JPS6099534U - 半導体ウエハの洗浄用容器 - Google Patents

半導体ウエハの洗浄用容器

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Publication number
JPS6099534U
JPS6099534U JP12401683U JP12401683U JPS6099534U JP S6099534 U JPS6099534 U JP S6099534U JP 12401683 U JP12401683 U JP 12401683U JP 12401683 U JP12401683 U JP 12401683U JP S6099534 U JPS6099534 U JP S6099534U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
container
semiconductor wafers
cleaning
duct
main body
Prior art date
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Pending
Application number
JP12401683U
Other languages
English (en)
Inventor
戸賀崎　邦彰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP12401683U priority Critical patent/JPS6099534U/ja
Publication of JPS6099534U publication Critical patent/JPS6099534U/ja
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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の半導体ウェハの洗浄用容器の一実施例
を示す斜視図、第２図はその平面図、第３図は概略断面
図、第４図は制御盤の一例を示す正面図である。 １・・・容器本体、２・・・側壁、３・・・ダクト、４
・・・ターンテーブル、５…噴液ノズル、ト・ｅダンパ
ーバルブ、８・・・ウェハキャリア、９・・・モータ、
１１・・・蓋、１２・・・クレードル。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　半導体ウェハを収納し、これに洗浄等の処理を施す
    半導体ウェハの洗浄用容器において、容器本体１の周壁
    ２に、その接線方向に突出するよう排気および排液用の
    ダクト３を形成するとともに、収納した半導体ウェハに
    対して本体１の周壁２側から噴液する噴液ノズル５を付
    設したことを特徴とする半導体ウエノ１の洗浄用容器。 ２　ダクト３が、容器本体１の側壁２の底部から半分以
    上の高さにわたって開口してなる実用新案登録請求の範
    囲第１項記載の半導体ウニ／％の洗浄用容器。 ３　ダクト３が、容器本体１にやや下向き勾配に突設し
    てなる実用新案登録請求の範囲第１項または第２項記載
    の半導体ウェハの洗浄用容器。 ４　ダクト３が、自動的に開閉する□ダンパーバルブ７
    を内蔵してなる実用新案登録請求の範囲第′　　１項な
    いし第３項のいずれかに記載の半導体ウェハの洗浄用容
    器。 ５　噴液ノズル５が、本体１の周壁２の上下にわたって
    水平方向に噴液するよう連設されてなる実用新案登録請
    求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の半導体
    ウェハの洗浄用容器。 ６　噴射ノズル５が、本体１内に収納した半導体ウェハ
    に対し、斜め横方向から噴液するよう本体１に付設して
    なる実用新案登録請求の範囲第１項ないし第５項のいず
    れかに記載の半導体ウェハの洗浄用容器。
JP12401683U 1983-08-09 1983-08-09 半導体ウエハの洗浄用容器 Pending JPS6099534U (ja)

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JPS6099534U true JPS6099534U (ja) 1985-07-06

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