JPS6098628A - 真空中における搬送装置 - Google Patents
真空中における搬送装置Info
- Publication number
- JPS6098628A JPS6098628A JP58206131A JP20613183A JPS6098628A JP S6098628 A JPS6098628 A JP S6098628A JP 58206131 A JP58206131 A JP 58206131A JP 20613183 A JP20613183 A JP 20613183A JP S6098628 A JPS6098628 A JP S6098628A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- arm
- vacuum
- transfer
- wafer
- rotating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P50/00—Etching of wafers, substrates or parts of devices
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業−Ｉ−の利用り〕野
本発明は、例えげシリコンウエハ」、に形成された被膜
のパターン加工を行なうだめのゾラズマ放電ケ利用した
ドライエツチングなどで、処理物すなわち、シリコンウ
ェハ葡人気中から常に真空保ｊ、ｊさハ／ζ反応室内へ
供給、塩９出しを行なうための真空中における搬送装置
に関するものである、従来例の構成とその問題点 従来の真空中における搬送装置は、第１図にその具体的
構成金示すように、人気中で供給さノするシリコンウエ
ハ（以下ウェハと呼ぶ）１を、常に真空に保たれた反応
室２内に搬入するため、第１真空搬送室３を大気圧に戻
し、第１真空搬送室３に設けられた第１ゲーＩ・パルプ
４を開き、図示しない搬送ベルＩ−によりウェハ１全移
絨ビ／６Ｊ−まで搬び、移載ピン６により搬入アーム６
の先端に設けたウェハ受け６ａ上に乗ぜ、第１ゲー ト
バルブ４を閉じて真空排気ロアより真空引き全行ない、
次に第２ゲートバルグ８を開き、搬入アーム全スライド
軸９にそって図示しないワイヤ駆動などにより反応室２
内のウェハを・１戊１６．する基板電極１０上に移祇ヒ
ン１１により移しかえ、搬入アーム６をもとの位置に戻
し、第２ゲーｌ−バルブ８を閉じる。その後ウェハ１は
反応室内でプラズマ放電を利用してドライエツチングす
る。処理の終ｒしたウェハ１は第２４′１、空搬送室１
３を真空引きし、第３ゲートパルプ１４を開き、搬出ア
ーム１５を前進させ、ウェハ受け１１５２Ｌ上にウェハ
１全移しがえ、搬出アーム１６を後退させ、移載ビン１
６により図示しない搬送ベルト上に味ぜ、第３ゲートバ
ルブ１４金閉じ、第２真空搬送室１３を人気圧にもどす
、その後第４ゲーｌ−パルプ１７を開き、ウェハ１を収
納位＠１８に搬送ベルトで送り出し、第４ゲートバルブ
１７を閉じる。以後同じ動作を繰り返す。しかしながら
上記のような構成では、真空搬送室が２組必要になり、
装置構造がり雑になるばかりでなく、ウェハ移載に費や
す時間が多く、生産性が悪いなどの欠点を有していた、
発明の目的 本発明は上記欠点に鑑み、装置構造ｋ Ｉ７ｖ□Ｉ素化
し、搬送時間全短縮した生産性の高い真空中における搬
送装置！全提供するものである。
のパターン加工を行なうだめのゾラズマ放電ケ利用した
ドライエツチングなどで、処理物すなわち、シリコンウ
ェハ葡人気中から常に真空保ｊ、ｊさハ／ζ反応室内へ
供給、塩９出しを行なうための真空中における搬送装置
に関するものである、従来例の構成とその問題点 従来の真空中における搬送装置は、第１図にその具体的
構成金示すように、人気中で供給さノするシリコンウエ
ハ（以下ウェハと呼ぶ）１を、常に真空に保たれた反応
室２内に搬入するため、第１真空搬送室３を大気圧に戻
し、第１真空搬送室３に設けられた第１ゲーＩ・パルプ
４を開き、図示しない搬送ベルＩ−によりウェハ１全移
絨ビ／６Ｊ−まで搬び、移載ピン６により搬入アーム６
の先端に設けたウェハ受け６ａ上に乗ぜ、第１ゲー ト
バルブ４を閉じて真空排気ロアより真空引き全行ない、
次に第２ゲートバルグ８を開き、搬入アーム全スライド
軸９にそって図示しないワイヤ駆動などにより反応室２
内のウェハを・１戊１６．する基板電極１０上に移祇ヒ
ン１１により移しかえ、搬入アーム６をもとの位置に戻
し、第２ゲーｌ−バルブ８を閉じる。その後ウェハ１は
反応室内でプラズマ放電を利用してドライエツチングす
る。処理の終ｒしたウェハ１は第２４′１、空搬送室１
３を真空引きし、第３ゲートパルプ１４を開き、搬出ア
ーム１５を前進させ、ウェハ受け１１５２Ｌ上にウェハ
１全移しがえ、搬出アーム１６を後退させ、移載ビン１
６により図示しない搬送ベルト上に味ぜ、第３ゲートバ
ルブ１４金閉じ、第２真空搬送室１３を人気圧にもどす
、その後第４ゲーｌ−パルプ１７を開き、ウェハ１を収
納位＠１８に搬送ベルトで送り出し、第４ゲートバルブ
１７を閉じる。以後同じ動作を繰り返す。しかしながら
上記のような構成では、真空搬送室が２組必要になり、
装置構造がり雑になるばかりでなく、ウェハ移載に費や
す時間が多く、生産性が悪いなどの欠点を有していた、
発明の目的 本発明は上記欠点に鑑み、装置構造ｋ Ｉ７ｖ□Ｉ素化
し、搬送時間全短縮した生産性の高い真空中における搬
送装置！全提供するものである。
発明の構成
本発明の搬送装＠は、１個の真空搬送室内に、搬ｊス物
Ｉ−移・賎する２組の搬送アームと、それぞれの搬送ア
ームを旋回するだめの回転支持部をもつ旋［１１アーム
と、前記旋回アームに固定され、各４が独立して回転駆
動されかつ、同心に配置した２本の回転軸と、旋回アー
ムの回転方向とは逆向きに搬送アームを旋回さぜる反転
駆動１１１３と真空搬送室の側壁に搬送路の開閉のため
に設けたゲーＩ・バルブとから構成されており、真空搬
送室が１個ですみ、ゲートパルプの数も削減でき、真空
構成部品も削減できるなど、’ｗ ｌ厚構造の簡素化が
はかれ、真空搬送室１個を真空排気するだけでよく、真
空排気時間が半減でき、産道時間が短縮されるという特
有の効果を有する。
Ｉ−移・賎する２組の搬送アームと、それぞれの搬送ア
ームを旋回するだめの回転支持部をもつ旋［１１アーム
と、前記旋回アームに固定され、各４が独立して回転駆
動されかつ、同心に配置した２本の回転軸と、旋回アー
ムの回転方向とは逆向きに搬送アームを旋回さぜる反転
駆動１１１３と真空搬送室の側壁に搬送路の開閉のため
に設けたゲーＩ・バルブとから構成されており、真空搬
送室が１個ですみ、ゲートパルプの数も削減でき、真空
構成部品も削減できるなど、’ｗ ｌ厚構造の簡素化が
はかれ、真空搬送室１個を真空排気するだけでよく、真
空排気時間が半減でき、産道時間が短縮されるという特
有の効果を有する。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について、図面ｉ 参１ｊｒ４
ｊ。
ｊ。
なから説明する。第２図は本発明の一実施例におけるド
ライエツチング装置を使月１した真空中における搬送装
置の構成全示すものである。第２図において、１９は人
気中で１枚毎に供給される処理物であるウェハで、順次
この位１バにウェハは外部より供給、取り出しが行なわ
れる。２Ｃ）ｉｄウェハ１９を搬送アーム」−に移載す
る移載ビン、２１ ｉｉ真空搬送室で図示しない真空ポ
ンプに接続された真空排気口２２により内部を真空排気
できる。
ライエツチング装置を使月１した真空中における搬送装
置の構成全示すものである。第２図において、１９は人
気中で１枚毎に供給される処理物であるウェハで、順次
この位１バにウェハは外部より供給、取り出しが行なわ
れる。２Ｃ）ｉｄウェハ１９を搬送アーム」−に移載す
る移載ビン、２１ ｉｉ真空搬送室で図示しない真空ポ
ンプに接続された真空排気口２２により内部を真空排気
できる。
２３は真空搬送室２１の側壁に設けた搬送路の開閉を行
なう第１ゲー１−バルブであり、閉じたときはＱ １７
ングにより真空月じができる。２４は第１ゲートパルプ
２３と同様に反応室と真空搬送室との間で開閉する第２
ゲートバルブ、２５２Ｌは先端にウェハが入り込む窪み
全設けたウェハ受は部に処理前のウェハを載置し搬入す
る搬送アームの一方である搬入アーム、２６ｂは処［’
後のウェハ全１１：に置し搬出する搬送アームの１屯の
一方である搬出アーム、２６は例えばウェハ上の被膜の
ドライエツチングをイアなうため、常に真空に作たれた
反応室で、中火に一対の平行平板電極が設けられている
。２７は反応室２６を図示しない真空ポンプにより真空
排気する真空排気口、２８は反応室２６内にあってウェ
ハ全載置し、前記対向電極の一方である）１（板電極、
２９はウェハ全移液する移載ビンであるっ第３図は真空
搬送室内の移載部の構成を示すもので、２１は真空搬送
室、２５＆は搬入アーム、３０ａは旋回アームて回転軸
３１２Ｌに固定されている。３１ｂは回転軸３１ｆＬの
中・Ｕ全員通し同心に構成した回転軸で、旋回アーム３
０ｂが固定しである。２５ｂは搬出アームである。
なう第１ゲー１−バルブであり、閉じたときはＱ １７
ングにより真空月じができる。２４は第１ゲートパルプ
２３と同様に反応室と真空搬送室との間で開閉する第２
ゲートバルブ、２５２Ｌは先端にウェハが入り込む窪み
全設けたウェハ受は部に処理前のウェハを載置し搬入す
る搬送アームの一方である搬入アーム、２６ｂは処［’
後のウェハ全１１：に置し搬出する搬送アームの１屯の
一方である搬出アーム、２６は例えばウェハ上の被膜の
ドライエツチングをイアなうため、常に真空に作たれた
反応室で、中火に一対の平行平板電極が設けられている
。２７は反応室２６を図示しない真空ポンプにより真空
排気する真空排気口、２８は反応室２６内にあってウェ
ハ全載置し、前記対向電極の一方である）１（板電極、
２９はウェハ全移液する移載ビンであるっ第３図は真空
搬送室内の移載部の構成を示すもので、２１は真空搬送
室、２５＆は搬入アーム、３０ａは旋回アームて回転軸
３１２Ｌに固定されている。３１ｂは回転軸３１ｆＬの
中・Ｕ全員通し同心に構成した回転軸で、旋回アーム３
０ｂが固定しである。２５ｂは搬出アームである。
３２は軸受けで回転軸３１２Ｌ 、 ３１ ｂが（フリ
ツク等の真空プールｇｌ（品で回転自在に組み込せれて
いる（図示せず）、また軸受け３２も真空搬送室２１と
の間に０リング等の真空／−ルが施さＪｌているっ（図
示せず）、３Ｓａは搬入アーム２５＆に固定され旋回ア
ーム３０ａに回転支持された軸であり、 □旋回歯車３
４ａが固定されている。、３５ａは旋回アーム３０ａ十
で旋回両手３４ａとかみ合い回転自在に取りつけられた
中間歯＋４（で、固定歯車３６とかみ合っている。３７
は固定両市３６の支持体である、３８２Ｌは回転１ｍ＋
３１ ａに固定された回転歯巾で、モーター４０ａに
固定された駆動歯＜ｉ（３ｇａにより、旋回アーム３０
ａの旋回のだめの回転が伝えられる一３０ｂ〜４０ｂの
番号ｋ （’Ｊ’ したものは、３０ａ〜４０ａと同じ
機能をもっている。
ツク等の真空プールｇｌ（品で回転自在に組み込せれて
いる（図示せず）、また軸受け３２も真空搬送室２１と
の間に０リング等の真空／−ルが施さＪｌているっ（図
示せず）、３Ｓａは搬入アーム２５＆に固定され旋回ア
ーム３０ａに回転支持された軸であり、 □旋回歯車３
４ａが固定されている。、３５ａは旋回アーム３０ａ十
で旋回両手３４ａとかみ合い回転自在に取りつけられた
中間歯＋４（で、固定歯車３６とかみ合っている。３７
は固定両市３６の支持体である、３８２Ｌは回転１ｍ＋
３１ ａに固定された回転歯巾で、モーター４０ａに
固定された駆動歯＜ｉ（３ｇａにより、旋回アーム３０
ａの旋回のだめの回転が伝えられる一３０ｂ〜４０ｂの
番号ｋ （’Ｊ’ したものは、３０ａ〜４０ａと同じ
機能をもっている。
以」二のように構成され、ドライエツチング装置に使用
した真空中における搬送装置について、以下その動作を
説明するつまず処理前のウェハ１９が移Ｉ賎ビン２０上
に供給され、移１賎ビンによりウェハ１９を持ち上げる
。つぎに真空搬送室２１を窒素ガスの導入により大気圧
に戻し、第１ゲートバルブ２３全開き、モータ４０ａの
回転により旋回アーム３Ｑａが第１ゲー１゛パルプ２３
イ１１１］に旋回するとともに、搬送アーム２５ｆＬは
、固定歯ｉ’１４３６、中間歯車３５１Ｌ、旋回歯車３
４ａの組み合わせによる反転駆動部により移載ビン２０
の輔む上まで移動するっその後移載ピン２ｏはＦ降しウ
ェハ１９は搬送アームの先端に設けたウェハ受け￥’ｉ
ｌＩ ／／）に載置される。次にモーフ４０１：１逆回
１匹し同様に搬入アーム２６２Ｌが真空搬送室２１内に
戻り、第１ゲー１−バルブ２３を閉じ、真空排気口２２
より例えば設定真空度の○１Ｔｏｒｒｉで４ノ１気する
。
した真空中における搬送装置について、以下その動作を
説明するつまず処理前のウェハ１９が移Ｉ賎ビン２０上
に供給され、移１賎ビンによりウェハ１９を持ち上げる
。つぎに真空搬送室２１を窒素ガスの導入により大気圧
に戻し、第１ゲートバルブ２３全開き、モータ４０ａの
回転により旋回アーム３Ｑａが第１ゲー１゛パルプ２３
イ１１１］に旋回するとともに、搬送アーム２５ｆＬは
、固定歯ｉ’１４３６、中間歯車３５１Ｌ、旋回歯車３
４ａの組み合わせによる反転駆動部により移載ビン２０
の輔む上まで移動するっその後移載ピン２ｏはＦ降しウ
ェハ１９は搬送アームの先端に設けたウェハ受け￥’ｉ
ｌＩ ／／）に載置される。次にモーフ４０１：１逆回
１匹し同様に搬入アーム２６２Ｌが真空搬送室２１内に
戻り、第１ゲー１−バルブ２３を閉じ、真空排気口２２
より例えば設定真空度の○１Ｔｏｒｒｉで４ノ１気する
。
さらに第２ゲー１−バルブを開き搬入アーム２６ａを同
様に反応室２６内のノ、を板電極２８」二に移動し、ウ
ェハ１９は移載ピン２９により持ち上げられ、衆人アー
ム２６ａが後退した後、基板電極２８に載置され、第２
ゲ・−１−バルブ２４を閉じるっつぎに真空搬送室２１
を一山び窒素ガスの導入により大気圧に戻し、第１ゲー
１−バルブ２３ケ開き同様にしてウェハ１９の次に供給
される２枚１−１のウェハ１９ａ（図示せず）を搬入ア
ーム２６ａ上に移載し真空搬送室２１内に搬入し内部全
真空υ１気し、反応室２６内のウェハ１９のドライエツ
チングが終了する寸で待機する。
様に反応室２６内のノ、を板電極２８」二に移動し、ウ
ェハ１９は移載ピン２９により持ち上げられ、衆人アー
ム２６ａが後退した後、基板電極２８に載置され、第２
ゲ・−１−バルブ２４を閉じるっつぎに真空搬送室２１
を一山び窒素ガスの導入により大気圧に戻し、第１ゲー
１−バルブ２３ケ開き同様にしてウェハ１９の次に供給
される２枚１−１のウェハ１９ａ（図示せず）を搬入ア
ーム２６ａ上に移載し真空搬送室２１内に搬入し内部全
真空υ１気し、反応室２６内のウェハ１９のドライエツ
チングが終了する寸で待機する。
ウェハ１９が搬入された反応室２６内には、ドライエツ
チングのための処理ガス金離し、真空制気口２７より排
気しろ二から排気調整ブｌ″などにより、設定圧力を保
し、内）りＩＳに設けられた一対の５１′行＼１′板電
極の一方に１３．５６ＭＨ２の高周波電力を印加し、プ
ラズマ放？１１．奮起こしウェハ１９」二の処理膜をド
ライエツチングする。ドライエツチングが終了すると、
移載ピン２９によりウェハ１９看斗〒ち上げ第２ゲート
バルブ２４を開き、搬出アーム２６ｂを搬入アート２６
２Ｌと同（・ｐの動イ′１により移載ビンの軸心上まで
移ｄＵ＋させ、移載ピン２９ケ下降しウェハ１９を搬出
アーム先端のウェハ受は部に移・賎し、搬出アーム２５
ｂは真空搬送室２１内に戻される。つぎにウェハ１９ａ
（ｉ７戦同じた搬入アーム２５ａが基板電極２８上に移
！ＩＩＪ＋ Ｌ、移載ピンによりウェハ１９ａ（ｉ７基
板電極上に・代作するとともに搬入アーム２６２Ｌを真
空搬送室２１内に戻し、第２ゲートバルブ２４ｆ：閉じ
る。つきに反応室２６内ではウェハ１９ａのドライエッ
チフグ全行ない、真空搬送室２１内には窒素ガス全導入
し大気圧に戻して第１ゲー！・バルブ２３′ｆｒ：開き
搬出アーム２５ｂ’ｉ移載ビン２０の軸・し上に移動し
、移・賎ピン２ｏによりウェハ１９金持ち上げ搬出アー
ム２５ｂ（Ｈ真空搬送室２１内に戻し、移・賎ビン２０
を下降し、ウェハ１９金外部に取り出し、３枚１・１の
ウェハ１９ｂが移１１ｉｋビン２０上に供給され、移１
賎ピア２０により持ち上げ、搬入アームを移載ピン２ｏ
の軸７シ・上まで移動し、移載ピン２０ｉ下降さぜ、ウ
ェハ１９ｂ’ｉ、１ＩｌＱ人アーム２６２Ｌ上に移・賎
し、搬入アーム２６ａｆ６：真空搬送室２１内に戻し第
１ゲートバルブ２３を閉じるっ以後順次同じ動作を繰り
返す、 以上のように本実施例によれば、１個の４空搬送室内に
処理物であるウェハを移載する２組の搬送アームと、そ
ｈ−それの搬送アーム全旋回するための回転支持部をも
つ旋回アームと、旋回アームに固定され各々が独）′Ｌ
して回転駆動さ７１、しかも同心にｅ記１べした２木の
回転軸と、旋回−ｆ−ムの回転方向とは逆向きに搬送ア
ームを旋回させる反転駆り０１部を設けることにより、
ウェハ搬入」ＩＶ、り出しのための真空順送基金１個に
することができ、ゲ＼ −１−バルブの数も削減でき、搬送゛アームの１ｊＪ７
動部分も同・し・にすることに上り同・しに構成し／こ
２組の回１１シ、軸に回転を与°えるだけで搬送アーム
の移動が可能になり搬ｉＡ系の部品も大幅に削減でき、
さらにＪ−１１−空構成部品も削減でき、装置ｔｆ１７
造を−）７（ｉ素化することかできだ。
チングのための処理ガス金離し、真空制気口２７より排
気しろ二から排気調整ブｌ″などにより、設定圧力を保
し、内）りＩＳに設けられた一対の５１′行＼１′板電
極の一方に１３．５６ＭＨ２の高周波電力を印加し、プ
ラズマ放？１１．奮起こしウェハ１９」二の処理膜をド
ライエツチングする。ドライエツチングが終了すると、
移載ピン２９によりウェハ１９看斗〒ち上げ第２ゲート
バルブ２４を開き、搬出アーム２６ｂを搬入アート２６
２Ｌと同（・ｐの動イ′１により移載ビンの軸心上まで
移ｄＵ＋させ、移載ピン２９ケ下降しウェハ１９を搬出
アーム先端のウェハ受は部に移・賎し、搬出アーム２５
ｂは真空搬送室２１内に戻される。つぎにウェハ１９ａ
（ｉ７戦同じた搬入アーム２５ａが基板電極２８上に移
！ＩＩＪ＋ Ｌ、移載ピンによりウェハ１９ａ（ｉ７基
板電極上に・代作するとともに搬入アーム２６２Ｌを真
空搬送室２１内に戻し、第２ゲートバルブ２４ｆ：閉じ
る。つきに反応室２６内ではウェハ１９ａのドライエッ
チフグ全行ない、真空搬送室２１内には窒素ガス全導入
し大気圧に戻して第１ゲー！・バルブ２３′ｆｒ：開き
搬出アーム２５ｂ’ｉ移載ビン２０の軸・し上に移動し
、移・賎ピン２ｏによりウェハ１９金持ち上げ搬出アー
ム２５ｂ（Ｈ真空搬送室２１内に戻し、移・賎ビン２０
を下降し、ウェハ１９金外部に取り出し、３枚１・１の
ウェハ１９ｂが移１１ｉｋビン２０上に供給され、移１
賎ピア２０により持ち上げ、搬入アームを移載ピン２ｏ
の軸７シ・上まで移動し、移載ピン２０ｉ下降さぜ、ウ
ェハ１９ｂ’ｉ、１ＩｌＱ人アーム２６２Ｌ上に移・賎
し、搬入アーム２６ａｆ６：真空搬送室２１内に戻し第
１ゲートバルブ２３を閉じるっ以後順次同じ動作を繰り
返す、 以上のように本実施例によれば、１個の４空搬送室内に
処理物であるウェハを移載する２組の搬送アームと、そ
ｈ−それの搬送アーム全旋回するための回転支持部をも
つ旋回アームと、旋回アームに固定され各々が独）′Ｌ
して回転駆動さ７１、しかも同心にｅ記１べした２木の
回転軸と、旋回−ｆ−ムの回転方向とは逆向きに搬送ア
ームを旋回させる反転駆り０１部を設けることにより、
ウェハ搬入」ＩＶ、り出しのための真空順送基金１個に
することができ、ゲ＼ −１−バルブの数も削減でき、搬送゛アームの１ｊＪ７
動部分も同・し・にすることに上り同・しに構成し／こ
２組の回１１シ、軸に回転を与°えるだけで搬送アーム
の移動が可能になり搬ｉＡ系の部品も大幅に削減でき、
さらにＪ−１１−空構成部品も削減でき、装置ｔｆ１７
造を−）７（ｉ素化することかできだ。
なお実施例において反転駆！７＋ ｉτＩＳに３ｆΦの
歯［ｌＩ′を用いたか、ペルー−などの伝達手段でもよ
く、７’７ ｉ＋旋回アームの回転方向を逆転して搬送
アームに伝えられたらよい。
歯［ｌＩ′を用いたか、ペルー−などの伝達手段でもよ
く、７’７ ｉ＋旋回アームの回転方向を逆転して搬送
アームに伝えられたらよい。
発明の効果
以上のように本発明は真空ポンプに接続された１個の真
空搬送室内に搬送物ケ移載する２組の搬送アームを設け
、それぞれの搬送アームを旋回するための回転支持部を
もつ旋回アームと、旋回アームに固定さり、各４が独立
して回転駆動され、しかもｆｉｌ・ｂに配置した２本の
回転軸と、旋回アームと搬送アームを逆向きに旋回させ
る反転駆動部と真空搬送室の側壁に搬送路の開閉のため
のグー１−バルブ金設けることにより、真空搬送室を１
個ＶＣ削減でき、グー１−バルブの数も半減でき、真空
＋１６成部品も大幅に削減できるなど、′！Ａ置装造の
簡素化がはかれ、真空搬送室１（ｌＩ！ｉｌたけを直空
Ｊ−１１気ずれによく、排気１１４間も削減でき、搬送
のために費やす時間が短縮できるなど、単位時間あたり
の処ｌ￥１！数景も向上するなど、その実用的効果回１
人なるものかある。
空搬送室内に搬送物ケ移載する２組の搬送アームを設け
、それぞれの搬送アームを旋回するための回転支持部を
もつ旋回アームと、旋回アームに固定さり、各４が独立
して回転駆動され、しかもｆｉｌ・ｂに配置した２本の
回転軸と、旋回アームと搬送アームを逆向きに旋回させ
る反転駆動部と真空搬送室の側壁に搬送路の開閉のため
のグー１−バルブ金設けることにより、真空搬送室を１
個ＶＣ削減でき、グー１−バルブの数も半減でき、真空
＋１６成部品も大幅に削減できるなど、′！Ａ置装造の
簡素化がはかれ、真空搬送室１（ｌＩ！ｉｌたけを直空
Ｊ−１１気ずれによく、排気１１４間も削減でき、搬送
のために費やす時間が短縮できるなど、単位時間あたり
の処ｌ￥１！数景も向上するなど、その実用的効果回１
人なるものかある。
第１図口、従来の真空中での搬送装置の配置図、第２図
は本発明の一実施例における真空中における搬送装置の
配置図、第３図は第２１シ１の搬送部の構造を示す斜視
図である。 １９・・・・・・ウェハ、２１・・・一真空搬送室、２
３・・・第１ゲー１−バルブ、２４・・第２ゲ−１−バ
ルブ、２５２Ｌ ・・搬入アーム、２５ｂ ・・搬出ア
ーム、３Ｑａ 、３０ｂ−・”旋回アーム、３１ａ．、
３ｌｂ・・回転軸、３２・・・・・輔受け、３３ａ 、
３３ｂ・・・軸、３ ４ ａ． 、 ３ ４ ｂ・−族
１川ｉＡ４中、３５ａ。 ３５ｂ・・ ・中間＋．ｑＸｒ中、３６・・・・・・固
定１東中、３７支持体、３８ａ 、 ３ｓｂ−回転山中
、３ つａ１３９ｂ ・・駆動山中、４０ａ，４０ｂ・
モータ。 代ＪＭ１人の氏名 ！「理士 中 尾 敏 男 ほか１
名第１図 第２図 幻奴 第 ３ 図
は本発明の一実施例における真空中における搬送装置の
配置図、第３図は第２１シ１の搬送部の構造を示す斜視
図である。 １９・・・・・・ウェハ、２１・・・一真空搬送室、２
３・・・第１ゲー１−バルブ、２４・・第２ゲ−１−バ
ルブ、２５２Ｌ ・・搬入アーム、２５ｂ ・・搬出ア
ーム、３Ｑａ 、３０ｂ−・”旋回アーム、３１ａ．、
３ｌｂ・・回転軸、３２・・・・・輔受け、３３ａ 、
３３ｂ・・・軸、３ ４ ａ． 、 ３ ４ ｂ・−族
１川ｉＡ４中、３５ａ。 ３５ｂ・・ ・中間＋．ｑＸｒ中、３６・・・・・・固
定１東中、３７支持体、３８ａ 、 ３ｓｂ−回転山中
、３ つａ１３９ｂ ・・駆動山中、４０ａ，４０ｂ・
モータ。 代ＪＭ１人の氏名 ！「理士 中 尾 敏 男 ほか１
名第１図 第２図 幻奴 第 ３ 図
Claims (1)
- 真空抽気手段に接続された１個の真空搬送室内にあって
、搬送物を移載する２組の搬送アームと、それぞれの搬
送アームを旋回するだめの回転支持部ケもつ旋回アーム
と、前記旋回アームに固定され、各４が独立して回転駆
動されかつ同心に配置した２木の回転軸と、旋回アーム
の回転方向とは逆向きに搬送アーム全旋回させる反転駆
動手段と、前記真空搬送室の側壁に搬送路の開閉手段と
を設けた真空中における搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58206131A JPS6098628A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 真空中における搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58206131A JPS6098628A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 真空中における搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6098628A true JPS6098628A (ja) | 1985-06-01 |
Family
ID=16518294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58206131A Pending JPS6098628A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | 真空中における搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6098628A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62195143A (ja) * | 1986-02-21 | 1987-08-27 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 基板の高速変換装置及び方法 |
| JPH0215623A (ja) * | 1988-04-25 | 1990-01-19 | Applied Materials Inc | 磁場エンハンス型プラズマエッチ反応器 |
| JPH0283182A (ja) * | 1988-09-16 | 1990-03-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ハンドリングユニット |
| US5314294A (en) * | 1991-07-31 | 1994-05-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor substrate transport arm for semiconductor substrate processing apparatus |
| EP0843340A3 (en) * | 1996-11-18 | 1999-02-17 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for processing wafers |
| JP2000512082A (ja) * | 1996-06-13 | 2000-09-12 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | マルチレベル基板処理装置 |
| US6635115B1 (en) | 1996-11-18 | 2003-10-21 | Applied Materials Inc. | Tandem process chamber |
-
1983
- 1983-11-02 JP JP58206131A patent/JPS6098628A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2008258650A (ja) * | 1996-06-13 | 2008-10-23 | Brooks Autom Inc | マルチレベル基板処理装置 |
| EP0843340A3 (en) * | 1996-11-18 | 1999-02-17 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for processing wafers |
| US6635115B1 (en) | 1996-11-18 | 2003-10-21 | Applied Materials Inc. | Tandem process chamber |
| US7655092B2 (en) | 1996-11-18 | 2010-02-02 | Applied Materials, Inc. | Tandem process chamber |
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