JPS61106569A - L−アスパルチル−d−アミノ酸ジペプチドの枝鎖アミド類の中間体 - Google Patents
L−アスパルチル−d−アミノ酸ジペプチドの枝鎖アミド類の中間体Info
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- JPS61106569A JPS61106569A JP60213617A JP21361785A JPS61106569A JP S61106569 A JPS61106569 A JP S61106569A JP 60213617 A JP60213617 A JP 60213617A JP 21361785 A JP21361785 A JP 21361785A JP S61106569 A JPS61106569 A JP S61106569A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、甘味剤として有効なL−アスパルチル−D−
アラニン、L−アスパルチル−D−2−アミノ酪酸、L
−7スパルチルーD−バリン、L−7スパルテルーD−
ノルノ(リンの新7ミド類製造のための中間体に関連し
ている。
アラニン、L−アスパルチル−D−2−アミノ酪酸、L
−7スパルチルーD−バリン、L−7スパルテルーD−
ノルノ(リンの新7ミド類製造のための中間体に関連し
ている。
本発明の中間体から最終的に得られる甘味化合物は次式
01L−アスパルチル−D−アミノ酸ジペプチドアミ、
ど及び生理学的忙適当なカチオン塩及び酸付加塩である
。
01L−アスパルチル−D−アミノ酸ジペプチドアミ、
ど及び生理学的忙適当なカチオン塩及び酸付加塩である
。
式中、Pはメチル、エチル、n−プロピル、インプロピ
ル、Rは X)to、 S、 So、 5o2C=O,nトル)!
各々。
ル、Rは X)to、 S、 So、 5o2C=O,nトル)!
各々。
または1であって、nが1、pが0のときはXはOlS
またはSO□であ)、nとpが各々0のときは、XはS
、 SO□またはC=Ωである。
またはSO□であ)、nとpが各々0のときは、XはS
、 SO□またはC=Ωである。
本発明の中間体は、次式で表わされる:(式中、nがo
、 pが1の場合X1はo、 s、 so2、!
1 nlとplが各々0の場合、klはs、 so□、a=
。
、 pが1の場合X1はo、 s、 so2、!
1 nlとplが各々0の場合、klはs、 so□、a=
。
である)
上記式Iのジ−ブチドアミド類は、アミノ酸の結合法を
用いて都合よく製することができる。式(1)のシイブ
チドアミド類の良好な製法を以下に示す。
用いて都合よく製することができる。式(1)のシイブ
チドアミド類の良好な製法を以下に示す。
1:: 又はカルボキシル活性化誘導体(
式中、nl、plおよびXlは上述 の通シである)。
式中、nl、plおよびXlは上述 の通シである)。
上述のL−アスパラギン酸誘導体におけるQは既知のア
ミノ基保護基の一つであシ、ボイツソナス(Boise
onnas )によ、り Aavances is O
rganic Chem。
ミノ基保護基の一つであシ、ボイツソナス(Boise
onnas )によ、り Aavances is O
rganic Chem。
3、159−190 (1963)に記述されたように
選択的に除去できるものである。特に良好なアミノ−保
護基はベンジロキシカルボニル、ト二三ブチロキシカル
ボニルである。R10は炭素数1〜4のアルキル基また
はインジルである。用いたD−72二ン、D−2−アミ
ノ酪酸、D−バリン、D−ノルバリンはRが水素の遊離
のアミノ酸の形で良いが、allがメチル、エチルのよ
うなエステル残基を有するカルボン酸保護誘導体が良い
。又炭素数3〜12のトリアルキルシリルのようなシリ
ル基が良好である。このような基の特に良好なものはト
リメチルシリルである。これは経済的で効率的なためで
ある。
選択的に除去できるものである。特に良好なアミノ−保
護基はベンジロキシカルボニル、ト二三ブチロキシカル
ボニルである。R10は炭素数1〜4のアルキル基また
はインジルである。用いたD−72二ン、D−2−アミ
ノ酪酸、D−バリン、D−ノルバリンはRが水素の遊離
のアミノ酸の形で良いが、allがメチル、エチルのよ
うなエステル残基を有するカルボン酸保護誘導体が良い
。又炭素数3〜12のトリアルキルシリルのようなシリ
ル基が良好である。このような基の特に良好なものはト
リメチルシリルである。これは経済的で効率的なためで
ある。
上述の反応工程で、二保護化し−アスパラギン酸、を適
当なり一アミノ酸又はカルボキシ保護化誘導体と縮合し
式(It)の二保護化ジペプチドを製する。この工程は
ジシクロへキシルカルボジイミドの如き反応縮合剤の存
在下、二保護化アスパラギン酸と縮合させるが二保護化
アスパ2ギン酸のカルボキシル活性化誘導体を用い次男
が良い。このようなカルボキシル活性化誘導体の良好な
ものはクロライダ1無水物は混合無水物等である。効率
の点で特に良好なものは、上述二保護化し−アスパラギ
ン酸とクロロカルボン酸エステル、特に上述の炭素数1
〜4のアルキルエステルとの混合無水物である。良好な
混合無水物は経済的な点で、りはロカルボン酸のメチル
及びエチルエステル力ら製したものである。
当なり一アミノ酸又はカルボキシ保護化誘導体と縮合し
式(It)の二保護化ジペプチドを製する。この工程は
ジシクロへキシルカルボジイミドの如き反応縮合剤の存
在下、二保護化アスパラギン酸と縮合させるが二保護化
アスパ2ギン酸のカルボキシル活性化誘導体を用い次男
が良い。このようなカルボキシル活性化誘導体の良好な
ものはクロライダ1無水物は混合無水物等である。効率
の点で特に良好なものは、上述二保護化し−アスパラギ
ン酸とクロロカルボン酸エステル、特に上述の炭素数1
〜4のアルキルエステルとの混合無水物である。良好な
混合無水物は経済的な点で、りはロカルボン酸のメチル
及びエチルエステル力ら製したものである。
式(I)の化合物を製する特に良好な方法ではぜ一ター
ペンジルーN−インシロキシカルボニル−L−アスノラ
ギン酸をエチルクロロカルボネートと常法によシ反応せ
しめ対応する混合無水物を得る。
ペンジルーN−インシロキシカルボニル−L−アスノラ
ギン酸をエチルクロロカルボネートと常法によシ反応せ
しめ対応する混合無水物を得る。
別の容器中で市販のD−アミノ酸、R’CH(NH2)
COOH、又は既知のラセミ体アミノ酸の分割、〔山田
等、h圏9児シ、並、 4408 (1973)参照〕
によシ得られるD−アミノ酸を不活性溶媒中当量のトリ
メチルシリルクロフィトと反応せしめて、トリメチルシ
リルエステルを製する。この目的に適白な溶媒は例えば
、ピリジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミr1等であシ特に良好なものはジメチルホルムアミド
である。
COOH、又は既知のラセミ体アミノ酸の分割、〔山田
等、h圏9児シ、並、 4408 (1973)参照〕
によシ得られるD−アミノ酸を不活性溶媒中当量のトリ
メチルシリルクロフィトと反応せしめて、トリメチルシ
リルエステルを製する。この目的に適白な溶媒は例えば
、ピリジン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミr1等であシ特に良好なものはジメチルホルムアミド
である。
本方法に従った典型的な反応において、D−アミノ酸、
例えばD−アラニン、をジメチルホルムアミドに溶かし
、当量のトリメチルシリルクロライドを室温で加える。
例えばD−アラニン、をジメチルホルムアミドに溶かし
、当量のトリメチルシリルクロライドを室温で加える。
別のフラスコ中でベータベンジルN−ベンジロキシカル
ボニル−L−アスパラギン酸と1モル過剰の酸結合剤(
トリエチルアミンが良好)を、ジメチルホルムアミドと
ナト2ヒト90フランの混合液に溶かし、これに半量の
エチルクロロカルボネートを室温又はそれ以下で加え(
−25〜25℃、特に−1o−o℃が良好である)混合
物水物を製する。これにD−7ラニントリメチルシリル
エステルの溶液を室温で加える。反応は一般に1〜2時
間以内で完結し、この後反応混合物を水又は酸、例えば
塩酸中に注ぎ入れ、水に不溶の溶媒(例えばクロロホル
ム、メチレンクロライド、エチルエーテル)で抽出し、
常法で単離する。二保護化ジペプチド(II)は普通次
の工程に用いるのに十分な精度であるが、もし必要なら
、例えばカラムクロマドグ2フイーでさらに精製する。
ボニル−L−アスパラギン酸と1モル過剰の酸結合剤(
トリエチルアミンが良好)を、ジメチルホルムアミドと
ナト2ヒト90フランの混合液に溶かし、これに半量の
エチルクロロカルボネートを室温又はそれ以下で加え(
−25〜25℃、特に−1o−o℃が良好である)混合
物水物を製する。これにD−7ラニントリメチルシリル
エステルの溶液を室温で加える。反応は一般に1〜2時
間以内で完結し、この後反応混合物を水又は酸、例えば
塩酸中に注ぎ入れ、水に不溶の溶媒(例えばクロロホル
ム、メチレンクロライド、エチルエーテル)で抽出し、
常法で単離する。二保護化ジペプチド(II)は普通次
の工程に用いるのに十分な精度であるが、もし必要なら
、例えばカラムクロマドグ2フイーでさらに精製する。
本方法の第二工程において、二保護化ジベプチ司
ド(n)を当量の弐RNH2の一般アミンと反応せ
し・::111 め対応する式(I[)の二保護化ジペプチドアミド中間
体を製する。Ras Rt R”s Qは前述で明白な
ものである。
ド(n)を当量の弐RNH2の一般アミンと反応せ
し・::111 め対応する式(I[)の二保護化ジペプチドアミド中間
体を製する。Ras Rt R”s Qは前述で明白な
ものである。
第一工程におけるように、式(If)の化合物のカルボ
ン酸の形で、縮合剤、例えば、ジシクロへキシルカルボ
ジイミドを用いて式(III)の中間体を製することが
できるが、式(II)の化合物をカルボキシル活性化誘
導体、例えばクロライド、プロiイド、混合無水物等に
変換するのが良好である。一般に混合無水物が良好であ
る。こうして、Rがインジル、Qがベンジロキシカル康
ニルの式(II)の良好な化合物を用いて混合無水物を
製する。上述のように、良好な無水物は、クロロカルボ
ン酸エステルから製する。そのメチル又はエチルエステ
ルが良好である。式(n)の混合無水物はこの工程の第
一工程に述べた反応物、反応条件を用いて製する。典型
的には式(It)の化合物とトリエチルアミンをほぼ当
量用い、不活性溶媒中(例えばテトラヒーロフラン)で
合併し、混合物を約−10℃に冷却し、エチルクロロカ
ルボネートを加えて混合無水物を得る。次に当量の式R
NH2又はその溶液、例えば同じ不活性溶媒中の溶液を
、−50〜25℃で加える。一般には−35〜−5℃が
良好である。アミンを加えた後、混合物を室温に加温し
、反応が完了するまでこの温度を保持する。普通1〜2
0時間である。次に式(Iff)の中間体を単離し、も
し必要なら、式(I[)の化合物の製法で述べた方法で
精製する。
ン酸の形で、縮合剤、例えば、ジシクロへキシルカルボ
ジイミドを用いて式(III)の中間体を製することが
できるが、式(II)の化合物をカルボキシル活性化誘
導体、例えばクロライド、プロiイド、混合無水物等に
変換するのが良好である。一般に混合無水物が良好であ
る。こうして、Rがインジル、Qがベンジロキシカル康
ニルの式(II)の良好な化合物を用いて混合無水物を
製する。上述のように、良好な無水物は、クロロカルボ
ン酸エステルから製する。そのメチル又はエチルエステ
ルが良好である。式(n)の混合無水物はこの工程の第
一工程に述べた反応物、反応条件を用いて製する。典型
的には式(It)の化合物とトリエチルアミンをほぼ当
量用い、不活性溶媒中(例えばテトラヒーロフラン)で
合併し、混合物を約−10℃に冷却し、エチルクロロカ
ルボネートを加えて混合無水物を得る。次に当量の式R
NH2又はその溶液、例えば同じ不活性溶媒中の溶液を
、−50〜25℃で加える。一般には−35〜−5℃が
良好である。アミンを加えた後、混合物を室温に加温し
、反応が完了するまでこの温度を保持する。普通1〜2
0時間である。次に式(Iff)の中間体を単離し、も
し必要なら、式(I[)の化合物の製法で述べた方法で
精製する。
本方法の最終工程において、カルボキシル保護基RIO
及びアミノ保護基Qを除去し、目的とする式(I)の甘
味剤を製する。
及びアミノ保護基Qを除去し、目的とする式(I)の甘
味剤を製する。
式(III)のジベプチrアミドから保護基を除去する
方法は種々の因子に依存して変化する。二つの重要な因
子は保護基R,Qの性質、アミド置換基の性質である。
方法は種々の因子に依存して変化する。二つの重要な因
子は保護基R,Qの性質、アミド置換基の性質である。
例えば、R,Qがそれぞれ、特に良好な基、ベンジル、
ベンジロキシ−カルボニルで、Rがイオウ原子を含まな
い場合、保護基を除く、良好な方法は水素添加分解であ
る。しかしRがへ/ジル又は上述で明白なアルキル、Q
がtert−ブチロキシカルボニル、Rが上述の種々の
基である場合、ふつう加水分解で保護基を除去するのが
良好である。Rがアルキル、Qがベンジロキシカルボニ
ル、Rがイオウ原子を含まない場合、加水分解と水素添
加分解を併用するのが良好である。
ベンジロキシ−カルボニルで、Rがイオウ原子を含まな
い場合、保護基を除く、良好な方法は水素添加分解であ
る。しかしRがへ/ジル又は上述で明白なアルキル、Q
がtert−ブチロキシカルボニル、Rが上述の種々の
基である場合、ふつう加水分解で保護基を除去するのが
良好である。Rがアルキル、Qがベンジロキシカルボニ
ル、Rがイオウ原子を含まない場合、加水分解と水素添
加分解を併用するのが良好である。
式(III)の中間体から保護基を除くのに水素添加分
解を用いる場合貴金属触媒(/(ラジウムが良好)の存
在下、不活性溶媒中で行うとよい。このような溶媒の例
としてはメタノール、エタノール、インプロパツール、
n−ブタノール等の低級アルカノール:f)rヒYcx
7:yン、エチルエーテル、1、2−0メトキシエタン
、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類;酢酸エチル、メチルプロピオネート、ジメチルスク
シネート等のエステル類、及びジメチルホルムアミド等
である。このような溶媒で特に良好なものは、経済性と
効率の点でメタノール、エタノールである。水素添加分
解は高温高圧で行うことができるが室温で1〜10気圧
が経済性と都合良さの点で良好である。良好な温度と圧
力で普通30分〜6時間で完了し、この後、触媒を除去
しく一般にはf遇する)、溶媒を留去し、もし必要なら
常法に従い生成物を精製する。例えば再結晶法文はカラ
ムクロマドグラフィー。
解を用いる場合貴金属触媒(/(ラジウムが良好)の存
在下、不活性溶媒中で行うとよい。このような溶媒の例
としてはメタノール、エタノール、インプロパツール、
n−ブタノール等の低級アルカノール:f)rヒYcx
7:yン、エチルエーテル、1、2−0メトキシエタン
、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類;酢酸エチル、メチルプロピオネート、ジメチルスク
シネート等のエステル類、及びジメチルホルムアミド等
である。このような溶媒で特に良好なものは、経済性と
効率の点でメタノール、エタノールである。水素添加分
解は高温高圧で行うことができるが室温で1〜10気圧
が経済性と都合良さの点で良好である。良好な温度と圧
力で普通30分〜6時間で完了し、この後、触媒を除去
しく一般にはf遇する)、溶媒を留去し、もし必要なら
常法に従い生成物を精製する。例えば再結晶法文はカラ
ムクロマドグラフィー。
保護基R及びQの一つ又は両方を除去するのに加水分解
を用いる場合、エステル類のアルカリ又は酸加水分解で
知られた方法を用いると良い結果が得られる。しかしな
がら、保護基Rを加水分解で除去しなげればならない場
合、アルカリ加水分解が良好である。特に良好な条件は
少くとも当量の強塩基、例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、を用い、水及び低級アルカノール、特に
メタノール、エタノールの存在下室温で行う。
を用いる場合、エステル類のアルカリ又は酸加水分解で
知られた方法を用いると良い結果が得られる。しかしな
がら、保護基Rを加水分解で除去しなげればならない場
合、アルカリ加水分解が良好である。特に良好な条件は
少くとも当量の強塩基、例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、を用い、水及び低級アルカノール、特に
メタノール、エタノールの存在下室温で行う。
これらの条件下でR基の加水分解的除去は普通数時間以
内で完了する。
内で完了する。
アミノ保護基Qがtert−ブチロキシカルボニルの場
合、その除去に酸加水分解が適当である。特に良好なも
のは、メタノール、又はエタノール中、希塩酸と加熱還
流−する。この条件で、加水分解は11
普通・数時間以内1完了す8・上述の加水分解によ)
保護基を除去した後、常法によシ式(I)の生成物を単
離する。例えば酸加水分解後、溶媒を留去し、残った水
溶液を水に不溶の非極性溶媒、例えば、エチルエーテル
、クロロホルムで洗浄し、水層をアルカリ性にした後、
生成物を水に不溶の溶媒、例えば酢酸エチルで抽出し溶
媒を留去して得る。もし必要なら、再結晶、又はカラム
クロマトグラフィーで更に精製する。
合、その除去に酸加水分解が適当である。特に良好なも
のは、メタノール、又はエタノール中、希塩酸と加熱還
流−する。この条件で、加水分解は11
普通・数時間以内1完了す8・上述の加水分解によ)
保護基を除去した後、常法によシ式(I)の生成物を単
離する。例えば酸加水分解後、溶媒を留去し、残った水
溶液を水に不溶の非極性溶媒、例えば、エチルエーテル
、クロロホルムで洗浄し、水層をアルカリ性にした後、
生成物を水に不溶の溶媒、例えば酢酸エチルで抽出し溶
媒を留去して得る。もし必要なら、再結晶、又はカラム
クロマトグラフィーで更に精製する。
保護基Rを除去するのに、アルカリ加水分解を用い、続
いてアミノ保護基Qを水素添加分解を行う場合、アルカ
リ加水分解の反応混合物を酸、例えば塩酸、で中和し混
合物を上述の如く水素添加分解する。
いてアミノ保護基Qを水素添加分解を行う場合、アルカ
リ加水分解の反応混合物を酸、例えば塩酸、で中和し混
合物を上述の如く水素添加分解する。
式(1)を製する工業的な第二の方法は以下に示す通シ
である。
である。
またはカルボキシル活性化誘導体 (F/)(V)
R’、R,R,Qは上述で明白なものである。
アミノ基保護化り−アミノ酸又は、そのカルボキシル活
性化誘導体を中間体(If)及び(III)の製造で述
べた方法、反応条件を用いて当量のRNH2と反応せし
め式CPI)のアミノ基保護化り−アミノ酸アミドを製
する。保護基Qを上述の如く水素添加分解又は加水分解
で除去し、できた遊離のアミノ酸(V)を、上述の式(
!I)の中間体の製造で述べた如く、二保護化し−アス
パ之ギン酸誘導体、又はそのカルボキシル活性化誘導体
と縮合せしめ、式(n[)の二保護化ジペプチドアミド
を製し、上述の如く式(1)の甘味剤を得る。
性化誘導体を中間体(If)及び(III)の製造で述
べた方法、反応条件を用いて当量のRNH2と反応せし
め式CPI)のアミノ基保護化り−アミノ酸アミドを製
する。保護基Qを上述の如く水素添加分解又は加水分解
で除去し、できた遊離のアミノ酸(V)を、上述の式(
!I)の中間体の製造で述べた如く、二保護化し−アス
パ之ギン酸誘導体、又はそのカルボキシル活性化誘導体
と縮合せしめ、式(n[)の二保護化ジペプチドアミド
を製し、上述の如く式(1)の甘味剤を得る。
本方法の応用としては、式(R/)でRが環状、又は非
環スルフィド残基(−6−)を有する中間体を式(v)
の中間体に上述の方法で変換する前に酸化せしめ、スル
ホキサイド又はスルホンに変換し、Rがスルホキサイド
又はスルホンの式(I)の化合物を製する。
環スルフィド残基(−6−)を有する中間体を式(v)
の中間体に上述の方法で変換する前に酸化せしめ、スル
ホキサイド又はスルホンに変換し、Rがスルホキサイド
又はスルホンの式(I)の化合物を製する。
式(1)の化合物の甘味性は蔗糖との甘味の比較で決定
する。適当な範囲の濃度に希釈した式(1)の化合物の
水溶液を基準の蔗糖と専門の味覚検査員によシ比較する
。比較は、一般VC7〜9%蔗糖水溶液、即ち7〜9
、f/100dで行う。高濃度の蔗糖はその影響で特徴
ある口に入れた感覚があバ低濃度では普通に用いること
のできるような状態を示さない。例えば式(1)の化合
物、0.014チ溶液を蔗糖7チ溶液と甘さが等しいと
判定すれば、この化合物の甘味性は710.014=5
00Xi糖である。ここで示した本発明の化合物の全て
の甘味性の値は全てこの方法によシ決定した。最低濃度
(すなわち、甘味を最初に感じる濃度、7R糖では普通
2〜3%濃度)にて、本発明の化合物のよう、な甘味剤
の効力は一般に7〜9チ蔗糖溶液と甘味性を比較して観
察されたものの二倍である。
する。適当な範囲の濃度に希釈した式(1)の化合物の
水溶液を基準の蔗糖と専門の味覚検査員によシ比較する
。比較は、一般VC7〜9%蔗糖水溶液、即ち7〜9
、f/100dで行う。高濃度の蔗糖はその影響で特徴
ある口に入れた感覚があバ低濃度では普通に用いること
のできるような状態を示さない。例えば式(1)の化合
物、0.014チ溶液を蔗糖7チ溶液と甘さが等しいと
判定すれば、この化合物の甘味性は710.014=5
00Xi糖である。ここで示した本発明の化合物の全て
の甘味性の値は全てこの方法によシ決定した。最低濃度
(すなわち、甘味を最初に感じる濃度、7R糖では普通
2〜3%濃度)にて、本発明の化合物のよう、な甘味剤
の効力は一般に7〜9チ蔗糖溶液と甘味性を比較して観
察されたものの二倍である。
Rが前述で明白なものである式RNH2の必要なアミン
類はその前駆体から得ることができる。常法によシ種々
の条件下で対応するケトンのアミノ化によシ得られる。
類はその前駆体から得ることができる。常法によシ種々
の条件下で対応するケトンのアミノ化によシ得られる。
例えば、ギ酸とホルムアミドを還元剤として用いたロイ
ツクハート(Leuckhart )反応による還元的
アミノ化を用いる(例えばOrganic React
ionsの総説を参照、クイーリ=(Wiley )、
サンズ(Sons) ; =s−3−り、N’O1゜
5、301(1949))。一方、ナトリウムシアノボ
ロンハイドライド、及び酢酸アンモニウムを用いてケト
ンを還元的にアミノ化できる。例えば!:〜ner。
ツクハート(Leuckhart )反応による還元的
アミノ化を用いる(例えばOrganic React
ionsの総説を参照、クイーリ=(Wiley )、
サンズ(Sons) ; =s−3−り、N’O1゜
5、301(1949))。一方、ナトリウムシアノボ
ロンハイドライド、及び酢酸アンモニウムを用いてケト
ンを還元的にアミノ化できる。例えば!:〜ner。
(4em、 Soa、、 93.2897 (1971
)を参照。又はラネーニッケル、白金、パラジウム等の
水素添加触媒の存在下、エタノール性アンモニアを用い
て行う。
)を参照。又はラネーニッケル、白金、パラジウム等の
水素添加触媒の存在下、エタノール性アンモニアを用い
て行う。
例えばOrganic Reactions、 4.1
74 (1948)を参照。弐RNH2の多くのアミン
類は対応するケトン類をヒト9コキシルアミン又はその
塩と常法に従って反応せしめて製したオキシム中間体か
ら得られる。オキシム中間体は触媒水素添加、又は低級
アルカノール中で金属ナトリウムと加熱して反応せしめ
ることにより還元する。含硫黄ケトン類のオキシムを還
元するのに特に良好で有益な方法はエル1 タ
ノール中オキシムを1モル過剰の金属ナトリウムと混合
物の還流温度で反応せしめて還元する。
74 (1948)を参照。弐RNH2の多くのアミン
類は対応するケトン類をヒト9コキシルアミン又はその
塩と常法に従って反応せしめて製したオキシム中間体か
ら得られる。オキシム中間体は触媒水素添加、又は低級
アルカノール中で金属ナトリウムと加熱して反応せしめ
ることにより還元する。含硫黄ケトン類のオキシムを還
元するのに特に良好で有益な方法はエル1 タ
ノール中オキシムを1モル過剰の金属ナトリウムと混合
物の還流温度で反応せしめて還元する。
アミン類RNH2のケトン前駆体は市販で入手できるし
常法に従い製することができる。例えば、式(W)のケ
トン類; (■) (式中のR、R、R、R、X、 n、 pは、式(4)
のXがC=°0の化合物以外上述で明白なものである)
の化合物はOH3が各々水素である化合物をメチル化す
ることによって製造できる。メチル化は例えば、適当な
メチルハライド、メチルサルフェート、等のメチル化剤
を、中性又は水素化ナトリウム、ナトリウムアミド等の
強塩基で塩基性にした条件下で行う。化合物は適当なモ
ノアルキル化合物から製するが、アルキル化の前に非置
換のアルファ位を保護し、アルキル化に続いてこれを除
去する。
常法に従い製することができる。例えば、式(W)のケ
トン類; (■) (式中のR、R、R、R、X、 n、 pは、式(4)
のXがC=°0の化合物以外上述で明白なものである)
の化合物はOH3が各々水素である化合物をメチル化す
ることによって製造できる。メチル化は例えば、適当な
メチルハライド、メチルサルフェート、等のメチル化剤
を、中性又は水素化ナトリウム、ナトリウムアミド等の
強塩基で塩基性にした条件下で行う。化合物は適当なモ
ノアルキル化合物から製するが、アルキル化の前に非置
換のアルファ位を保護し、アルキル化に続いてこれを除
去する。
式(4)のケトンを製するための変法は非環状前駆体を
環化するものであ)、例えば、ジカルボキシレートエス
テルのディックマン縮合に続いて、Reaction、
W、 jLインジャミy (Benjamin )、
Menl。
環化するものであ)、例えば、ジカルボキシレートエス
テルのディックマン縮合に続いて、Reaction、
W、 jLインジャミy (Benjamin )、
Menl。
Park、 Cab、、 1972. p−740を参
照のくと。でき、″こたアルファケトエステル、特に他
にアルファ置換基のないものは必要なら加水分解、脱炭
酸反応の前にアルキル化することができる。この反応は
、カルボニル基のとなシの炭素が非置換で上述の如くア
ルキル化することのできるケトン類(4)を製するのに
用いることができる。
照のくと。でき、″こたアルファケトエステル、特に他
にアルファ置換基のないものは必要なら加水分解、脱炭
酸反応の前にアルキル化することができる。この反応は
、カルボニル基のとなシの炭素が非置換で上述の如くア
ルキル化することのできるケトン類(4)を製するのに
用いることができる。
XがC=0である式(■)のジケトン類を製する場合、
非運状ケトジカルボキシレートエステル前駆体のケトン
基をケタール又はチオケタール、例えばジメチルケター
ル、ジエチルチオケタール、エチレンジオキシケタール
、エチレンジチオケタール等に、ディックマン縮合の前
に変換せしめる。
非運状ケトジカルボキシレートエステル前駆体のケトン
基をケタール又はチオケタール、例えばジメチルケター
ル、ジエチルチオケタール、エチレンジオキシケタール
、エチレンジチオケタール等に、ディックマン縮合の前
に変換せしめる。
エステル基の加水分解、脱炭酸によジケト−ケタールを
得これを上述の方法で対応するアミノケタールを製する
。次にケタールを常法により加水分解する。
得これを上述の方法で対応するアミノケタールを製する
。次にケタールを常法により加水分解する。
(式中XはGHOH,n、 pは上述で明白なもの)の
アミン類、又はそのN−保護誘導体、例えば、N−ベン
ジロキシカルボニル誘導体、を三酸化クロム等で酸化せ
しめ対応するXがC=Oの化合物を製する。
アミン類、又はそのN−保護誘導体、例えば、N−ベン
ジロキシカルボニル誘導体、を三酸化クロム等で酸化せ
しめ対応するXがC=Oの化合物を製する。
式(■)のある種のケトン類は又°、式(VIDのケト
ン類から得られる非環状前駆体から得られる。
ン類から得られる非環状前駆体から得られる。
例えばXがO又はSである式(■の四員環ケト/類は式
(VE)を2当量の臭素で臭素化しできたアルファ、ア
ルファ′−ジブロモ化合物を例えば水酸化ナトリウムで
環化してオキセタノン又は硫化水素で環化してチェタノ
ンを得る。対応する五員環ケトン(MOは式(期を初め
ホルムアルデヒド9と反応せしめ中間体アルファーヒド
ロキシメチル化合物を得、次にアル777位に臭素化し
、水酸化ナトリウム又は硫化水素で環化してXがO又は
Sの式(■)の化合物を、それぞれ得る。
(VE)を2当量の臭素で臭素化しできたアルファ、ア
ルファ′−ジブロモ化合物を例えば水酸化ナトリウムで
環化してオキセタノン又は硫化水素で環化してチェタノ
ンを得る。対応する五員環ケトン(MOは式(期を初め
ホルムアルデヒド9と反応せしめ中間体アルファーヒド
ロキシメチル化合物を得、次にアル777位に臭素化し
、水酸化ナトリウム又は硫化水素で環化してXがO又は
Sの式(■)の化合物を、それぞれ得る。
式(■)のテトラヒト90ピ2ン−4−オン、テトラヒ
トロチアビ2ン−4−オン類は、置換ビニルケトンに、
水又は硫化水素を加えることによシ得られる。
トロチアビ2ン−4−オン類は、置換ビニルケトンに、
水又は硫化水素を加えることによシ得られる。
XがSo又はS02の化合物は対応するXがSの化合物
を既知の試薬及び反応条件を用いて酸化しスルホキサイ
ド、及びスルホンにすることKよシ製する。一方、Xが
Sである式(■)のケトン又は上述の如くケトンよ)得
られたアミン類は式(1)のシイブチrアミrを製する
ための縮合反応の前にスルホキサイド又はスルホンに酸
化することがYll できる。スルフィ
ドの酸化のための良好な試薬と反応条件は酢酸又はアセ
トンの如き溶媒中過酸化水素を用いて行うとよい。当モ
ルの反応物を用いると、生成物はスルホキサイドであシ
、これを更に1白量の過酸化水素を用いて容易に対応す
るスルホンに変換することができる。他の良好な酸化剤
ハ、スルホンを製するためには、過マンガン酸カリウム
又はクロム酸、であ夛m−クロル過安息香酸である。こ
の後者は上述のチオケトン(■を対応するスルホキサイ
ドにするのにl半量を用い、2当量でスルホンにするこ
とができるので特に有益である。
を既知の試薬及び反応条件を用いて酸化しスルホキサイ
ド、及びスルホンにすることKよシ製する。一方、Xが
Sである式(■)のケトン又は上述の如くケトンよ)得
られたアミン類は式(1)のシイブチrアミrを製する
ための縮合反応の前にスルホキサイド又はスルホンに酸
化することがYll できる。スルフィ
ドの酸化のための良好な試薬と反応条件は酢酸又はアセ
トンの如き溶媒中過酸化水素を用いて行うとよい。当モ
ルの反応物を用いると、生成物はスルホキサイドであシ
、これを更に1白量の過酸化水素を用いて容易に対応す
るスルホンに変換することができる。他の良好な酸化剤
ハ、スルホンを製するためには、過マンガン酸カリウム
又はクロム酸、であ夛m−クロル過安息香酸である。こ
の後者は上述のチオケトン(■を対応するスルホキサイ
ドにするのにl半量を用い、2当量でスルホンにするこ
とができるので特に有益である。
実施例 1゜
3−アミノ−λ2.4.4−テトラメチルテトラヒドロ
チオフェン A、 l−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルイン
タン−3−オン 7、5.9の金属ナトリウム、250dのメタノールで
製したナトリウムメトキサイドに7Zl(24モル)の
パラホルムアルデヒドを加え、次K 250g(2,,
2モル)のジインプロピルケトンを加える。
チオフェン A、 l−ヒドロキシ−2,2,4−トリメチルイン
タン−3−オン 7、5.9の金属ナトリウム、250dのメタノールで
製したナトリウムメトキサイドに7Zl(24モル)の
パラホルムアルデヒドを加え、次K 250g(2,,
2モル)のジインプロピルケトンを加える。
混合物を3時間加熱する。水を加えて反応を止め、塩酸
で中和しエチルエーテルで抽出する。これを水、食塩水
で洗浄し、溶媒を留去する。残渣の油状物(90,P)
を真空蒸留し、28Iの目的生成物ヲiルo 沸点92
−98℃/16−20+w、OV −1カラムによるG
LGでは107℃で314秒の保持時間、96饅純度。
で中和しエチルエーテルで抽出する。これを水、食塩水
で洗浄し、溶媒を留去する。残渣の油状物(90,P)
を真空蒸留し、28Iの目的生成物ヲiルo 沸点92
−98℃/16−20+w、OV −1カラムによるG
LGでは107℃で314秒の保持時間、96饅純度。
上述の方法をく)返し、反応混合物を16時間還流し、
同じ量の反応を行い、31JFの生成物を得、GLCで
96%の純度を示す。
同じ量の反応を行い、31JFの生成物を得、GLCで
96%の純度を示す。
69I(α48モル)の1−ヒドロキシ−2,2,4−
トリメチルインタ/の500mのクロロホルム溶液を攪
拌し還流する。これに、 771(0,48モル)の
臭素の100R1クロロホルム溶液滴加する。加え終っ
た後、還流下1時間攪拌する。これを冷却し一晩室温で
放置する。溶媒を減圧下留去し、1279の生成物を得
る。これを精製せずに次の工程に用いる。 ゛ 工程Bで得な生成物71(0,3モル)を300ゴの乾
燥ピリジンに溶かし0℃に冷却する。1141(0,6
モル)のp−トルエンスルホニルクロ9イYを0℃で数
路にわけて加える。混合物をこの温度・ で3時間15
分間攪拌し、氷水の中に注ぎ入れエチルエーテルで抽出
する。抽出物を希塩酸、水、食塩水で洗浄し無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。
トリメチルインタ/の500mのクロロホルム溶液を攪
拌し還流する。これに、 771(0,48モル)の
臭素の100R1クロロホルム溶液滴加する。加え終っ
た後、還流下1時間攪拌する。これを冷却し一晩室温で
放置する。溶媒を減圧下留去し、1279の生成物を得
る。これを精製せずに次の工程に用いる。 ゛ 工程Bで得な生成物71(0,3モル)を300ゴの乾
燥ピリジンに溶かし0℃に冷却する。1141(0,6
モル)のp−トルエンスルホニルクロ9イYを0℃で数
路にわけて加える。混合物をこの温度・ で3時間15
分間攪拌し、氷水の中に注ぎ入れエチルエーテルで抽出
する。抽出物を希塩酸、水、食塩水で洗浄し無水硫酸マ
グネシウムで乾燥する。
溶媒を留去し、11111(98%)の結晶トシレート
を得る。
を得る。
トシレート、94.9(0,25モル)を1リツトルの
ピリジンに溶かし、1811(0,75モル)の硫化ナ
トリウムモノ水和物を加え混合物を75℃に加熱し、こ
の温度を1時間保つ。これを室温で一晩放置する。水を
加え、エーテルで抽出する。抽出物を塩酸、食塩水、で
洗浄し乾燥(MgSO3)する。
ピリジンに溶かし、1811(0,75モル)の硫化ナ
トリウムモノ水和物を加え混合物を75℃に加熱し、こ
の温度を1時間保つ。これを室温で一晩放置する。水を
加え、エーテルで抽出する。抽出物を塩酸、食塩水、で
洗浄し乾燥(MgSO3)する。
溶媒を留去し35Iの表記化合物を得る。89%収率。
生成物はシリカゲルTLCで酢酸エチル/ヘキサン(1
:4容量)、Rf±0.5で単一点を示す。
:4容量)、Rf±0.5で単一点を示す。
’H−NMRス一クトルでは表記化合物の構造と一致す
る。
る。
スターラー、温度計、分別管を付けたコンデンサー、等
を付げた100−の丸底三極7:7スコ中に10、([
’(0,063モル)のλ2.4.4−テトラメチルテ
トラヒドロチオ7エンー3−オン、15.2.w7(0
,38モル)のホルムアミド、&5m(0,092モル
)のギ酸を入れ混合物を加熱還流する(163℃)。こ
の間に水は分別され除去される。反応混合物を160−
180℃で20時間保持し、この間にギ酸(101Le
)を間隔をおいて加える。この場合に温度は200℃に
上昇する。反応混合物を酢酸エチルで抽出する。
を付げた100−の丸底三極7:7スコ中に10、([
’(0,063モル)のλ2.4.4−テトラメチルテ
トラヒドロチオ7エンー3−オン、15.2.w7(0
,38モル)のホルムアミド、&5m(0,092モル
)のギ酸を入れ混合物を加熱還流する(163℃)。こ
の間に水は分別され除去される。反応混合物を160−
180℃で20時間保持し、この間にギ酸(101Le
)を間隔をおいて加える。この場合に温度は200℃に
上昇する。反応混合物を酢酸エチルで抽出する。
抽出物を真空下留去する。残渣を20mの6N塩酸と2
時間還流し冷却した後エチルエーテルで洗浄する。水層
を水酸化ナトリウム水溶液でpH11にし、エチルエー
テルで抽出する。抽出物を乾燥し留去し2gの3−アミ
ノ−2,2,4,4−テトラメチルテトラヒドロチオフ
ェンを得る。H−NMR[′i□゛ でこれを
同定し、シリカゲルTLOでも均一である。
時間還流し冷却した後エチルエーテルで洗浄する。水層
を水酸化ナトリウム水溶液でpH11にし、エチルエー
テルで抽出する。抽出物を乾燥し留去し2gの3−アミ
ノ−2,2,4,4−テトラメチルテトラヒドロチオフ
ェンを得る。H−NMR[′i□゛ でこれを
同定し、シリカゲルTLOでも均一である。
酢酸エチル:ヘキサン7:4の混合物を展開溶媒とした
TLeのR2α65;ブタノール:酢酸:水4:1:1
の混合物を展開溶媒としたTLICのRfo、53゜ニ
ンヒドリン反応陽性。生成物は黄色油状物。
TLeのR2α65;ブタノール:酢酸:水4:1:1
の混合物を展開溶媒としたTLICのRfo、53゜ニ
ンヒドリン反応陽性。生成物は黄色油状物。
参考例 1゜
アミドニ
ア5ag中のテトラヒトcr7ラン中の1Q9Ii(1
1ミリモル)のN−t−シトキシ−カルボニル−D−ア
ラニン溶液に147m(10ミリモル)のトリエチルア
ミンを加え、混合物−10℃に冷却する。この温度でα
96g7 (10ミリモル)のエチルクロロホルメート
を加え、15分間攪拌する。−20℃に冷却した後1.
6I!(10ミリモル)の旦−3−ア之ノー2.2.4
.4−テトラメチルテトラヒドロチオフェンを加え、混
合物を室温にまで加温する。酢−・、?酸エチルを加え
、混合物を2回、5011Llずつ5%の(重i)クエ
ン酸水溶液で洗浄し、次に、炭酸水素ナトリウム(lX
50id)、飽和食塩水(1×50m7)で洗浄する。
1ミリモル)のN−t−シトキシ−カルボニル−D−ア
ラニン溶液に147m(10ミリモル)のトリエチルア
ミンを加え、混合物−10℃に冷却する。この温度でα
96g7 (10ミリモル)のエチルクロロホルメート
を加え、15分間攪拌する。−20℃に冷却した後1.
6I!(10ミリモル)の旦−3−ア之ノー2.2.4
.4−テトラメチルテトラヒドロチオフェンを加え、混
合物を室温にまで加温する。酢−・、?酸エチルを加え
、混合物を2回、5011Llずつ5%の(重i)クエ
ン酸水溶液で洗浄し、次に、炭酸水素ナトリウム(lX
50id)、飽和食塩水(1×50m7)で洗浄する。
有機層を乾燥(Na2So4) L、減圧留去し、39
のN−(2,2,4,4−’テトラメチルテトラヒドロ
チオ7エンー3−イル−t−ブトキシカルボニル−D−
アラニンアミドを油状物として得る。生成物の構造はそ
の’H−NMRスペクトルで確認。シリカゲルTLCで
本質的に均一である。本生成物は更に精製せずに次の工
程に用いる。
のN−(2,2,4,4−’テトラメチルテトラヒドロ
チオ7エンー3−イル−t−ブトキシカルボニル−D−
アラニンアミドを油状物として得る。生成物の構造はそ
の’H−NMRスペクトルで確認。シリカゲルTLCで
本質的に均一である。本生成物は更に精製せずに次の工
程に用いる。
工程Aから得た生成物に5ゴのメタノール、30mの1
M塩酸を加え、30分間水浴上で加熱する。メタノール
を留去し残渣をエーテルで抽出する。エーテルを捨て、
水層を水酸化す) +7クム水溶液でpHILOKする
。これを酢酸エチルで抽出し乾燥(Na2So4) シ
留去して1.OIのN−(2,2゜4.4−テトラメチ
ルテトラヒドロチオフェン−3−イル)−D−7ラニン
アミドを得る。核磁気共鳴スはクトルでこれを同定。シ
リカゲルTLCで均一である。
M塩酸を加え、30分間水浴上で加熱する。メタノール
を留去し残渣をエーテルで抽出する。エーテルを捨て、
水層を水酸化す) +7クム水溶液でpHILOKする
。これを酢酸エチルで抽出し乾燥(Na2So4) シ
留去して1.OIのN−(2,2゜4.4−テトラメチ
ルテトラヒドロチオフェン−3−イル)−D−7ラニン
アミドを得る。核磁気共鳴スはクトルでこれを同定。シ
リカゲルTLCで均一である。
C,ジはブチrアミrを製するための縮合工程Bで得た
D−7ラニ’/7ミ)’0.91(4,25ミリモル)
を10−の水と混合し、水中で冷却しα5N水酸化ナト
リウム水溶液でpH9,2にする。これに攪拌下0.8
11(4,25ミリモル)のL−アス/(ラギン酸N−
チオカルボキシ無水物を少しずつ加える。この間混合物
のpHを水酸化ナトリウム水溶液(0,5N)で9に保
つ。加え終った後混合物を45分間0℃で攪拌し、塩酸
でpH5,2にし真空下留去する。残渣をメタノールで
スラリーにし、r過して沈澱物を除きP液を減圧下留去
し、エチルエーテルを加え固形物にする。f過してこれ
を取シ、エチルエルチルで再びスラリーにし、濾過し固
形物を8−の水で再結晶する。真空オープンで乾燥した
後IIIの生成物を得る。母液から第二の生成物を得る
。甘味効力、蔗糖の500倍。
D−7ラニ’/7ミ)’0.91(4,25ミリモル)
を10−の水と混合し、水中で冷却しα5N水酸化ナト
リウム水溶液でpH9,2にする。これに攪拌下0.8
11(4,25ミリモル)のL−アス/(ラギン酸N−
チオカルボキシ無水物を少しずつ加える。この間混合物
のpHを水酸化ナトリウム水溶液(0,5N)で9に保
つ。加え終った後混合物を45分間0℃で攪拌し、塩酸
でpH5,2にし真空下留去する。残渣をメタノールで
スラリーにし、r過して沈澱物を除きP液を減圧下留去
し、エチルエーテルを加え固形物にする。f過してこれ
を取シ、エチルエルチルで再びスラリーにし、濾過し固
形物を8−の水で再結晶する。真空オープンで乾燥した
後IIIの生成物を得る。母液から第二の生成物を得る
。甘味効力、蔗糖の500倍。
常法で分割した左旋性3−アζノー2.2.4.4−テ
トラメチルテトラヒドロチオフェンを上述の方法で2セ
ミ体アミンの代シに用いてL−アスノ(ルチル−〇−ア
ラニンアミドを得、これはMfll!iの800倍の甘
味力である。
トラメチルテトラヒドロチオフェンを上述の方法で2セ
ミ体アミンの代シに用いてL−アスノ(ルチル−〇−ア
ラニンアミドを得、これはMfll!iの800倍の甘
味力である。
実施例 2
3−オン
136.9(12モル)のジイソゾロピルケトンに2d
の三臭化リンを加え、混合物を10 ’CK冷却する。
の三臭化リンを加え、混合物を10 ’CK冷却する。
これに384 g(1モル)の臭累を滴加する。混合物
を室温に加温し2時間後55〜60’Cで1時間加熱し
、これを冷却して、クロロホルムと水に分配する。水を
捨て、有機層を中和されるまで炭酸ナトリウム水溶液で
洗浄する。有機層を乾燥(MgSO4) L、溶媒を留
去して316JF(97チ)の目的生成物を得る。
を室温に加温し2時間後55〜60’Cで1時間加熱し
、これを冷却して、クロロホルムと水に分配する。水を
捨て、有機層を中和されるまで炭酸ナトリウム水溶液で
洗浄する。有機層を乾燥(MgSO4) L、溶媒を留
去して316JF(97チ)の目的生成物を得る。
B、 2.2.4.4−テトラメチルー3−オキンチ
ェタン ゛金属ナトリウム23 !1(10モル
)を500−の乾燥メタノールに溶かし、混合物を10
’Cに冷却する。硫化水素ガスを混合物に導入し飽和せ
しめる。
ェタン ゛金属ナトリウム23 !1(10モル
)を500−の乾燥メタノールに溶かし、混合物を10
’Cに冷却する。硫化水素ガスを混合物に導入し飽和せ
しめる。
次に工程Aで得た13611(0,5モル)のジブロモ
ケトンを加える。この間硫化水素ガスを導入し続ける。
ケトンを加える。この間硫化水素ガスを導入し続ける。
滴加後10℃で2時間攪拌し室温に加温して一晩攪拌す
る。反応混合物を水に注ぎ入れ、エチルエーテルで抽出
する。抽出物を希塩酸及び食塩水で洗浄する。硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、エーテ〜を留去し残渣をメタノール
でスラリーにする。これを冷却し一過して4611(6
4%)の固形物を得る。これを精製せず次の工程に用い
る。
る。反応混合物を水に注ぎ入れ、エチルエーテルで抽出
する。抽出物を希塩酸及び食塩水で洗浄する。硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、エーテ〜を留去し残渣をメタノール
でスラリーにする。これを冷却し一過して4611(6
4%)の固形物を得る。これを精製せず次の工程に用い
る。
C,ケトンの還元的アミノ化
75dの乾燥メタノールに4.5.9(0,031モル
)の2.2.4.4−テトラメチル−3−オキンチエタ
ン、23.9g(α31モル)の酢酸アンモニウム、1
36.9(α0217モル)のナトリウムシアノホウ素
ハイドライドを加える。混合物を4時間加熱還流する。
)の2.2.4.4−テトラメチル−3−オキンチエタ
ン、23.9g(α31モル)の酢酸アンモニウム、1
36.9(α0217モル)のナトリウムシアノホウ素
ハイドライドを加える。混合物を4時間加熱還流する。
さらにナトリウムシアノホウ素ハイドライド(136g
)を加え、3日間還流し、3日の初めに更に同じ試薬を
加える。混合物を塩酸でpH2にする。
)を加え、3日間還流し、3日の初めに更に同じ試薬を
加える。混合物を塩酸でpH2にする。
これを減圧下口−タリーエバポレーターで留去する。残
渣を水に溶かし、エチルエーテルで洗浄し水層を水酸化
ナトリウム水溶液でpH11KL、エチルエーテルで抽
出する。抽出物を食塩水で洗浄L 乾1k (Mg5O
4) 1. ”C” 留去し、L9.!9(42ts)
O目的のアミンを結晶固形物として得る。生成物の構造
はその H−NMRx−<クトルで確認した。融点的4
5℃、沸点90℃(2011m)。
渣を水に溶かし、エチルエーテルで洗浄し水層を水酸化
ナトリウム水溶液でpH11KL、エチルエーテルで抽
出する。抽出物を食塩水で洗浄L 乾1k (Mg5O
4) 1. ”C” 留去し、L9.!9(42ts)
O目的のアミンを結晶固形物として得る。生成物の構造
はその H−NMRx−<クトルで確認した。融点的4
5℃、沸点90℃(2011m)。
工程Cで得たアミン2911(α2モル)を50−のア
セトニトリルに溶かし250dの水を加える。混合物を
水酸化ナトリウムでpH10に保ち35.8.9(α2
工モル)のカルボインゾ中シクロツイドを30分間以上
かけて加える。混合物を1時間攪拌し一過して水洗し5
0℃で真空乾燥し、NCbz−アミンを得る。Rfα7
(ヘキサン/酢酸エチル4:1、シャ、リンモリブデン
酸スプレー)、521JF(9λ4%)、これを7QO
dのメチレンクロライドに溶かし771(α372モル
)のm−クロロ過安息香酸を温度を45℃以、下にして
ゆつくシ加える。(20〜42℃)沈澱物を一過して取
りP液をIN塩酸、炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し乾
燥(MgSo、 ) して溶媒留去する。残渣をア七ト
ンー水で結晶化し42N(73%)のCbz−保護化ア
ミン1.1−、t=?サイドを得る。Rfα7(ヘキサ
ン/酢酸エチル、1 : 1. V/VI)ンモリブテ
ン酸スプレー)。
セトニトリルに溶かし250dの水を加える。混合物を
水酸化ナトリウムでpH10に保ち35.8.9(α2
工モル)のカルボインゾ中シクロツイドを30分間以上
かけて加える。混合物を1時間攪拌し一過して水洗し5
0℃で真空乾燥し、NCbz−アミンを得る。Rfα7
(ヘキサン/酢酸エチル4:1、シャ、リンモリブデン
酸スプレー)、521JF(9λ4%)、これを7QO
dのメチレンクロライドに溶かし771(α372モル
)のm−クロロ過安息香酸を温度を45℃以、下にして
ゆつくシ加える。(20〜42℃)沈澱物を一過して取
りP液をIN塩酸、炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し乾
燥(MgSo、 ) して溶媒留去する。残渣をア七ト
ンー水で結晶化し42N(73%)のCbz−保護化ア
ミン1.1−、t=?サイドを得る。Rfα7(ヘキサ
ン/酢酸エチル、1 : 1. V/VI)ンモリブテ
ン酸スプレー)。
51のCbz−アミンを250−のメタノール中、5ゴ
の濃塩酸、2Iの5チPa/C(50チ湿潤)を用いて
水素化分解して保護基を除去する。生成物は常法によシ
単離する。収率z4icsst%>、R−rO,6゜1
メートルの0V−1カラムを用いたガスクロマトグラフ
ィーでは180℃で保持時間L3分。
の濃塩酸、2Iの5チPa/C(50チ湿潤)を用いて
水素化分解して保護基を除去する。生成物は常法によシ
単離する。収率z4icsst%>、R−rO,6゜1
メートルの0V−1カラムを用いたガスクロマトグラフ
ィーでは180℃で保持時間L3分。
3−アミノ−2,2,4,4−テトラメチルチェタンか
ら出発した3工程の全収率は65%。
ら出発した3工程の全収率は65%。
参考例 λ
)0.9F(11ミリモル)N−t−ブトキシカルボニ
ル−D−アラニンの75dのテトラヒドロ72ン溶液に
147m(10ミリモル)のトリエチルアミンを加える
。混合物を一10℃に冷却しエチルクロロホルメートα
96d(10ミリモル)を加え混合物を10分間攪拌し
次に一20℃に冷却しL70II(11ミリモル)の3
−アミノ−&2.4.4−テトラメチルチェタンの5d
テト2ヒドロフラン溶液を加える。反応混合物を室温に
加温し酢酸エチルを加える。これを5%(重量)クエン
酸溶液(2X50Ml)で洗浄し炭酸水素す) IJウ
ム溶液で中和するまで洗浄し次に食塩水で洗浄する。有
機層を乾燥(Na zS04)L溶媒を留去して、27
11(78チ)の目的の固形生成物を得る。生成物のH
−NMRスペクトルは期待する値と一致する。シリカゲ
ルTLOでは1:l酢酸エチル/ベキサンで展開し生成
物は均一な値を示す。Rfo、77゜ ここで製したt−Boa−D−アラニンアミドを加水分
解し遊離のアルファアばノアミドを43q6収率で得る
。生成物はシリカゲルTLCで均一であり ’H−NM
Rxイクトルはその構造と一致している。
ル−D−アラニンの75dのテトラヒドロ72ン溶液に
147m(10ミリモル)のトリエチルアミンを加える
。混合物を一10℃に冷却しエチルクロロホルメートα
96d(10ミリモル)を加え混合物を10分間攪拌し
次に一20℃に冷却しL70II(11ミリモル)の3
−アミノ−&2.4.4−テトラメチルチェタンの5d
テト2ヒドロフラン溶液を加える。反応混合物を室温に
加温し酢酸エチルを加える。これを5%(重量)クエン
酸溶液(2X50Ml)で洗浄し炭酸水素す) IJウ
ム溶液で中和するまで洗浄し次に食塩水で洗浄する。有
機層を乾燥(Na zS04)L溶媒を留去して、27
11(78チ)の目的の固形生成物を得る。生成物のH
−NMRスペクトルは期待する値と一致する。シリカゲ
ルTLOでは1:l酢酸エチル/ベキサンで展開し生成
物は均一な値を示す。Rfo、77゜ ここで製したt−Boa−D−アラニンアミドを加水分
解し遊離のアルファアばノアミドを43q6収率で得る
。生成物はシリカゲルTLCで均一であり ’H−NM
Rxイクトルはその構造と一致している。
C,ジペプチドアミドを製するための縮合上述、工程B
で製したアル7アアミノアミド0.1(3,2ミリモル
)を水10iuと混合し、pH10,1に調節し水浴で
冷却し0.567.9(3,2ミリモル)のL−アスノ
ラギン酸N−チオカルボキシ無水物を少しずつ加える。
で製したアル7アアミノアミド0.1(3,2ミリモル
)を水10iuと混合し、pH10,1に調節し水浴で
冷却し0.567.9(3,2ミリモル)のL−アスノ
ラギン酸N−チオカルボキシ無水物を少しずつ加える。
この間α5Nの水酸化ナトリウム溶液を加えてpHs、
oに保つ。次に混合物を0℃で45分間攪拌しpH5,
2Kして真空下留去する。残渣をメタノールでスラリー
にし、f過して固形物を除きP液を留去する。残渣に1
50alのエチルエーテルを加え、沈澱する生成物をf
過して取る。これを真空オープンで1晩乾燥tLL51
の組物質を・得る。更に2回エチルエーテルでスラリー
にした後、0.911の生成物を得る(85チ)。
oに保つ。次に混合物を0℃で45分間攪拌しpH5,
2Kして真空下留去する。残渣をメタノールでスラリー
にし、f過して固形物を除きP液を留去する。残渣に1
50alのエチルエーテルを加え、沈澱する生成物をf
過して取る。これを真空オープンで1晩乾燥tLL51
の組物質を・得る。更に2回エチルエーテルでスラリー
にした後、0.911の生成物を得る(85チ)。
甘味効力、蔗糖の2000倍。
Claims (2)
- (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。 (式中、n_1は0、p_1は1のときは、X_1はO
、SまたはSO_2であり、n_1とp_1が各々0の
場合、X_1はS、SO_2またはC=Oである) - (2)n_1、p_1は各々O、X_1がSまたはSO
_2である特許請求の範囲第1項に記載の化合物。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US11380080A | 1980-01-21 | 1980-01-21 | |
| US201745 | 1980-11-05 | ||
| DK321981A DK154652C (da) | 1980-01-21 | 1981-07-17 | L-aspartyl-d-aminosyre-dipeptidamider og d-amino-syreamider til brug ved deres fremstilling |
| US113800 | 1987-10-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61106569A true JPS61106569A (ja) | 1986-05-24 |
| JPS6254791B2 JPS6254791B2 (ja) | 1987-11-17 |
Family
ID=26066947
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP711281A Granted JPS56127339A (en) | 1980-01-21 | 1981-01-20 | Side chain amides of l-aspartyl-d-amino acid dipeptide |
| JP60213618A Granted JPS6193149A (ja) | 1980-01-21 | 1985-09-26 | L‐アスパルチル‐d‐アミノ酸ジペプチドの枝鎖アミド類の中間体 |
| JP60213617A Granted JPS61106569A (ja) | 1980-01-21 | 1985-09-26 | L−アスパルチル−d−アミノ酸ジペプチドの枝鎖アミド類の中間体 |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP711281A Granted JPS56127339A (en) | 1980-01-21 | 1981-01-20 | Side chain amides of l-aspartyl-d-amino acid dipeptide |
| JP60213618A Granted JPS6193149A (ja) | 1980-01-21 | 1985-09-26 | L‐アスパルチル‐d‐アミノ酸ジペプチドの枝鎖アミド類の中間体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (3) | JPS56127339A (ja) |
| DK (1) | DK154652C (ja) |
| ZA (1) | ZA81373B (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001163854A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-06-19 | Nippon Nohyaku Co Ltd | チオアルキルアミン誘導体及びその製造方法 |
| JP2002105046A (ja) * | 2000-09-25 | 2002-04-10 | Nippon Nohyaku Co Ltd | チオアルキルアミン−s−酸化体及びその塩類 |
| UY30090A1 (es) * | 2006-01-16 | 2007-08-31 | Syngenta Participations Ag | Insecticidas novedosos |
| JP6230222B2 (ja) | 2012-10-12 | 2017-11-15 | キヤノン株式会社 | レンズアレイ光学系及びレンズアレイの製造方法 |
| CN112174823B (zh) * | 2019-07-01 | 2023-12-01 | 南京富润凯德生物医药有限公司 | 一种合成2,2-二甲基-3-氧杂环丁酮的中间体及其制备方法和应用 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3364114A (en) * | 1962-03-01 | 1968-01-16 | Bristol Myers Co | Therapeutic compositions containing aminocyclobutanols |
-
1981
- 1981-01-20 ZA ZA00810373A patent/ZA81373B/xx unknown
- 1981-01-20 JP JP711281A patent/JPS56127339A/ja active Granted
- 1981-07-17 DK DK321981A patent/DK154652C/da not_active IP Right Cessation
-
1985
- 1985-09-26 JP JP60213618A patent/JPS6193149A/ja active Granted
- 1985-09-26 JP JP60213617A patent/JPS61106569A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3364114A (en) * | 1962-03-01 | 1968-01-16 | Bristol Myers Co | Therapeutic compositions containing aminocyclobutanols |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6193149A (ja) | 1986-05-12 |
| JPS6339583B2 (ja) | 1988-08-05 |
| JPS56127339A (en) | 1981-10-06 |
| ZA81373B (en) | 1982-02-24 |
| JPS6254791B2 (ja) | 1987-11-17 |
| DK154652B (da) | 1988-12-05 |
| DK154652C (da) | 1989-05-01 |
| DK321981A (da) | 1983-01-18 |
| JPS619320B2 (ja) | 1986-03-22 |
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