範囲第4項に記載の接合方法。 (6)前記非活性金属は貴金属又は貴金属の合金であシ
、前記接合材は該貴金属又は貴金属の合金と融合してろ
う材組成となる成分の金属又は合金であることを特徴と
する特許請求の範囲第4項に記載の接合方法。 (7) セラミックス部材を相手方部材に接合する方法
において、セラミックス部材の接合予定面に活性金属の
層と、該活性金属層を被覆するろう材組成の層とを形成
した後、相手方部材と当接し加熱して該ろう材組成の層
を溶融して接合するようにしたことを特徴とするセラミ
ックス部材の接合方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20054083A JPS6096583A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 接合用セラミツクス部材及びその接合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20054083A JPS6096583A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 接合用セラミツクス部材及びその接合方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6096583A true JPS6096583A (ja) | 1985-05-30 |
Family
ID=16426001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20054083A Pending JPS6096583A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | 接合用セラミツクス部材及びその接合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6096583A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0283274A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-23 | Showa Aircraft Ind Co Ltd | 接合方法 |
| CN114634369A (zh) * | 2020-12-15 | 2022-06-17 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种可在高温氧化和还原气氛下长期使用的陶瓷密封方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS573773A (en) * | 1980-06-11 | 1982-01-09 | Hitachi Ltd | Manufacture of ceramic sealed structure |
-
1983
- 1983-10-26 JP JP20054083A patent/JPS6096583A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS573773A (en) * | 1980-06-11 | 1982-01-09 | Hitachi Ltd | Manufacture of ceramic sealed structure |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0283274A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-23 | Showa Aircraft Ind Co Ltd | 接合方法 |
| CN114634369A (zh) * | 2020-12-15 | 2022-06-17 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种可在高温氧化和还原气氛下长期使用的陶瓷密封方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5734272B2 (ja) | Niをベースとするろうからなる少なくとも1つの第1の層と活性な元素を含む少なくとも1つの第2の層とを備える複ろう部材、該複ろう部材を製造する方法及び該複ろう部材の使用 | |
| US4763828A (en) | Method for bonding ceramics and metals | |
| JPH0729856B2 (ja) | ろうの製造法 | |
| JPS59232979A (ja) | セラミツクとアルミニウム合金の複合体 | |
| JPS60131874A (ja) | セラミツクと金属との接合方法 | |
| US3793705A (en) | Process for brazing a magnetic ceramic member to a metal member | |
| JPH04228480A (ja) | 高温安定性複合体及びその製法 | |
| JP4367677B2 (ja) | スパッタリング用ターゲット及びその製造方法 | |
| JPS6081071A (ja) | セラミツクス接合用金属シ−ト材 | |
| JPS60141681A (ja) | 接合用セラミツクス部材及びその接合方法 | |
| JPS6096583A (ja) | 接合用セラミツクス部材及びその接合方法 | |
| JPH0729859B2 (ja) | セラミツクス−金属接合部材 | |
| JPS59232692A (ja) | セラミツクと金属等との接合用ろう材及びこれを用いたセラミツクと金属等の複合体 | |
| JP4331370B2 (ja) | ベリリウムと銅合金のhip接合体の製造方法およびhip接合体 | |
| JPH0492871A (ja) | セラミックス―金属接合体及びその製造方法 | |
| JPH04304369A (ja) | クロム−珪素酸化物系ターゲット材 | |
| JPH06239668A (ja) | 接合用ロウ材料及びその製造方法 | |
| JP2000117427A (ja) | スパッタリング用ターゲット板の接合方法 | |
| JPH0243704B2 (ja) | Seramitsukusutokinzokutonosetsugohoho | |
| JPS59174584A (ja) | セラミツクスと金属の接合方法 | |
| JPH01179769A (ja) | セラミックス材と金属材との接合方法 | |
| JPS62265186A (ja) | 部材接合用中間層 | |
| JPS6197175A (ja) | 非酸化物セラミツクスと金属の接合体およびその接合法 | |
| JPS6081069A (ja) | ΖrO↓2系セラミツクスの接合方法 | |
| JPS629554B2 (ja) |