JPS6097982A - セフエム誘導体、その製法および医薬組成物 - Google Patents
セフエム誘導体、その製法および医薬組成物Info
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- JPS6097982A JPS6097982A JP59211207A JP21120784A JPS6097982A JP S6097982 A JPS6097982 A JP S6097982A JP 59211207 A JP59211207 A JP 59211207A JP 21120784 A JP21120784 A JP 21120784A JP S6097982 A JPS6097982 A JP S6097982A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
- C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
- C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
- C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
- C07D501/38—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
- C07D501/46—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なセファロスポリン誘導体およびその製造
方法に関する。更に詳細には、本発明はセフェム環の6
位が四級アンモニオ基で置換された極性セフェム誘導体
に関する。該誘導体はグラム陽性およびグラム陰性菌に
対して極めてすぐれた抗菌作用全有する。従って、細菌
感染症の治療薬として好適である。
方法に関する。更に詳細には、本発明はセフェム環の6
位が四級アンモニオ基で置換された極性セフェム誘導体
に関する。該誘導体はグラム陽性およびグラム陰性菌に
対して極めてすぐれた抗菌作用全有する。従って、細菌
感染症の治療薬として好適である。
本発明は一般式1で示されるセフェム誘導体およびその
生理学的に受容できる酸付加塩を提供する。
生理学的に受容できる酸付加塩を提供する。
Rモ水素、置換またに非置換c1(6−アルキル、置換
または非置換C2−C6−アルケニル、C2c6−アル
キニル、C3c7−シクロアルキル、会う一シクロアル
キルー01−4:16アルキル、 C4−C7シクロア
ルケニルまたは基 4 (ここで、mおよびnは各々0または1を示す;R4お
よびR5,は同一であ/)か、または異なり、水素、ア
リールまたはC,−C,−アルキル基會示すか、または
、R4およびR5が結合している炭素原子と共にメチレ
ンまたはC3−C7−シクロアルキリデン基を形成し、
そして、該C1−C4−アルキル基およびC3−C7−
シクロアルキリデン基は更にモノ置換あるいはポリ置換
されていてもよい;R6は−C0OHj CNまたは−
CONH2基を示す。)を示す: R3111,水素またはハロゲン葡示す;Aは式−ON
″;で示される非置換または置換5〜6員の芳香族複素
環カチオン(成環は環中にN。
または非置換C2−C6−アルケニル、C2c6−アル
キニル、C3c7−シクロアルキル、会う一シクロアル
キルー01−4:16アルキル、 C4−C7シクロア
ルケニルまたは基 4 (ここで、mおよびnは各々0または1を示す;R4お
よびR5,は同一であ/)か、または異なり、水素、ア
リールまたはC,−C,−アルキル基會示すか、または
、R4およびR5が結合している炭素原子と共にメチレ
ンまたはC3−C7−シクロアルキリデン基を形成し、
そして、該C1−C4−アルキル基およびC3−C7−
シクロアルキリデン基は更にモノ置換あるいはポリ置換
されていてもよい;R6は−C0OHj CNまたは−
CONH2基を示す。)を示す: R3111,水素またはハロゲン葡示す;Aは式−ON
″;で示される非置換または置換5〜6員の芳香族複素
環カチオン(成環は環中にN。
0またはS原子全史に含有することができ、また、成環
は別の環に縮合することもできる。ただし、ピリジノお
よびその縮合系には縮合できない。)を示す; R20基はシン位にある。〕 本発明は特に下記の化合物に関する。すなわちRおよび
R1が前記の意味?有し、 R2は水素原子、C1−C6−アルキル基(ハロゲン原
子、C1−C6−アルコキシ基、アリール基またはへテ
ロアリール基によってモノ置換またはポリ置換されてい
てもよい)を意味するか、または02〜C6−アルケニ
ル基(ハロゲン原子によってモノ置換またはポリ置換さ
れていてもよい)を意味すルカ、t fC4”t C2
−C3−7ル* 二/l/基、C3(6−シクロアルキ
ル基、C3−C6−シクロアルキル−C1〜C6−アル
キル基、C4−C7−シクロアルケニル基または、基 4 (式中、m 、 n 、R’、 R5およびR6は前記
の意味を有する。)を意味する;そして、 AV:c弐への複素環式カチオン、例えば、1.2.3
− )リアゾリオまたは1.2.4−トリアゾリオ(こ
れらはC1−C4−アルキルで置換されていてもよい)
;イミダゾリオ、ピロリオ、イントリオまたはピラゾリ
オ(これらは場合によりC1−C4アルキルで置換され
ている);ピリミジニオ(これは場合にエリアミノまた
はハロゲンによジ置換されている);ピリダシニオまた
はビラジニオ(これらは場合にニジハロゲンまたはC1
−C4アルキルで置換されうる。′fた、オルト位に位
置する2個のアルキル基は互いに結合して、随意に置換
されたジメチレノーヘプタメチレン環全形成すゐことも
できる):チアゾリオ9インチアゾリオ、またはオキサ
ジノオ(これらはヒドロキシ−C,−C4−アルキルお
よび/ ’E 7’c it、 C1−C4−アルキル
で置換することもできる);または、フタラジニオ、キ
ナシリニオ、キノキサリニオ若しくはキノリニオを意味
する; R20基は一般式Iで示される好ましい化合物において
シン位置に配置されている。
は別の環に縮合することもできる。ただし、ピリジノお
よびその縮合系には縮合できない。)を示す; R20基はシン位にある。〕 本発明は特に下記の化合物に関する。すなわちRおよび
R1が前記の意味?有し、 R2は水素原子、C1−C6−アルキル基(ハロゲン原
子、C1−C6−アルコキシ基、アリール基またはへテ
ロアリール基によってモノ置換またはポリ置換されてい
てもよい)を意味するか、または02〜C6−アルケニ
ル基(ハロゲン原子によってモノ置換またはポリ置換さ
れていてもよい)を意味すルカ、t fC4”t C2
−C3−7ル* 二/l/基、C3(6−シクロアルキ
ル基、C3−C6−シクロアルキル−C1〜C6−アル
キル基、C4−C7−シクロアルケニル基または、基 4 (式中、m 、 n 、R’、 R5およびR6は前記
の意味を有する。)を意味する;そして、 AV:c弐への複素環式カチオン、例えば、1.2.3
− )リアゾリオまたは1.2.4−トリアゾリオ(こ
れらはC1−C4−アルキルで置換されていてもよい)
;イミダゾリオ、ピロリオ、イントリオまたはピラゾリ
オ(これらは場合によりC1−C4アルキルで置換され
ている);ピリミジニオ(これは場合にエリアミノまた
はハロゲンによジ置換されている);ピリダシニオまた
はビラジニオ(これらは場合にニジハロゲンまたはC1
−C4アルキルで置換されうる。′fた、オルト位に位
置する2個のアルキル基は互いに結合して、随意に置換
されたジメチレノーヘプタメチレン環全形成すゐことも
できる):チアゾリオ9インチアゾリオ、またはオキサ
ジノオ(これらはヒドロキシ−C,−C4−アルキルお
よび/ ’E 7’c it、 C1−C4−アルキル
で置換することもできる);または、フタラジニオ、キ
ナシリニオ、キノキサリニオ若しくはキノリニオを意味
する; R20基は一般式Iで示される好ましい化合物において
シン位置に配置されている。
特に好ましい置換基の具体例は次のとうりである。
R1:水素またはメトキシ;
R:水素、フッ素、塩素または臭素;
R2:水素原子;C1−C6−アルキル基、たとえばメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基および
ブチル基、好ましくはメチル基およびエチル基;C1−
C2−ハロゲノアルキル基、たとえば塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子″またはフッ素原子に↓V置換されたア
ルキル基、好ましくはトリフルオルエチル基、ジフルオ
ルメチル基および2,2,3.3−テトラフルオルプロ
ピル基;C1−C2−アルコキシで置換されたC1−C
2−アルキル、例えば、エトキシエチル;C1−C2−
アルキルメルカプト−01−C2−アルキル、例えば、
メチルメルカプトメチル;アリールによジ置換されたア
ルキル、例えばフェニル基、トリル基およびクロルフェ
ニル基により置換されたアルキル基、特にベンジル基;
ヘテロアリール基により置換されたアルキル基、fcと
えば1,3−チアゾール−4−イル置換アルキル基、特
に1,3−チアゾール−4−イル−メチル基; C2−C6−アルケニル基、たとえはビニル基、アリル
基、イソプロペニル基およびメタリル基、特にアリル基
およびメタリル基:ハロゲン原子、たとえば塩素原子ま
たは臭素原子により置換されたC2−C,−アルケニル
基、特に3−クロルプロペン−2−イル基、2−プーム
プロペン−2−イル基、お↓び2−クロルプロペン−2
−イル基: C2〜C3−アルキニル基、特にプロパルギル基;C3
−C7−シクロアルキル基、特にシクロプロピル基、シ
クロブチル基お工びシクロペンチル基I C3−C7−シクロアルキル−C1−C6−アルキル基
、特にシクロプロピルメチル基およびシクロブチルメチ
ル基; C4−C7−シクロアルケニル基、特にシクロペンテン
−1−イル基、まfCは 4 (ここで、R6は基−COOH,−CN’iたは−CO
NH2を示す;R4およびR5は同一であゐ〃)、若し
くは異なり、そして、水素原子、アリール基、好ましく
はフェニル基;または01り、−アルキル基、たとえば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基もしくは5ec−ブチル基、好ましくはメチル基
もしくはエチル基、特にメチル基金意味し、あゐいは R4とR5がそれらの結合している炭素原子と一緒にメ
チレン基またはC3−C7−シクロアルキリデン基、た
とえばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基もしくはシクロヘプチル基、
好ましくはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロ
ペンチル基もしくはシクロヘキシル基を形成してもよく
、シクロアルキリデン基はたとえばC1−C,アルキル
基(好ましくはメチル基)により1またはハロゲン原子
(好ましくはフッ素原子および塩素原子)により置換さ
れていてもよく、 m = 0まfcは1であり、そして n=0’JfCFi1であり、mとnの合計は1または
2である。)會示す。
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基および
ブチル基、好ましくはメチル基およびエチル基;C1−
C2−ハロゲノアルキル基、たとえば塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子″またはフッ素原子に↓V置換されたア
ルキル基、好ましくはトリフルオルエチル基、ジフルオ
ルメチル基および2,2,3.3−テトラフルオルプロ
ピル基;C1−C2−アルコキシで置換されたC1−C
2−アルキル、例えば、エトキシエチル;C1−C2−
アルキルメルカプト−01−C2−アルキル、例えば、
メチルメルカプトメチル;アリールによジ置換されたア
ルキル、例えばフェニル基、トリル基およびクロルフェ
ニル基により置換されたアルキル基、特にベンジル基;
ヘテロアリール基により置換されたアルキル基、fcと
えば1,3−チアゾール−4−イル置換アルキル基、特
に1,3−チアゾール−4−イル−メチル基; C2−C6−アルケニル基、たとえはビニル基、アリル
基、イソプロペニル基およびメタリル基、特にアリル基
およびメタリル基:ハロゲン原子、たとえば塩素原子ま
たは臭素原子により置換されたC2−C,−アルケニル
基、特に3−クロルプロペン−2−イル基、2−プーム
プロペン−2−イル基、お↓び2−クロルプロペン−2
−イル基: C2〜C3−アルキニル基、特にプロパルギル基;C3
−C7−シクロアルキル基、特にシクロプロピル基、シ
クロブチル基お工びシクロペンチル基I C3−C7−シクロアルキル−C1−C6−アルキル基
、特にシクロプロピルメチル基およびシクロブチルメチ
ル基; C4−C7−シクロアルケニル基、特にシクロペンテン
−1−イル基、まfCは 4 (ここで、R6は基−COOH,−CN’iたは−CO
NH2を示す;R4およびR5は同一であゐ〃)、若し
くは異なり、そして、水素原子、アリール基、好ましく
はフェニル基;または01り、−アルキル基、たとえば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基もしくは5ec−ブチル基、好ましくはメチル基
もしくはエチル基、特にメチル基金意味し、あゐいは R4とR5がそれらの結合している炭素原子と一緒にメ
チレン基またはC3−C7−シクロアルキリデン基、た
とえばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基もしくはシクロヘプチル基、
好ましくはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロ
ペンチル基もしくはシクロヘキシル基を形成してもよく
、シクロアルキリデン基はたとえばC1−C,アルキル
基(好ましくはメチル基)により1またはハロゲン原子
(好ましくはフッ素原子および塩素原子)により置換さ
れていてもよく、 m = 0まfcは1であり、そして n=0’JfCFi1であり、mとnの合計は1または
2である。)會示す。
下記のものである。
n = 0およびm=1である場合ニ
ーとH(CH3)、−とtCH3)2.−さH(C6H
5Lm = 0およびn = 1であ、6楊合: −C
H2−; ”*た、nおよびm = 1である場合、−
CH−C(=CH2)−である。
5Lm = 0およびn = 1であ、6楊合: −C
H2−; ”*た、nおよびm = 1である場合、−
CH−C(=CH2)−である。
Aは式−■〇の複素環式カチオン、例えば、6−メチル
−1−(1,2,!l−トリアゾリオ)、2−メチル−
1−(1,2,3−トリアゾリオ)、4−メチル−1−
(1,2,4−)リアゾリオ)、6−メチル−1−(1
,3,4−トリアゾリオ)、6−メチル−1−イミダゾ
リオ、1−メテルビロリオ、2−アミノ−1−ピリミジ
ニオ、3−メチル−1−ピリミジニオ、2−ヒドロキシ
エチル−1−ビラゾリオ、2−メチルー1−ビラゾリオ
、1−ピリダシニオ、3−メチル−1−ピリダシニオ、
ビラジニオ、2,5−ジメチル−1−ピラジニオ、チア
ゾリオ、4−メチルチアゾリオ、イソチアゾリオ。
−1−(1,2,!l−トリアゾリオ)、2−メチル−
1−(1,2,3−トリアゾリオ)、4−メチル−1−
(1,2,4−)リアゾリオ)、6−メチル−1−(1
,3,4−トリアゾリオ)、6−メチル−1−イミダゾ
リオ、1−メテルビロリオ、2−アミノ−1−ピリミジ
ニオ、3−メチル−1−ピリミジニオ、2−ヒドロキシ
エチル−1−ビラゾリオ、2−メチルー1−ビラゾリオ
、1−ピリダシニオ、3−メチル−1−ピリダシニオ、
ビラジニオ、2,5−ジメチル−1−ピラジニオ、チア
ゾリオ、4−メチルチアゾリオ、イソチアゾリオ。
フタラジニオ、 5,6,7.8−テトラヒドロフタラ
ジーニオ、 3.4− トリメチレンピリダシニオ、4
.5−トリメチレンピリダシニオ、キノリニオ、 5,
6.7゜8−テトラヒドロキノリニオ、キナシリニオ、
5゜6.7.8−テトラヒドロキナシリニオ、キナシリ
ニオ、 5,6.7.8−テトラヒドロキ キサリニオ
まfCt’iN−メチルイントリオである。
ジーニオ、 3.4− トリメチレンピリダシニオ、4
.5−トリメチレンピリダシニオ、キノリニオ、 5,
6.7゜8−テトラヒドロキノリニオ、キナシリニオ、
5゜6.7.8−テトラヒドロキナシリニオ、キナシリ
ニオ、 5,6.7.8−テトラヒドロキ キサリニオ
まfCt’iN−メチルイントリオである。
本発明による一般式Iの化合物の製造方法において、
(a) 一般式IIの化合物またはその塩1
(式中、R1、B2およびR3は式1で定義したとうり
のものであゐ;R7は式1の基Aに対応する塩基で置換
できる基會示す。)をこの塩基と反応させ、そして (イ)保護基が存在すれば、保護基全除去し;そして、 (ロ)所望により、得られた生成物を生理学的に受容で
きる酸付加塩に転化する; または、 (b) 一般式IIIの化合物 (式中、R1およびR7は一般式IIで定義したとうり
のものであゐ;R8は水素またはアミノ保護基を示す。
のものであゐ;R7は式1の基Aに対応する塩基で置換
できる基會示す。)をこの塩基と反応させ、そして (イ)保護基が存在すれば、保護基全除去し;そして、 (ロ)所望により、得られた生成物を生理学的に受容で
きる酸付加塩に転化する; または、 (b) 一般式IIIの化合物 (式中、R1およびR7は一般式IIで定義したとうり
のものであゐ;R8は水素またはアミノ保護基を示す。
)を式1で定義された基Aに対応する塩基と反応させ一
般弐■で示される化合物 p、1 (式中、R1、R8お工びAは前記のとうりの意味全有
する。)全生成し、そして、 (+) アミン保護基が存在すれば該保睦基葡除去し、
そして、 (11)式■の化合物(式中 R8は水素を示す。)を
そのままの形で、または、反応性誘導体の形で、一般式
Vの2−シン−オキシイミノ酢酸(式中、R2およびR
3it前記の意味を有する)またはアルボニル基が活性
化されたこの化合物の誘導体と反応させ、そして (イ)保護基が存在すれば保護基を除去し、そして、 (ロ)所望によジ、得られた一般式Iの生成物全生理学
的に受答できる酸付加塩に転化する。
般弐■で示される化合物 p、1 (式中、R1、R8お工びAは前記のとうりの意味全有
する。)全生成し、そして、 (+) アミン保護基が存在すれば該保睦基葡除去し、
そして、 (11)式■の化合物(式中 R8は水素を示す。)を
そのままの形で、または、反応性誘導体の形で、一般式
Vの2−シン−オキシイミノ酢酸(式中、R2およびR
3it前記の意味を有する)またはアルボニル基が活性
化されたこの化合物の誘導体と反応させ、そして (イ)保護基が存在すれば保護基を除去し、そして、 (ロ)所望によジ、得られた一般式Iの生成物全生理学
的に受答できる酸付加塩に転化する。
一般式IIの化合物中のRと一般式Iで定義された基A
に対応丁心塩基との核置換により一般式1の化合物を製
造ずゐ場合、1木としては例えは、低級脂肪族カルボン
酸(好ましくはC1−(R4)のアシルオキシ基、例え
ば、アセトキシまたはプロピオニルオキシ、特にアセト
キシなどがあげられる。これらの基は置換されていても
よい。例えば、クロロアセトキシまたはアセチルアセト
キシなどである。R7として好適なその他の基は例えば
、ハロゲン(特に、塩素、臭素またはヨウ素)またはカ
ルバモイルオキシなどである。
に対応丁心塩基との核置換により一般式1の化合物を製
造ずゐ場合、1木としては例えは、低級脂肪族カルボン
酸(好ましくはC1−(R4)のアシルオキシ基、例え
ば、アセトキシまたはプロピオニルオキシ、特にアセト
キシなどがあげられる。これらの基は置換されていても
よい。例えば、クロロアセトキシまたはアセチルアセト
キシなどである。R7として好適なその他の基は例えば
、ハロゲン(特に、塩素、臭素またはヨウ素)またはカ
ルバモイルオキシなどである。
本発明によれば、一般式IIの出発化合物(式中、R7
はアセトキシである)、またはその塩(例えば、ナトリ
ウムまたはカリウム塩)が核置換反応で段・用されゐ。
はアセトキシである)、またはその塩(例えば、ナトリ
ウムまたはカリウム塩)が核置換反応で段・用されゐ。
この反応は溶剤中で、好ましくは水中で、t−たは水と
水射混和性有機溶剤(例えば、アセトン、ジオキサン、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシドまたはエタノール)の混合物中で行なわれる。
水射混和性有機溶剤(例えば、アセトン、ジオキサン、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシドまたはエタノール)の混合物中で行なわれる。
反応温度は一般的に約り0℃〜約100℃、好筐しくは
2゜〜80℃の範囲内である。塩基成分は均等モル量〜
約15倍過剰量の範囲内の址で添加される。基R7の置
換は反応混合物中に中性塩のイオンを存在させゐことに
よって促進される。特に、約10〜約80当量のヨウ化
カリウム、チオシアン酸カリウムまたはチオシアン酸ナ
トリウムを添加する。
2゜〜80℃の範囲内である。塩基成分は均等モル量〜
約15倍過剰量の範囲内の址で添加される。基R7の置
換は反応混合物中に中性塩のイオンを存在させゐことに
よって促進される。特に、約10〜約80当量のヨウ化
カリウム、チオシアン酸カリウムまたはチオシアン酸ナ
トリウムを添加する。
この反応は中性点の区域、好ましくは、約5〜8の範囲
内のpHで都合よく行なわれる。一般式■の出発化合物
中に保護されたアミノ基が存在する場合、好適なアミン
保換基は例えば、随意に置換されたアルキル(例えは、
t−ブチル、t−アミル、べ/ジル、p−メトキシベン
ジル、トリチルおよびベンズヒドリル、好ましくはトリ
チル);トリプルキルシリル(例えば、トリメチルシリ
ル);随意に置換された脂肪族アシル(例えば、ホルミ
ル、クロロアセチル、ブロモアセチル、トリクロロアセ
チルおよびトリフルオロアセチル、好ましくはホルミル
):随意に置換されたアルコキシカルボニル(例えば、
トリクロロエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボ
ニルまたはt−ブトキシカルボニル、好ましくは、t−
ブトキシカルボニルおよびベンジルオキシカルボニル)
:1り4dジメチルアミノメチレンなどである。保護基
は文献上公知であり、また、一般的に、OHおよびC0
OH基の保護にも使用できる。置換反応終了後、保護基
は公知の方法により脱離させることができる。例えば、
トリチル基は酢酸、トリフルオロ酢酸または蟻酸のよう
なカルボン酸により、また、ベンジルオキシカルボニル
基は水添分解により脱離させることができる。
内のpHで都合よく行なわれる。一般式■の出発化合物
中に保護されたアミノ基が存在する場合、好適なアミン
保換基は例えば、随意に置換されたアルキル(例えは、
t−ブチル、t−アミル、べ/ジル、p−メトキシベン
ジル、トリチルおよびベンズヒドリル、好ましくはトリ
チル);トリプルキルシリル(例えば、トリメチルシリ
ル);随意に置換された脂肪族アシル(例えば、ホルミ
ル、クロロアセチル、ブロモアセチル、トリクロロアセ
チルおよびトリフルオロアセチル、好ましくはホルミル
):随意に置換されたアルコキシカルボニル(例えば、
トリクロロエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボ
ニルまたはt−ブトキシカルボニル、好ましくは、t−
ブトキシカルボニルおよびベンジルオキシカルボニル)
:1り4dジメチルアミノメチレンなどである。保護基
は文献上公知であり、また、一般的に、OHおよびC0
OH基の保護にも使用できる。置換反応終了後、保護基
は公知の方法により脱離させることができる。例えば、
トリチル基は酢酸、トリフルオロ酢酸または蟻酸のよう
なカルボン酸により、また、ベンジルオキシカルボニル
基は水添分解により脱離させることができる。
一般式Iの反応生成物は例えは、水相の凍結乾燥により
、クロマトグラフィーによす、または、ヨウ化水素酸塩
あるいはヒドロチオシアン酸塩のような難溶性塩としで
沈殿させろことによって、常法により反応混合物から単
離でき心、一般式■の化合物の核置換反応は次のような
方法によっても実施できる。即ち、置換反応を基Aに対
応′j/)塩基の存在下で、ならびに、トリメチルヨー
ドシランマタハトリエチルヨードシランのようなトリー
〇〇〜C4−アルキルヨードシランの存在下でおこさせ
心。この方法は、式■の化合物を最初に下記に述べ/)
、Cりな反応条件下でトリメチルヨードシランと反応さ
せ、そして、生成した式■の化合物(式中、R7は工で
ある)奮単離し、次いで、塩基と反応させ7)η為、ま
たは塩基?添加することによってその場で3−CH2I
化合物全反応させるLつな態様で実施でき小。好ましい
実施態様は西独特許出願第5.516,796.6、同
第3,316,797.4および同第3,316,79
8゜2号明細書に開示されている。この実施態様は基A
に対応する塩基を式■の化合物の適当な溶剤中の溶液ま
たは懸濁液に添加し、続いて、トリメチルヨードシラン
全添加することからなる。トリメチルヨードシランの代
わりにたとえばヨウ素およびヘキサメチルジシランの混
合物を用いることもでき、これをまず約60〜120℃
の温度で文献により既知の方法で反応させると、トリメ
チルヨードシランが生成する。トリメチルヨードシラン
の代わりに、文献により既知の方法で製造されたトリメ
チルヨードシランケ用いることによっても同様に良好な
結果が得られる。
、クロマトグラフィーによす、または、ヨウ化水素酸塩
あるいはヒドロチオシアン酸塩のような難溶性塩としで
沈殿させろことによって、常法により反応混合物から単
離でき心、一般式■の化合物の核置換反応は次のような
方法によっても実施できる。即ち、置換反応を基Aに対
応′j/)塩基の存在下で、ならびに、トリメチルヨー
ドシランマタハトリエチルヨードシランのようなトリー
〇〇〜C4−アルキルヨードシランの存在下でおこさせ
心。この方法は、式■の化合物を最初に下記に述べ/)
、Cりな反応条件下でトリメチルヨードシランと反応さ
せ、そして、生成した式■の化合物(式中、R7は工で
ある)奮単離し、次いで、塩基と反応させ7)η為、ま
たは塩基?添加することによってその場で3−CH2I
化合物全反応させるLつな態様で実施でき小。好ましい
実施態様は西独特許出願第5.516,796.6、同
第3,316,797.4および同第3,316,79
8゜2号明細書に開示されている。この実施態様は基A
に対応する塩基を式■の化合物の適当な溶剤中の溶液ま
たは懸濁液に添加し、続いて、トリメチルヨードシラン
全添加することからなる。トリメチルヨードシランの代
わりにたとえばヨウ素およびヘキサメチルジシランの混
合物を用いることもでき、これをまず約60〜120℃
の温度で文献により既知の方法で反応させると、トリメ
チルヨードシランが生成する。トリメチルヨードシラン
の代わりに、文献により既知の方法で製造されたトリメ
チルヨードシランケ用いることによっても同様に良好な
結果が得られる。
上記の反応は約−5〜+100℃、好ましくは+10〜
+80℃の温度で行われる。
+80℃の温度で行われる。
適切な不活性な中性溶剤の例は塩素化炭化水素、たとえ
ば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン、トリ
クロルエタンおLび四塩化炭素;低級アルキル−ニトリ
ル、たとえはアセトニトリルまたはプロビナニトリル、
あるいは7レオン類であり、特に塩化メチレンが優れた
溶剤である。
ば塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン、トリ
クロルエタンおLび四塩化炭素;低級アルキル−ニトリ
ル、たとえはアセトニトリルまたはプロビナニトリル、
あるいは7レオン類であり、特に塩化メチレンが優れた
溶剤である。
基Aに対応する塩基は少なくとも化学量論的針から20
倍過剰までの量添加され、放出された量のヨウ化水素と
結合し、少なくとも1モル、好ましくは2〜5モルの塩
基が置換に用いられる蓋用いることが好筐しい。
倍過剰までの量添加され、放出された量のヨウ化水素と
結合し、少なくとも1モル、好ましくは2〜5モルの塩
基が置換に用いられる蓋用いることが好筐しい。
出発化合物■中の置換されるべき基R7のほかに、出発
化合物■における他の官能基、たとえばカルボキシル基
もトリメチルヨードシランと反応するので、トリメチル
ヨードシランを少なくとも2倍ないし15倍過剰に、好
ましくは3〜10倍過剰に添加する。
化合物■における他の官能基、たとえばカルボキシル基
もトリメチルヨードシランと反応するので、トリメチル
ヨードシランを少なくとも2倍ないし15倍過剰に、好
ましくは3〜10倍過剰に添加する。
この種の官能基をシリル化剤、たとえばビストリメチル
シリルアセトアミド、N−メチル−N−トリメチルシリ
ルトリフルオロアセトアミド、ビストリメチルシリルト
リフルオルアセトアミド、トリメチルクロロシラン、ヘ
キサメチルジシラザン(hexamethyl−dis
ilazane)またはビストリメチルシリル尿素の添
加に、Cり、上記量の塩基(好ましくは基Aの基礎とな
る希望する塩基)の不在下または存在下で予備シリル化
丁ゐこともできる。
シリルアセトアミド、N−メチル−N−トリメチルシリ
ルトリフルオロアセトアミド、ビストリメチルシリルト
リフルオルアセトアミド、トリメチルクロロシラン、ヘ
キサメチルジシラザン(hexamethyl−dis
ilazane)またはビストリメチルシリル尿素の添
加に、Cり、上記量の塩基(好ましくは基Aの基礎とな
る希望する塩基)の不在下または存在下で予備シリル化
丁ゐこともできる。
次いでトリメチルヨードシランを少なくとも化学量論的
針、または過剰に、好ましくは2〜10倍過剰に添加す
る。
針、または過剰に、好ましくは2〜10倍過剰に添加す
る。
式Iの反応生成物は常法により水相から単離できる。例
えに1水相を凍結乾燥することによって、または、クロ
マトグラフィーによって、あるい法水または希HCI
、HBr 、HI 1 fcはH2SO4(7)jうな
鉱酸水溶液を添加後、有機溶剤を添加することによって
単離できる。反応生成物は好ましくは、ヨウ化水素酸塩
のような難溶性塩の形で水相から沈殿させることによっ
て単離すゐ。
えに1水相を凍結乾燥することによって、または、クロ
マトグラフィーによって、あるい法水または希HCI
、HBr 、HI 1 fcはH2SO4(7)jうな
鉱酸水溶液を添加後、有機溶剤を添加することによって
単離できる。反応生成物は好ましくは、ヨウ化水素酸塩
のような難溶性塩の形で水相から沈殿させることによっ
て単離すゐ。
R7がカルバモイルオキシ基を示す場合、置換反応は同
様な方法で実施される。R7が臭素奮示す場合、置換反
応は文献に開示された公知の方法に工り実施される。
様な方法で実施される。R7が臭素奮示す場合、置換反
応は文献に開示された公知の方法に工り実施される。
前記の方法(b)によれば、一般式■の化合物は一般式
II[の化合物、例えば、7−7ミノセフアロスボラン
酸または6−フートメチルーア−アミノセフェ−6−エ
ム−カルボン酸またはその保護された反応性誘導体から
、式■の化合物について前に述べた方法と同様な方法に
より製造され心。
II[の化合物、例えば、7−7ミノセフアロスボラン
酸または6−フートメチルーア−アミノセフェ−6−エ
ム−カルボン酸またはその保護された反応性誘導体から
、式■の化合物について前に述べた方法と同様な方法に
より製造され心。
次イで一般式■の化合物を一般式■のカルボン酸によっ
てアシル化し、アミノ基保膜基R8、たとえばtert
、−ブチル基、ベンジル基、トリチル基、ベンゾヒドリ
ル基、ホルミル基、トリクロルアセチル基、トリフルオ
ルアセチル基、スルホ基またはジメチルアミノメチレン
基(置換反応の促進のために存在していてもよい)がま
ずそれ自体既知の方法で脱離される。
てアシル化し、アミノ基保膜基R8、たとえばtert
、−ブチル基、ベンジル基、トリチル基、ベンゾヒドリ
ル基、ホルミル基、トリクロルアセチル基、トリフルオ
ルアセチル基、スルホ基またはジメチルアミノメチレン
基(置換反応の促進のために存在していてもよい)がま
ずそれ自体既知の方法で脱離される。
一般式■のカルボン駿自体全アシル化剤として用いる場
合、反応は有利には縮合剤たとえばカルボジイミドたと
えばN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミドの存在
下で行われる1゜ 一般式■のカルボン酸?特に有利な方法で、特定のカル
ボン酸アミド、たとえばホスゲン、五塩化リン、塩化ト
シル、塩化トシル、塩化チオニルまたは塩化オキサリル
を用いて活性化′jゐことができる(ドイツ特許第2,
804,040号明細書見一般式Vのカルボン酸の特に
適切な活性化された誘導体はハロゲン化物、好1しくけ
塩化物でもある。これらはそれ自体既知の方法で、ハロ
ゲン化剤、たとえば五塩化リン、ホスゲン、または塩化
チオニルを用いて、セファロスポリンの化学に関する文
献から知られる緩和な条件下に処理することによって得
られる。
合、反応は有利には縮合剤たとえばカルボジイミドたと
えばN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミドの存在
下で行われる1゜ 一般式■のカルボン酸?特に有利な方法で、特定のカル
ボン酸アミド、たとえばホスゲン、五塩化リン、塩化ト
シル、塩化トシル、塩化チオニルまたは塩化オキサリル
を用いて活性化′jゐことができる(ドイツ特許第2,
804,040号明細書見一般式Vのカルボン酸の特に
適切な活性化された誘導体はハロゲン化物、好1しくけ
塩化物でもある。これらはそれ自体既知の方法で、ハロ
ゲン化剤、たとえば五塩化リン、ホスゲン、または塩化
チオニルを用いて、セファロスポリンの化学に関する文
献から知られる緩和な条件下に処理することによって得
られる。
一般式■のカルボン酸の他の適切な活性化された誘導体
は、無水物および混合無水物、アジドならびに活性化さ
れたエステルおよびチオエステル、好tL<UP−二ト
ロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、メチレン
シアノヒドリン、N−ヒドロキシスクシンイミドおよび
N−ヒドロキシフタルイミド、特に1−ヒドロキシ−ベ
ンゾトリアゾール、6−クロル−1−ヒドロキシベンゾ
トリアゾールおよび2−メルカプトベンゾチアゾールと
のものである。特に適切な混合無水物は低級アルカン酸
、たとえば酢酸とのもの、特に好1しくけ置換された酢
酸、たとえニトリクロル酢酸、ピバリン酸またはシアン
酢酸とのものである。たとえば式■のカルボン酸(アミ
ノ基が保護されたもの)全クロル蟻酸ベンジル、−p−
ニトロベンジル、−イソブチル、−エチルまたは−アリ
ルと反応させることによV得られるカルボン酸半エステ
ルとの混合無水物も特に適してい心。活性化された誘導
体は単離された物質として、またはその場で製造された
物質として反応させることができる。
は、無水物および混合無水物、アジドならびに活性化さ
れたエステルおよびチオエステル、好tL<UP−二ト
ロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、メチレン
シアノヒドリン、N−ヒドロキシスクシンイミドおよび
N−ヒドロキシフタルイミド、特に1−ヒドロキシ−ベ
ンゾトリアゾール、6−クロル−1−ヒドロキシベンゾ
トリアゾールおよび2−メルカプトベンゾチアゾールと
のものである。特に適切な混合無水物は低級アルカン酸
、たとえば酢酸とのもの、特に好1しくけ置換された酢
酸、たとえニトリクロル酢酸、ピバリン酸またはシアン
酢酸とのものである。たとえば式■のカルボン酸(アミ
ノ基が保護されたもの)全クロル蟻酸ベンジル、−p−
ニトロベンジル、−イソブチル、−エチルまたは−アリ
ルと反応させることによV得られるカルボン酸半エステ
ルとの混合無水物も特に適してい心。活性化された誘導
体は単離された物質として、またはその場で製造された
物質として反応させることができる。
一般に一般式■のセフェム誘導体全一般式Vのカルボン
酸またはその活性化された誘導体と不活性浴剤の存在下
で反応させる。特に適切な浴剤は塩素化炭化水素、好ま
しくは塩化メチレンお工びクロロホルム:エーテル、た
とl−jジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよび
ジオキサン;クトン、好1しくけアセトンおよびブタノ
ン;アミド、好ましくはジメチルホルムアミドおよびジ
メチルアセトアミドまたはピリジンである。上記容剤の
混合物の使用も有利であることはわかるであろう、これ
はしばしば、一般式■のセフェム化合物を1式Vのカル
ボン酸のその場で製造された、活性化された誘導体と反
応させる場合にあて扛まる。。
酸またはその活性化された誘導体と不活性浴剤の存在下
で反応させる。特に適切な浴剤は塩素化炭化水素、好ま
しくは塩化メチレンお工びクロロホルム:エーテル、た
とl−jジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよび
ジオキサン;クトン、好1しくけアセトンおよびブタノ
ン;アミド、好ましくはジメチルホルムアミドおよびジ
メチルアセトアミドまたはピリジンである。上記容剤の
混合物の使用も有利であることはわかるであろう、これ
はしばしば、一般式■のセフェム化合物を1式Vのカル
ボン酸のその場で製造された、活性化された誘導体と反
応させる場合にあて扛まる。。
この方法では、一般式■の化合物音単離することは必ら
ずしも必要ない。この反応はまた。一般式■ の化合物
、例えば、7−アミツーセファロスポラン酸または6−
6−ドメチルー7−アミノセフエー6−エムー4−カル
ボン酸あるいはその保護された反応性誘導体全好適な溶
剤中で一般式■における基Aに対応する塩基と反応させ
、そして、生成された一般式1の化合物をアシル化する
ことによっても行なえる。
ずしも必要ない。この反応はまた。一般式■ の化合物
、例えば、7−アミツーセファロスポラン酸または6−
6−ドメチルー7−アミノセフエー6−エムー4−カル
ボン酸あるいはその保護された反応性誘導体全好適な溶
剤中で一般式■における基Aに対応する塩基と反応させ
、そして、生成された一般式1の化合物をアシル化する
ことによっても行なえる。
式IVのセフェム化合物と式■のカルボン酸、またはそ
の活性化された誘導体との反応は、約−80〜約+80
℃、好ましくは一60〜+50℃、特に約−20℃ない
し室温の範囲の温度で行われる。
の活性化された誘導体との反応は、約−80〜約+80
℃、好ましくは一60〜+50℃、特に約−20℃ない
し室温の範囲の温度で行われる。
反応時間は反応体、温度および溶剤もしくは浴剤混合物
により左右され、通常は約十〜約72時間である。
により左右され、通常は約十〜約72時間である。
酸ハロゲン化物との反応ヲ、適宜酸結合剤の存在下で実
施して、放出されるハロゲン化水素を結合させることも
できる。特に適切な酸結合剤は6級アミン、たとえはト
リエチルアミンもしくはジメチルアニリン、無機塩基、
たとえば炭酸カリウムもしくは炭酸ナトリウム、および
アルキレンオキシド、たとえばプロピレンオキシドであ
る。
施して、放出されるハロゲン化水素を結合させることも
できる。特に適切な酸結合剤は6級アミン、たとえはト
リエチルアミンもしくはジメチルアニリン、無機塩基、
たとえば炭酸カリウムもしくは炭酸ナトリウム、および
アルキレンオキシド、たとえばプロピレンオキシドであ
る。
触媒、たとえばジメチルアミノピリジンの存在も場合に
より有利である。
より有利である。
一般式■の化合物のアミン基が反応性誘導体の形で存在
する場合、これはアミド化反応に関して文献から知られ
る誘導体であってもよい。たとえば可能な誘導体は一般
式■の化合物とシリル化合物、たとえばトリメチルクロ
ロシランまたはビス−(トリメチルシリル)アセトアミ
ドとの反応で生成するシリル誘導体である。この反応が
アミノ基において活性化された化合物を用いて行われる
場合、不活性溶剤、たとえば塩化メチレン、テトヒドロ
ンラン筐りはジメチルホルムアミドを用いることが有利
である。
する場合、これはアミド化反応に関して文献から知られ
る誘導体であってもよい。たとえば可能な誘導体は一般
式■の化合物とシリル化合物、たとえばトリメチルクロ
ロシランまたはビス−(トリメチルシリル)アセトアミ
ドとの反応で生成するシリル誘導体である。この反応が
アミノ基において活性化された化合物を用いて行われる
場合、不活性溶剤、たとえば塩化メチレン、テトヒドロ
ンラン筐りはジメチルホルムアミドを用いることが有利
である。
一般式1の化合物の生理学的に受容できる酸付加塩は例
えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、リン酸硫酸ま′fCは
有@!1酸(例えば、メタンスルホン酸、p−)ルエン
スルホン酸またはマレインe>などの塩である。
えば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、リン酸硫酸ま′fCは
有@!1酸(例えば、メタンスルホン酸、p−)ルエン
スルホン酸またはマレインe>などの塩である。
一般式IIおよび■の化合物は文献から公知であり、ま
た、文献に開示された公知の方法により製造できる。
た、文献に開示された公知の方法により製造できる。
本発明により得られ几一般式1の化合物類およびその生
理学的に受答できる酸付加塩類はダラム陽性菌およびグ
ラム陰性菌の双方に対して極めて高い抗菌作用を有する
。
理学的に受答できる酸付加塩類はダラム陽性菌およびグ
ラム陰性菌の双方に対して極めて高い抗菌作用を有する
。
一般式工の化合物類はまた、ペニシリン類ゼおよびセフ
ァロスポリナーゼを産生する菌に対しても予期しえない
すぐれた活性を有す心。更に、これらの化合物類は極低
毒性ならびにすぐれた薬理特性金有するので、有用な化
学瞭法剤となる。
ァロスポリナーゼを産生する菌に対しても予期しえない
すぐれた活性を有す心。更に、これらの化合物類は極低
毒性ならびにすぐれた薬理特性金有するので、有用な化
学瞭法剤となる。
従って、本発明の他の目的は、本発明の化合物を1種類
以上含有する、細菌感染の治療用医薬製剤を提供するこ
とである。
以上含有する、細菌感染の治療用医薬製剤を提供するこ
とである。
本発明による化合物類はペニシリン類、セファロスポリ
ン類またはアミノグリコシド類からなる群から選択され
るその他の活性成分と併用することもできる。
ン類またはアミノグリコシド類からなる群から選択され
るその他の活性成分と併用することもできる。
一般式Iの化合物類およびその生理学的に受容できる酸
付加塩類は経口、筋注または静注などに、cv投与でき
る。活性成分として一般式1の化合物を1種類以上含有
する医薬製剤は、式1の化合物を増量剤、乳化剤、滑沢
剤、矯味矯臭剤、着色剤または緩衝剤の工うな薬物学的
に受容できゐ担体−またけ希釈剤と混合し、そして、こ
の混合物を例えば、錠剤、糖依錠、カプセル剤、ま几は
非経口投与用の懸濁液あるいは溶液のような適当な剤形
に製剤することによって調製される。
付加塩類は経口、筋注または静注などに、cv投与でき
る。活性成分として一般式1の化合物を1種類以上含有
する医薬製剤は、式1の化合物を増量剤、乳化剤、滑沢
剤、矯味矯臭剤、着色剤または緩衝剤の工うな薬物学的
に受容できゐ担体−またけ希釈剤と混合し、そして、こ
の混合物を例えば、錠剤、糖依錠、カプセル剤、ま几は
非経口投与用の懸濁液あるいは溶液のような適当な剤形
に製剤することによって調製される。
前記の担体または希釈剤は例えば、トラガカント、乳糖
、メルク、寒天、ポリグリコール類、エタノールおよび
水である。緩衝物質は例えば、N、N’−ジベンジルエ
チレンジアミン、ジェタノールアミン、エチレンジアミ
ン、N−メチルグルカミン、N−ベンジルフェネチルア
ミン、ジエチルアミンおよびトリス(ヒドロキシメチル
)アミノメタンのような有機化合物類またはリン酸塩緩
衝液、炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウムのような
無機化合物類である1、非経口投与用の好適な剤形は緩
衝物質を有″fる、または有しない水性懸濁液′また、
活性成分はそのまま、担体あるい鉱希釈剤なしに、例え
ば、カプセル剤のような適当な剤形で投与することもで
きる。
、メルク、寒天、ポリグリコール類、エタノールおよび
水である。緩衝物質は例えば、N、N’−ジベンジルエ
チレンジアミン、ジェタノールアミン、エチレンジアミ
ン、N−メチルグルカミン、N−ベンジルフェネチルア
ミン、ジエチルアミンおよびトリス(ヒドロキシメチル
)アミノメタンのような有機化合物類またはリン酸塩緩
衝液、炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナトリウムのような
無機化合物類である1、非経口投与用の好適な剤形は緩
衝物質を有″fる、または有しない水性懸濁液′また、
活性成分はそのまま、担体あるい鉱希釈剤なしに、例え
ば、カプセル剤のような適当な剤形で投与することもで
きる。
一般式■の化合物またはその生理学的に受容できる酸付
加塩の好適な投与量は体重約60輪の成人の場合、約0
.4〜20t/日、好ましくは、0.5〜4f/日であ
る。
加塩の好適な投与量は体重約60輪の成人の場合、約0
.4〜20t/日、好ましくは、0.5〜4f/日であ
る。
1回で、または、一般的には、多数回に分けて投与すめ
ことができる。1回投与の場合、約500〜10010
0O、好ましくは、約100〜500Ivの量の活性成
分金含有できる。
ことができる。1回投与の場合、約500〜10010
0O、好ましくは、約100〜500Ivの量の活性成
分金含有できる。
本発明により製造できるシン化合物の下記の実施例は本
発明を更に例証するものである。本発明は下記の実施例
により限定されることはない。
発明を更に例証するものである。本発明は下記の実施例
により限定されることはない。
実施例1
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
シン−メトキシイミノアセトアミド〕−3−チアゾリオ
メチルセフェ−3−エム−4−カルボキシレート 方法a −1 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
シンーメトキシイミノアセトアミド〕セファロスポラン
酸0.68f(1,5ミリモル)、ヨウ化カリウム10
?(60ミリモル)、チアゾール1.3F(1,53ミ
リモル)、水12ゴおよびアセトン3ゴからなる混合物
を65℃で4時間加熱した。冷却後、この混合物をアセ
トン80−で希釈し、少量の不溶物をP別し、そして、
この溶液をシリカゲル(Merck 0.063−0.
2m ) 200tでクロマトグラフした。溶離はアセ
トン/水(8:1)500−およびアセトン/水(5:
1)500−で行なった。次いで、アセトン/水(6:
1)で標記化合物を溶離した。生成物含有両分會凍結乾
燥し、無色の非晶質固体を0.15f’得た。
シン−メトキシイミノアセトアミド〕−3−チアゾリオ
メチルセフェ−3−エム−4−カルボキシレート 方法a −1 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
シンーメトキシイミノアセトアミド〕セファロスポラン
酸0.68f(1,5ミリモル)、ヨウ化カリウム10
?(60ミリモル)、チアゾール1.3F(1,53ミ
リモル)、水12ゴおよびアセトン3ゴからなる混合物
を65℃で4時間加熱した。冷却後、この混合物をアセ
トン80−で希釈し、少量の不溶物をP別し、そして、
この溶液をシリカゲル(Merck 0.063−0.
2m ) 200tでクロマトグラフした。溶離はアセ
トン/水(8:1)500−およびアセトン/水(5:
1)500−で行なった。次いで、アセトン/水(6:
1)で標記化合物を溶離した。生成物含有両分會凍結乾
燥し、無色の非晶質固体を0.15f’得た。
’H−NMR(DMSO−d6) :5=3.2−3.
7(AB 、2H。
7(AB 、2H。
5CH2);3.7B(s、3H,0CH3);4.8
5−5.75(m + 4H+ OH2−”Nおよび2
ラクタム−H);6.67(s、IH,チアゾール);
7.22 (bs、2H。
5−5.75(m + 4H+ OH2−”Nおよび2
ラクタム−H);6.67(s、IH,チアゾール);
7.22 (bs、2H。
NH2);8.25,8.90および10.48 (各
々1つのm。
々1つのm。
6チアゾールーH) ; 9.43 ppm (d −
J−8Hz 5NH)。
J−8Hz 5NH)。
方法 a−2
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
シンーメトキシイミノアセトアミド〕セファロスポラン
酸0.46fC1ミリモル)、チアゾール0.72r(
8,5ミリモル)および塩化メチレン10m/!からな
ゐ混合物に冷却しながらトリメチルヨードシラン1.4
F(7ミリモル)を添加しfcや得られた混合物音還流
させながら2時間加熱し、そして、冷却し、0.5N塩
酸2ff17!’(il”添加した。塩化メチレン?真
空中で除去し、そして、暗黒色の溶液のpH値をNaH
COaで乙にあわせ、次いで、−Labar −C”シ
リカゲルカラム(Merck社製)でアセトン/水(2
:1)溶離剤を用いクロマトグラフした。生成物含有画
分を凍結乾燥し、前記方法a−1で得られた化合物と物
性が全て同一の非晶質物質Th0.04F得た。
シンーメトキシイミノアセトアミド〕セファロスポラン
酸0.46fC1ミリモル)、チアゾール0.72r(
8,5ミリモル)および塩化メチレン10m/!からな
ゐ混合物に冷却しながらトリメチルヨードシラン1.4
F(7ミリモル)を添加しfcや得られた混合物音還流
させながら2時間加熱し、そして、冷却し、0.5N塩
酸2ff17!’(il”添加した。塩化メチレン?真
空中で除去し、そして、暗黒色の溶液のpH値をNaH
COaで乙にあわせ、次いで、−Labar −C”シ
リカゲルカラム(Merck社製)でアセトン/水(2
:1)溶離剤を用いクロマトグラフした。生成物含有画
分を凍結乾燥し、前記方法a−1で得られた化合物と物
性が全て同一の非晶質物質Th0.04F得た。
方法 a−5
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
シンーメトキシイミノアセトアミド〕セファロスポラン
酸2.05F(4,5ミリモル)をり四ロホルム10ゴ
に懸濁させ、N−メチル−N−)リメチルシリルトリフ
ルオロアセトアミド3f(15ミリモル)を添加した後
、溶液になるまでこの懸濁液?1時間攪拌した。次いで
、トリメチルヨードシラン2.52F(12,6ミリモ
ル)を添加し、そして、この混合物を室温で15分間攪
拌した。揮発性成分全真空中で除去し、残留物をアセト
ニトリル10mに溶解させ、そして、水0,6―および
チアゾール[3,85f(10ミリモル)を0℃で添加
した。この混合物を室温で2時間攪拌し、氷5fk添加
し、そして、得られた混合物音真空中で容量4mKまで
濃縮した。残留物を’ Labar −C’シリカゲル
カラムでアセトン/水(2:1)溶離剤によpクロマト
グラフした。生成物富有画分全凍結乾燥し、方法a −
1で得られた化合物と物性が全て同一の非晶物質kO,
46f得た。
シンーメトキシイミノアセトアミド〕セファロスポラン
酸2.05F(4,5ミリモル)をり四ロホルム10ゴ
に懸濁させ、N−メチル−N−)リメチルシリルトリフ
ルオロアセトアミド3f(15ミリモル)を添加した後
、溶液になるまでこの懸濁液?1時間攪拌した。次いで
、トリメチルヨードシラン2.52F(12,6ミリモ
ル)を添加し、そして、この混合物を室温で15分間攪
拌した。揮発性成分全真空中で除去し、残留物をアセト
ニトリル10mに溶解させ、そして、水0,6―および
チアゾール[3,85f(10ミリモル)を0℃で添加
した。この混合物を室温で2時間攪拌し、氷5fk添加
し、そして、得られた混合物音真空中で容量4mKまで
濃縮した。残留物を’ Labar −C’シリカゲル
カラムでアセトン/水(2:1)溶離剤によpクロマト
グラフした。生成物富有画分全凍結乾燥し、方法a −
1で得られた化合物と物性が全て同一の非晶物質kO,
46f得た。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−シンー
メドキシイミノ酢酸0.4f(2ミリモル)’t−N、
N−ジメチルホルムアミド10−に溶解させた。1−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール水和物0.28F(2,1
ミリモル)およびN、N’−ジシクロへキシルカルボジ
イミド0.41F(2ミリモル)を添加した後、この混
合物を室温で2時間攪拌した。ジシクロヘキシル尿素t
−P別し、ジメチルホルムアミド10−お工び水1−の
混液に7−アミノ−3−チアゾリオメチルセフェ−6−
エム−4−カルボキシレート0.6tC249 して作った溶液1−F’液に添加した。室温で3時間静
置させた後、この混合物を真空中で濃縮し、そして、残
留物を水5−に溶解させた。不溶物’kF別し、溶液?
シリカゲルカラム(−Labar−C”圧力的1bar
−)でアセトン/水(2:i)溶離剤にエフクロマトグ
ラフした。生成物含有画分を凍結乾燥させた。前記方法
&−1で得られた化合物と物性が全て同一の非晶質同体
が0.54f得られた。
メドキシイミノ酢酸0.4f(2ミリモル)’t−N、
N−ジメチルホルムアミド10−に溶解させた。1−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール水和物0.28F(2,1
ミリモル)およびN、N’−ジシクロへキシルカルボジ
イミド0.41F(2ミリモル)を添加した後、この混
合物を室温で2時間攪拌した。ジシクロヘキシル尿素t
−P別し、ジメチルホルムアミド10−お工び水1−の
混液に7−アミノ−3−チアゾリオメチルセフェ−6−
エム−4−カルボキシレート0.6tC249 して作った溶液1−F’液に添加した。室温で3時間静
置させた後、この混合物を真空中で濃縮し、そして、残
留物を水5−に溶解させた。不溶物’kF別し、溶液?
シリカゲルカラム(−Labar−C”圧力的1bar
−)でアセトン/水(2:i)溶離剤にエフクロマトグ
ラフした。生成物含有画分を凍結乾燥させた。前記方法
&−1で得られた化合物と物性が全て同一の非晶質同体
が0.54f得られた。
方法 b−2
7−アミノ−6−ヨードメチルセフェ−3−エム−4−
カルボン酸0.68F(2ミリモル)をN,N− ジメ
チルホルムアミド30−に懸濁させた。
カルボン酸0.68F(2ミリモル)をN,N− ジメ
チルホルムアミド30−に懸濁させた。
チアゾール0.51F(<Sミリモル)を添加した。
この混合物を室温で6時間攪拌した。次いで、2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2−シン−メトキシ
イミノ酢酸ヒドロキシベンゾトリアゾール活性エステル
(前記方法b−1参照)2ミリモルのN,N−ジメチル
ホルムアミド(10m)溶液を添加した。室温で2時間
静置した後、この混合物?真空中で蒸発させ、残留物?
水5−に溶解させ、少量の不溶物をr別し、そして、P
液を”Labar−C’カラムでアセトン/水(2:1
)溶離剤によりクロマトグラフした。生成物含有画分を
凍結乾燥し、前記方法a−1で得られた化合物と物性が
全く同一の非晶質固体Th0.32f得た。
−アミノチアゾール−4−イル)−2−シン−メトキシ
イミノ酢酸ヒドロキシベンゾトリアゾール活性エステル
(前記方法b−1参照)2ミリモルのN,N−ジメチル
ホルムアミド(10m)溶液を添加した。室温で2時間
静置した後、この混合物?真空中で蒸発させ、残留物?
水5−に溶解させ、少量の不溶物をr別し、そして、P
液を”Labar−C’カラムでアセトン/水(2:1
)溶離剤によりクロマトグラフした。生成物含有画分を
凍結乾燥し、前記方法a−1で得られた化合物と物性が
全く同一の非晶質固体Th0.32f得た。
実施例1と同様な方法にXり下記の弄1に示す化合物を
得た。下記の化合物はR1=R3=水素お工びR2=メ
チルである一般式1の化合物に対応する。
得た。下記の化合物はR1=R3=水素お工びR2=メ
チルである一般式1の化合物に対応する。
基Aの置換基は表1の第2欄に示されてい心。
l
Rが水素であり、そして、下記の表2に示され6z5な
基R2,H3およびA’e有する一般式1に対応する化
合物を実施例1と同様な方法により製造した。
基R2,H3およびA’e有する一般式1に対応する化
合物を実施例1と同様な方法により製造した。
Oり −772−
R1が水素であり、そして、下記の表3に示されるよう
な基R2,R3お工びAを有する一般式■に対応丁心化
合物を非晶固体として実施例1と同様な方法により得た
。
な基R2,R3お工びAを有する一般式■に対応丁心化
合物を非晶固体として実施例1と同様な方法により得た
。
第1頁の続き
0発 明 者 ヴイルフリート・シュ ドイヴアー ス
) 0発 明 者 ゲーアハルト・ザイベ ドイルト −ヴ ソ連邦共和国デー−6233ケルクハイム(タウヌ、ア
ム・フラツハスラント 18 ソ連邦共和国デー−6100ダルムスタット、グレーザ
エッグ 21
) 0発 明 者 ゲーアハルト・ザイベ ドイルト −ヴ ソ連邦共和国デー−6233ケルクハイム(タウヌ、ア
ム・フラツハスラント 18 ソ連邦共和国デー−6100ダルムスタット、グレーザ
エッグ 21
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 次の一般式1で示されるセフェム誘導体または
その生理学的に受容できる酸付加塩。 1 〔式中、R1は水素またはメトキシ會示す;R2は水素
、置換または非置換C□〜C6−アルキル、置換または
非置換C2−C,−アルケニル、C2〜C6−アルキニ
ル、C3〜C7−シクロアルキル。 C3〜C7−シクロアルキル−C□〜C6アルキル、C
4〜C7シクロアルケニルまたは基 4 (ここで、mお工びnは各々0または1を示す;に′お
よびR5は同一であるか、または異なり、水素。 アリールまたはC1−C4−アルキル基を示すか、また
は、R4およびR5が結合している炭素原子と共にメチ
レンまたはC3−C7−シクロアルキリデン基を形成し
、そして、#C1−c4−アルキル基およびC3−07
−シクロアルキリデン基は更にモノ置換あるいはポリ置
換されていてもよい;R6は−COOH,CNまたは一
〇〇NH2基を示す。)を示す; R3は水素またはハロゲンを示すニ − Aは式−N−2で示される非置換または置換5〜6員の
芳香族複素環カチオン(成環は環中にN。 0またはS原子を更に含有することができ、また、成環
は別の環に縮合することもできる。ただし、ピリジノお
よびその縮合系には縮合できない。)を示す; R20基はシン位にある。〕 (2)次の一般式工 〔式中、R1は水素またはメトキシを示す:R2は水素
、置換または非置換c1−c6−アルキル。 置換または非置換c2−c6−アルケニル、 C2−C
6−アキニル、C3−C7−シクロアルキル、 C,−
C7−シクロアルキル−CINc6アルキル、 C4−
C,シクロアルケニルまたは基 4 (ここで、mおよびnは各々0または1を示す;R4お
よびR5は同一であるか、または異なり、水素、アリー
ルまたは00り、−アルキル基を示すか、または、tお
よびR5が結合している炭素原子と共にメチレンまたは
C3c7−シクロアルキリデン基音形成し、そして、該
C1−C4−アルキル基およびC3c7−シクロアルキ
リデン基は更にモノ置換あるいはポリ置換されていても
よい;R6は−COOH。 CNまたは−CONH2基を示す。)を示す:R3は水
素またはハロゲン會示す; Aは式−〇N=)で示される非置換または置換5〜6員
の芳香族複素環カチオン(成環は環中にN。 0またはS原子を更に含有することができ、また、成環
は別の環に縮合することもできる。、 fCだし、ピリ
ジノおLびその縮合系には縮合できない。)を示す; R20基はシン位にある。〕 で示されるセフェム誘導体またはその生理学的に受答で
きる酸付加塩の製造方法であって、(a) 一般式II
の化合物またはその塩(式中、R”Jt2およびR3
は式Iで定義したとうυのものであゐ;R7は式1の基
Aに対応する塩基で置換できる基を示す。)をこの塩基
と反応させ、そして (イ)保護基が存在すれば、保護基金除去し;そして、 (リ 所望により、得られた生成物全生理学的に受容で
きる酸付加塩に転化する; または、 (b) 一般式III の化合物 (式中、R1およびR7は一般式■で定義したとうりの
ものである;R8は水素またはアミノ保護基を示す。)
を式1で定義された基Aに対応する塩基と反応させ一般
弐■で示される化合物 (式中、R1、R8およびAは前記のとうりの意味を有
する。)を生成し、そして、 (+) アミノ保瞳基が存在すれば該保護基を除去し、
そして、 (11)式■の化合物 (式中、−は水素會示す。)全
そのままの形で、または、反応性誘導体の形で、一般式
Vの2−シン−オキシイミノ酢酸(式中、R2およびR
3は前記の意味を有する)またはカルボニル基が活性化
されたこの化合物の誘導体と反応させ、そして、 (イ)保護基が存在すれば保護基を除去し、そして、 (ロ)所望により、得られた一般式1の生成物を生理学
的に受容できる酸付加塩に転化する、ことを特徴とする
前記製造方法。 (3) 置換基R7の核置換は中性塩のイオン、特にヨ
ウ化物txはチオシアネートイオンの存在下で行なわれ
る特許請求の範囲第2項記載の方法。 (4)置換基R7の核置換は基Aに対応する塩基の存在
下およびトリーc1−c4−アルキルヨードシランの存
在下で行なわれる特許請求の範囲第2項記載の方法。 (5)トリーC1c4−アルキルヨードシランはトリメ
チルヨードシランtit’tトリエチルヨードシランで
ある特許請求の範囲第4項記載の方法。 (6) 一般式1 〔式中、R1は水素またはメトキシを示す;R2は水素
、置換または非置換Cl−C6−アルキル。 置換または非置換C2c6−アルケニル、 C2(6−
アルキニル、C3c7−シクロアルキル、C3−C7−
シクロアル#ルーC1−C,アルキル、C4c7シクロ
アルクニルまたは基 (ここで、mおよびnは各々0または1を示す;R4お
よびR5は同一であるか、または異なり、水素、アリー
ルまたはcl−C4−アルキル基を示すか、または、R
4おLびR5が結合している炭素原子と共にメチレンま
’fc、 B C(−C7−シクロアルキリデン基金形
成し、そして、該C1−C4−アルキル基および99−
シクロアルキリデン基は更にモノ置換あるいはポリ置換
されていてもよい;R6は−COOH,CNまたは−C
ONH2基を示す、)を示す: R3は水素またはハロゲンを示す; Aは式−■丘)で示される非置換または置換5〜6員の
芳香族複素環カチオン(該Rは環中にN。 0またはS原子?更に含有することができ、また、成環
は別の環に縮合することもできる。ただし、ピリジノお
よびその縮合系には縮合できない。)を示す: R20基はシン位にある。〕 で示されるセフェム誘導体を含有する、細菌感染症に対
して有効な医薬組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3336757A DE3336757A1 (de) | 1983-10-08 | 1983-10-08 | Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE3336757.4 | 1983-10-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6097982A true JPS6097982A (ja) | 1985-05-31 |
Family
ID=6211418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59211207A Pending JPS6097982A (ja) | 1983-10-08 | 1984-10-08 | セフエム誘導体、その製法および医薬組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0137441A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6097982A (ja) |
| DE (1) | DE3336757A1 (ja) |
| DK (1) | DK479984A (ja) |
| GR (1) | GR80573B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155183A (ja) * | 1984-01-16 | 1985-08-15 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 新規セフエム化合物およびその製造法 |
| JPS6236385A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-17 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 3,7−ジ置換−3−セフエム化合物およびその製造法 |
| JPS62149681A (ja) * | 1985-09-03 | 1987-07-03 | Otsuka Chem Co Ltd | セフアロスポリン化合物の新規誘導体、その製造法及び該誘導体を含有する医薬組成物 |
| JPS62174085A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-07-30 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 新規セフェム化合物 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NO165842C (no) * | 1984-04-23 | 1991-04-17 | Takeda Chemical Industries Ltd | Analogifremgangsmaate for fremstilling av terapeutisk aktive cefem-forbindelser. |
| PH22107A (en) * | 1984-06-07 | 1988-06-01 | Takeda Chemical Industries Ltd | 3-pyrazolo(1,5-a)pyrdinium cephem compounds |
| JPH0613530B2 (ja) * | 1984-06-08 | 1994-02-23 | 武田薬品工業株式会社 | セフエム化合物 |
| US4665066A (en) * | 1984-12-24 | 1987-05-12 | Eli Lilly And Company | 3-thiazolomethyl cephalosporins as antibiotics |
| DE3688477T2 (de) * | 1985-03-01 | 1993-09-16 | Takeda Chemical Industries Ltd | Antibakterielle verbindungen, ihre herstellung und verwendung. |
| CA1299564C (en) * | 1985-09-03 | 1992-04-28 | Akihiro Shimabayashi | Cephalosporin derivative |
| US4826834A (en) * | 1985-09-27 | 1989-05-02 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Cephem compounds |
| US4921851A (en) * | 1986-06-09 | 1990-05-01 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Cephem compounds, their production and use |
| JP2519054B2 (ja) * | 1986-06-09 | 1996-07-31 | 武田薬品工業株式会社 | 新規セフェム化合物 |
| DE3707019A1 (de) * | 1987-03-05 | 1988-09-15 | Hoechst Ag | Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| US5173485A (en) * | 1988-03-09 | 1992-12-22 | Fujisawa Pharmaceutical Company, Ltd. | Cephem compounds |
| GB8805642D0 (en) * | 1988-03-09 | 1988-04-07 | Fujisawa Pharmaceutical Co | New cephem compounds & processes for preparation thereof |
| US5215982A (en) * | 1989-11-10 | 1993-06-01 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephem compounds |
| US5194433A (en) * | 1990-11-13 | 1993-03-16 | Bristol-Myers Squibb Company | Antibiotic c-3 catechol-substituted cephalosporin compounds, compositions and method of use thereof |
| KR0157073B1 (ko) * | 1992-10-01 | 1998-11-16 | 김태훈 | 세팔로스포린 유도체 및 그의 제조방법 |
| TW526202B (en) | 1998-11-27 | 2003-04-01 | Shionogi & Amp Co | Broad spectrum cephem having benzo[4,5-b]pyridium methyl group of antibiotic activity |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES485440A1 (es) * | 1978-10-27 | 1980-07-01 | Glaxo Group Ltd | Un procedimiento para la preparacion de antibioticos de ce- falosporina |
| NL7908318A (nl) * | 1978-11-15 | 1980-05-19 | Glaxo Group Ltd | Nieuwe verbindingen met antibiotische eigenschappen, werkwijze voor de bereiding daarvan, alsmede farmaceutische preparaten die deze bevatten. |
| DE3006777A1 (de) * | 1979-02-23 | 1980-09-04 | Glaxo Group Ltd | Cephalosporin-antibiotika |
| US4401668A (en) * | 1981-10-02 | 1983-08-30 | Eli Lilly And Company | Pyrazinium substituted cephalosporins |
-
1983
- 1983-10-08 DE DE3336757A patent/DE3336757A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-10-02 EP EP84111745A patent/EP0137441A3/de not_active Withdrawn
- 1984-10-05 GR GR80573A patent/GR80573B/el unknown
- 1984-10-05 DK DK479984A patent/DK479984A/da not_active Application Discontinuation
- 1984-10-08 JP JP59211207A patent/JPS6097982A/ja active Pending
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|---|---|---|---|---|
| JPS60155183A (ja) * | 1984-01-16 | 1985-08-15 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 新規セフエム化合物およびその製造法 |
| JPS6236385A (ja) * | 1985-08-05 | 1987-02-17 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 3,7−ジ置換−3−セフエム化合物およびその製造法 |
| JPS62149681A (ja) * | 1985-09-03 | 1987-07-03 | Otsuka Chem Co Ltd | セフアロスポリン化合物の新規誘導体、その製造法及び該誘導体を含有する医薬組成物 |
| JPS62174085A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-07-30 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 新規セフェム化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DK479984D0 (da) | 1984-10-05 |
| EP0137441A2 (de) | 1985-04-17 |
| EP0137441A3 (de) | 1986-01-15 |
| DE3336757A1 (de) | 1985-04-25 |
| DK479984A (da) | 1985-04-09 |
| GR80573B (en) | 1985-02-01 |
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