JPS61104659A - 半導体固体撮像素子アレイ - Google Patents

半導体固体撮像素子アレイ

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Publication number
JPS61104659A
JPS61104659A JP59225716A JP22571684A JPS61104659A JP S61104659 A JPS61104659 A JP S61104659A JP 59225716 A JP59225716 A JP 59225716A JP 22571684 A JP22571684 A JP 22571684A JP S61104659 A JPS61104659 A JP S61104659A
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JP
Japan
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image sensor
state image
sensor array
foreign object
solid
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Application number
JP59225716A
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English (en)
Inventor
Mitsuyoshi Koizumi
小泉 光義
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors
    • H10F39/191Photoconductor image sensors

Landscapes

  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Facsimile Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は例えば半導体LSIウェへ、特にLSI製造中
間工程でのパターン付ウェハ上の最小異物を高速、高感
度で検出する異物検査装置等に用いられる半導体固体撮
像素子アレイに関する。
〔発明の背景〕
以下ウニへ上の異物検査装置を例にして発明の詳細な説
明する。
従来のウェハ上の異物検査装置では(:)レーザ光の一
次元高速走査と試料の並進低速移動の組み合わせや(I
I)特開昭55−155551 (公知・列4)に示す
様な試料の高速回転と並進低速移動との組合わせによる
ら線状走査を用いて、試料全面の走査・検出を行なって
いた。又、vj開昭57−8054S(公知例1)では
自己走萱型−次元光電変換素子アレイの電気的走査と試
料低速移動を組み合わせて上記(1)と同等の走査を実
現している。更に1.kwlorrvdirc、 1%
(AcycLルcaAf antl VVatl鵜1r
wp<ciirtn。
H,1!4ci44−rLLcz T<d、 Vd、 
4. m5. M(Ll 1981 、 PP、60−
70、(公知例2)は試料クエへの半径位置に自己走査
型−次元光電変換素子アレイを配置し、これと試料の回
転移動を組み合わせて上記(Il)と同等の走査を実現
している。
しかし、公知例1,2の方法では、個々の光電変換素子
絵素の隣接部に存在する不感帯が異物を走査した場合の
異物のぎ見逃し“を避ける事が出来ない。厳密にこれを
避けるためには、不感帯をカバーする様に複数の光電素
子アレイを重膜して設置する必要がある。これは必要以
上に信号処理回装置を多くして、かつ信頼性を低丁させ
る原因となる。しかし、光電末子アレイを重複しなくて
も上記不感帯幅に比べて検出すべき異物の大きさが十分
大きい場合や、光電変換素子絵未幅の合計に比へ不感帯
幅の合d[が無視出来る程度に小さい場合には、上記1
見逃。
し“は大きな問題とならない。公知例1,2の方法では
このような観点から不感帯による1見逃し“は無視して
おり論じていない。
〔パターン付ウェハ上の異物検出〕
LSfJ造の中間工程でのパターン付りエハ上の異物検
査作業は、製品歩留り向上、信頼性向上の為に不叫決で
ある。この作業の自動化は特開昭55−149829.
特開昭54−101390.特開昭55−94145.
特開昭56−30650等の一連の特許に示されている
様に偏光を利用した検出方法により実現されている。こ
の原理を第21〜第28図を使用して説明する。
第17図に示す如く、照明光4をウェハ1人面に対して
傾斜角度−で照射したのみでは、ノ曳ターン2.と異物
3から同時に反射光と散乱光5゜6が発生するので、パ
ターン2から異物5のみを弁別して検出することは出来
ない。そこで照6射光4として、偏光レーザ光を使用し
、異物3゜を検出する工夫を行なった。
第18図(cL)に示す如く、ウェハ1上に存在す。
るパターン2にS偏光レーザ光4を照射する。−(ここ
で、レーザ光4の゛電気ベクトル10がクエ。
ハ表1mに平行な場合を8偏光レーザ照明と呼ぶ。、)
一般如、パターン20衣而凹凸は微視的に見ると照IJ
FJ+′tt/)波長に比べ十分小さく、光学的に滑ら
かでろるりで、その反射光5もSuj光成分11が保た
れる。従って、S偏光遮光の検光子13を反射光5光路
中に設置すれば、反射光5は遮光され、光電変換素子7
には致達しない。一方、第18図(句に示す如く、異物
3からの散乱光6r(はS偏光1戊分11に加えてP−
制光成分12も含まれる。これは、異物3表面は徂く、
偏光が解消される結果、P偏光成分12が発生するから
である。従って、検光子13を通過するP偏光成分14
イ光鷹変換累子7によジ検出すれば、異物3の検出が出
来る。
ここでパターン反射光は、第17図に示す様にレーザ光
4に対してパターン2の長手方向となす角度が直角の場
合如は、反射光5は検光子13により完全に遮光される
が、この角度が直角と異なる場合は完全には遮光されな
い。この考察は計測自動制御字余論文集のVOI/ 1
7.蔗2. P262〜P242.1981 、に述べ
ている。これによれば、この角1耀が直角より±3D 
 以内の範17Hのパターンからの反射光のみが、ウェ
ハ上方に設置した対物レンズに入射するので、この範囲
のパターン反射光5は検光子13により完全には遮光さ
れないが、その強度は2〜3μrn異物散乱元と弁別出
来る程度に小さいので、実用上問題とならない。
ここで偏光レーザ光4の傾斜角度−は1°〜6゜程度忙
設定している。5これは以下に示す理由による。第19
図に示す実験では、S偏光レーザ4に対する2μm−異
物散乱光の検光子13通過成分14の強度Vsとバター
・ン反射光5の検光子成分強K Vp 全対物しy:I
9(倍率40x、 N−A=0.55ンを用いて測定し
た。実験結果を第20図に示す。これはレーザ煩斜角度
φを横軸にと9、異物・パターンの弁別比Vs/Vpを
プロットした。同図よ。
シ#4斜角度φが5°以下の場合にVsはVpと容易に
弁別出来るので、安定な異物検出が可能となる。
又、設計的な事柄を考慮すると、φ=1°〜3°が最適
である。(特開昭56−30630参照)ここで、レー
ザ光源15は左右から2り用いて。
いるのは、異方性を有する散乱光を発生ずる異物に対し
て安定な検出を可能とする目的からである。
次に、この検出原理を用いた異物検量方法を第21〜第
24図に説明する。
第21図(−)に示す様に、検出範囲を制限する為にス
リ、ト8を試料結像面に設ける。これによりスリット8
の開口部の試料上への投影面積8cLの範囲内の散乱光
のみが一度に検出されるので、この面積内でのパターン
反射光P成分の積算強度14PK比べて異物散乱光P成
分14dが十分大よければ、異物3が安定に検出出来る
。故に、この面o1t8*は検出すべよ異物の大きさく
2〜3μm)と同程度の大きさにすれば、検出感度が最
適となるが、第21図(旬に示す様な走査回数が多くな
り、長時間の検査時間を有する。逆に開口面構8cLを
大きくすると、短時間に検査が出来るが、検出感度が劣
化する結果となる。これを考慮して、現在では面積86
Lを10 X 200μmとして、2〜3μmの異物を
約2分で(150C1111ウエハの場合)検査してい
る。この様子な第22図、第23図を用いて説明する。
まず、第22図ではウェハ表面の平面図(−)と断面図
(b)を示す。パターン2には(1)パターンの僅かな
凹みや(11)レーザ光4の照射方向に対して直角以外
の角度を有する個所があシ、この個所の各々から僅かな
散乱光P成分14Pが発生する。一方、0.5〜2μm
程度の大きさの小異物3aと2μm以上の大異物3kか
らは、上記(1)(It)の個所の各々に比べて大きな
強度のP成分14iが発生する。
第23図には、開口8aが試料上を走査した場合の光電
変換素子7の信号出力を示す。同図(cL)ではP成分
14p(回路パターン)及び14d(異物〕の試料上の
分布を示す。この分布上を開口8cLが走査すると同図
(b)に示す映像伯°号出力Vpを得、これを二値化す
ると同図(e)に示す欠陥信号が得られる。この例では
小異物3aとパターン2のエツジからの出力が同一であ
るので、破線で示す閾値はこの出力よシ高い位置に設定
せざるを得ないので、この結果、大異物のみの検出に限
定される。
しかし、2SKb自メモ9−LSIに代衣される高集積
LSIの製造においては、1μmの大きさの異物の存在
が製品歩留りに大よく影響するので、1μrm異物の検
出感度が必要となる。これは刀・25図に示す装置で開
口8aを5×5μm2以下に制限すれは、前記(1) 
、 (II)の散乱光P成分の積算効果が、口8aが1
0X200μ−+C比べて低減されるので、その結果、
1μIII異物検出が可能となる。
しかし、この場合、検量時間が約40倍とな多、製造ス
ループットとの同期が収れず、実用化に問題がある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、被検出物体上を万遍ノIlt <走査
して撮像できるようにした半導体固体撮像素子アレイを
提供するにある。
〔発明の概要〕
本発明では固体撮像素子アレイの配列方向に対してアレ
イを千鳥型に配置し、連列に出力しつるように構成した
ことを特徴とする半導体固体撮像素子アレイである。
〔発明の実施例〕
第1図〜第15図を用いて本発明の実施例を詳細に説明
する。
第1図では、従来例第23図のスジ、ト8に代夛、固体
撮像素子アレイ20を用いる様子を示す。
第2図は固体撮像素子アレイ20の例を説明する。受光
部20aはシリコンフォトダイオードやQaAsPフォ
トダイオードであり、このうちで特にPIN接合型のも
のが、高速応答性、高感度の特性を有し、本発明の用途
にR遍である。各々の受光部20Qは千鳥型に配置して
(画素)の大きさの幅は500μmであり、lla[す
る画素の間には不感帯を設けた。画素数は40ケを有し
てい。
る場合、例えは検出系の総合倍率1oo1’l(対物。
レンズ90倍率40×と9レーレンズ(図示せず)の倍
率25×の場合)とすれは、1画素の大きさ、は試料面
上で5×8μrn2となり、結局5 x 220μm2
゜の範囲を検出しながら定食していることになシ、。
従来と同程度の検査速度となる。
この固体撮像素子アレイ20の効果を第3図に説明する
。比較の為、同図(cL)、(b)、(C)に固体撮像
素子アレイ20の場合を示し、同図(d)、(e)。
(f)に第23図に示す従来例の場合を示す。同図(α
)は固体撮像素子アレイ20がウェハ上を走査して検出
する状態を示し、同図(b)は固体撮像素子アレイ20
の各々の画素(”*/+’μ、?l’L)から得られる
映慮信号A1,71.4μm1m1を示し、同図(C)
は′?!rm 像信号L1.71.4 、A1.mlを
各々閾値VTH−Q二値化して得られる二値化信号L2
 pigμ2μ22m2を示す図である。更に同図(d
)はスリット8がウェハ上を走査されて光電変換素子7
で検出する状態を示し、同図(e)は光電変換素子7か
ら得られる映像信号Vを示し、同図(f)はこの映像信
号をVTR’の閾値で二値化された二値化信号を示す図
である。なお、同図(α)、(b)、(C) Kは説明
を簡単にするため、画素数を5ケ(L、jμ。
19m)としている。この図から明らかなように、画素
Aの出力信号A1を閾値VTHで二値化すれは二値化信
号〃2は小異物3aでも11″′となり、従来に比べて
感度向上が得られる。
第4図には、固体撮像素子アレイ20の谷々の画素の信
号処理方法を示す。画素L〜九の各々の出力は二値化回
路21モ並列に同時に二値化されて、二値化信号(’1
”)はOR回路22に導かれ、少なくても一つの画絵で
異物が検出された場合にOR回路の出力は′1″′とな
り、異物メモリ23に入力する。この方法により、40
りの画素出力は同時並列処理され、自己走肴型撮慮素子
を用いた場合に比べて大幅な検査速度及び検出感度の向
上が計れる。
しかしながら、固体撮像素子アレイ20の画素(受光部
)20αが大巾にオーバラップしているため牙5図に示
すようなことにはならない。
即ら第5図及びオフ図に示す様に固体撮鐵素子アレイ2
0′の配列方向と走査方向とが直角の場合で、画素りと
Jの間の不感帯と小異物6Gの関係が同図の様な場合に
は、小異物3Gを見逃してしまう。
そこで、第6図及び第8図に示す如く、固体撮像素子ア
レイ20の画素20cLを配列方向にオーパラ、プする
ように千鳥型に配列すれば、上記見逃しを避けることが
出来る。なお、このオーバラップの量は検出しようとす
る小異物3Gの直径にほぼ等しくすればよい。
第6図及び第8図では小異物5Gは画素j、kにより重
複して検出されるI!能性があるので結果としてダブル
カウントされる。しかし、このダブルカウントを避ける
方法として特開昭56−132549や特開昭!M−1
18187や特開昭57−66345や特開昭56−1
26747や特開昭56−118647で述べている方
法を用いればよい。
第9図は、ら線状走査の場合での本発明の適用例を示す
第10図は実施例の全体構成を示す。クエハ1は真空チ
ューブ41でウェハチャック40に吸着されながら、X
ステージ46及びYステージ49によりXY方向に′$
励する。固体撮像素子アレイ20で検出された異物情報
は二値化回路21,0几回路22を経て異物メモリ23
を包含する制御回路32に至り、衆示装置33で衣示さ
れる。
本発明では画素の大きさを5X8μ−程度以下にしてい
るので、クエへ表面のうねシに起因する焦点ずれが検食
中に発生すると、異物検出感度が著しく低−ドする。そ
こで、自動焦点検出部30により、検査中に焦点ずれ量
を検出して、焦点機構用モータ43のドライバー31に
フィードバックする構成を用いることが不可欠である。
この自動焦点機能の原理は第22回5ICE学術講演会
前刷果のP225〜P224に発表し、及び特開昭58
−70540に記載されている通りであるが、第11図
〜第13図を用いてこの原理を説明する。
この方法は試料上のパターンに影響されずに安定に自動
焦点を行なうことに特徴があるので、本発明には最適で
ある。
第11図には自動焦点検出部30の主要部を示す。
i4パターンガラス板上の縞パターン60a、6a4 
ハ各々対物レンズ9により試料上に投影されるが、各々
の合焦点位置は撮像素子アレイ20の合焦点に対して若
干上がりすぎ及び下が9すぎに設定されいる。各々の縞
パターン6On、60−6の試料上  ゛の像は対物レ
ンズ9で拡大され、半透過ミラー34.62で反射され
、撮鍬素子61の上に結像される。
第12図(cL)はウェハ丁がり(Z>0)の場合、撮
像素子61上に結像される投影縞パターンを示し、第1
2図(d)は第12図(cL)に示す場合における撮像
素子61で検出される映像信号波形を示す。
第12図(b)は合焦点位置(2=0)の場合、撮像素
子61上に結像される投影パターンを示し、第12図(
e)は第12図(b)に示す場合における撮像素子61
で検出される映像信号波形を示す。刀・12図(C)は
ウェハ上がシすr(Z>0)の場合、撮像素子61上に
結像される投影縞パターンを示し、第12図(f)は第
12図(C)に示す場合における撮飲素子61で検出さ
れる映像信号波形を示す。
従って撮像素子61の検出信号は撮像素子アレイ20が
合焦点の場合には縞パターン60cLトロ0bに対応す
る個所で等しくなるので両者の差信号は零となる。
一方、上がpすぎ(又は下がシすぎ)の場合には撮像素
子200合焦点からのずれと差信号の出力の大きさが対
応するので、第13図に示すツ・−車信号が得られる。
同図では試料面がアルミ面の場合と複雑なパターン(メ
モ9−セル面)の場合で差信号の実測例を示す。′これ
により±0.5μm以内の焦点合わせが可能となるので
、対物レンズ90倍率40×の場合には、安定した異物
検出が可能となる。自動焦点機構として、例えば第10
図に示すような、モータ43.斜面45゜球44.板バ
ネ42を用いる構成が簡単である。
次に本発明の飴の一実施例を説明する。即ち第14図に
示すように受光部200tLを台形に形成し ゝて千鳥
状に配置しても前記実施例と同様な作用効果を達成する
ことがでよる。なお、200bは不感帯領域を示す。
このように固体撮像素子アレイは第15図及び第16図
に示すように外部ビンへ接続するために、ボンディング
バッド部20e、 200e、配@ 2od、2o。
dが不可欠であシ、受光部(画素)20α、 2ooa
は受光範囲以上に広くする必要がある。
そこで検出分解能を高める為、光学的遮光部20c、 
200cを印刷等によシ貼p付け、ボンディングバット
部20e、 200eや受光範囲外の個所を遮光するこ
とが肝要である。
また本発明はウェハ如限定されず、ホトマスクやレチク
ル等の曲の製品の検査にも適用可能である。
また画素の大きさの制限は10 X 12μm程度でも
、1.5μm〜2.u導の異物を検出する場合には実用
上差支えないことが実験によシ確認できている。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、被検出対象物を走
査する方向に関係なく満遍無く撮像することがでよ、検
査の高速性を維持しつつ、微小異物等のパターン検出を
高感度かつ安定に行なうことの出来る効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体固体撮像素子アレイが用いられ
る異物検査装置の一実施例を示す構成図、第2図は第1
図に示す半導体固体撮像素子アレイの詳細を示す斜視図
、第3図は本発明と従来例との比較を説明するための図
、第4図は第1図に示す半導体固体素子の出力信号処理
回路を示す図、第5図は不感帯と異物との位置関係ケ示
す図、第6図は本発明での画素(受光部)と異物との位
置関係を示す図、オフ図は第5図における半導体固体撮
像素子のクエへとの相対的走査方向を示す図、第8図は
第6図における半導体固体撮像素子のクエへとの相対的
走16・ 査方向を示す図、第9図は半導体固体撮像素子のクエへ
との相対的らせん状走査を示す図、第10図は第1図に
示す実施例を更に具゛体的に示した、構成図、第11図
は第10図に示す自動焦点検出部を示す斜視図、第12
図は自動焦点検出を説明するための図、第13図は第1
1図に示す自動焦点検出部から得られる差出力と焦点す
れとの関係を示した図、牙14図は第2図と異なる曲の
半導体固体撮1′J!素子アレイを示す図、第15図は
第14図に示すものを足に具体的に示した図、第16図
は第3図に示すものを更に具体的に示した図、第17図
はクエへを示す断面図、第18図は照射されたレーザ光
に対するウェハ上の回路パターンと異物からの反射状態
を示す図、第19図は従来の異物検出方法の第1例を示
す概略f+視図、第2口図は第19図で傾斜角度−を変
化させた場合の出力比Vs/Vpの測定データを示すグ
ラフ、第21図は従来の異物検出方法の第2例を示す概
略斜斜図、第22図はウェハ上の回路パターンと異物か
らの反射状態を示す図、第23図は第21図に示す如く
スリットを泪対的にウェハ上を走査して得られる映像信
号の関係等を示す図、1−24図は第21図に示す第2
例と同様に従来の異物検出方法を示す概略斜視図である
。 〔符号の#5i!明〕 20、200・・・光電変換用固体撮像素子アレイ、2
04.200a・・・受光部、20b、200b ・・
・不感帯。 菓1 ン 竿ZL 箪牛阻 笑ダ図 冨2図 箋77 20’ 竿8ワ 業n図 γ72図 箋 11 竿/+図 2oaf) 2θOcL ヱ15  図 2/ん図 箪/7図 /                  、、’   
      7草79図 O″5”      10” 革22  図 一一一りχ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  固体撮像素子アレイの配列方向に対してアレイを千鳥
    型に配置し、並列に出力しうるように構成したことを特
    徴とする半導体固体撮像素子アレイ。
JP59225716A 1984-10-29 1984-10-29 半導体固体撮像素子アレイ Pending JPS61104659A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59225716A JPS61104659A (ja) 1984-10-29 1984-10-29 半導体固体撮像素子アレイ

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59225716A JPS61104659A (ja) 1984-10-29 1984-10-29 半導体固体撮像素子アレイ

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JPS61104659A true JPS61104659A (ja) 1986-05-22

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ID=16833686

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59225716A Pending JPS61104659A (ja) 1984-10-29 1984-10-29 半導体固体撮像素子アレイ

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JP (1) JPS61104659A (ja)

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