JPS6110883A - 薄い導電性エポキシ樹脂接着層 - Google Patents
薄い導電性エポキシ樹脂接着層Info
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- JPS6110883A JPS6110883A JP60121364A JP12136485A JPS6110883A JP S6110883 A JPS6110883 A JP S6110883A JP 60121364 A JP60121364 A JP 60121364A JP 12136485 A JP12136485 A JP 12136485A JP S6110883 A JPS6110883 A JP S6110883A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は薄い導電性エポキシ樹脂接着層、更に詳しくは
、2つの導電性材料(物体、基材)を接着するに際し、
高品質の電気的接着を得る方法に適用されるエポキシ樹
脂および導電性微小球から成る接着層およびその使用方
法に関する。
、2つの導電性材料(物体、基材)を接着するに際し、
高品質の電気的接着を得る方法に適用されるエポキシ樹
脂および導電性微小球から成る接着層およびその使用方
法に関する。
従来技術と解決すべき問題点
超音波変換器などの電子装置の製造において、各材料を
ハンダ付は以外に、電気的および機械的に取付ける手段
を設けることが必要とされることが多い。特に超音波変
換器の製造にあって、非常に薄い接着層を形成すること
が極めて重要である。これまで、いわゆる4導電性エポ
キシ樹脂′の使用が適当であるとは認められていなかっ
た。何故なら、′導電性エポキシ樹脂′は適切な接着強
度を付与せず、また導電性エポキシ樹脂の材qは極めて
不均一なため、一様でない接着層をもたらし、接着層の
機械的性質が超音波変換器の振動モードに影響を及ぼし
、適当てないからである。
ハンダ付は以外に、電気的および機械的に取付ける手段
を設けることが必要とされることが多い。特に超音波変
換器の製造にあって、非常に薄い接着層を形成すること
が極めて重要である。これまで、いわゆる4導電性エポ
キシ樹脂′の使用が適当であるとは認められていなかっ
た。何故なら、′導電性エポキシ樹脂′は適切な接着強
度を付与せず、また導電性エポキシ樹脂の材qは極めて
不均一なため、一様でない接着層をもたらし、接着層の
機械的性質が超音波変換器の振動モードに影響を及ぼし
、適当てないからである。
このため、薄い導電性エポキシ樹脂接着層を形成する接
着材料の提供が強く望まれる。
着材料の提供が強く望まれる。
本発明によれば、2つの基材間に薄い導電性接着層を形
成する方法が提供される。かかる方法は、導電性微小球
を添加したエポキシ樹脂を用いて、2つの基材を共に接
着することから成る。本発明の異なる具体例において、
微小球をエポキシ樹脂に加える別個の方法がある。また
本発明は5本発明方法によって作成される積層材料をも
包含する。
成する方法が提供される。かかる方法は、導電性微小球
を添加したエポキシ樹脂を用いて、2つの基材を共に接
着することから成る。本発明の異なる具体例において、
微小球をエポキシ樹脂に加える別個の方法がある。また
本発明は5本発明方法によって作成される積層材料をも
包含する。
以下、添付図面を参照して本発明をより詳しく説明する
。
。
添付図面において、第1図は本発明の第1具体例を示し
、第2図は第2具体例を示す。
、第2図は第2具体例を示す。
第1図には、本発明の第1具体例10が示され、一対の
基材12,14が存在する。基材14は。
基材12,14が存在する。基材14は。
圧電材料20に導電性層22を塗布した物体で構成され
る。基材12は、導電性層18を塗布した導電性物体1
6て構成される。好ましい具体例において、導電性層1
8.22はクロムからなり、これを物体16.20にス
パッター(5putter )する。基材12,14は
1本発明に従って形成した導電性エポキシ樹脂接着層2
4で共に接合している。図示の°如く、接#層24は一
連の導電性微小球(以下、球体と称す)26で構成され
、該球体は基材12,14を電気的に接続する。球体2
6は、基材12.14を接着する非導電性エポキシ樹脂
28中で結合している。即ち、接着層24はエポキシ樹
脂28と個々の導電性球体26とで形成されるエポキシ
樹脂接着層であって、これらの球体は接着層24の厚み
をブリッジして、−2つの基材12,14間に電気伝導
を付与する。
る。基材12は、導電性層18を塗布した導電性物体1
6て構成される。好ましい具体例において、導電性層1
8.22はクロムからなり、これを物体16.20にス
パッター(5putter )する。基材12,14は
1本発明に従って形成した導電性エポキシ樹脂接着層2
4で共に接合している。図示の°如く、接#層24は一
連の導電性微小球(以下、球体と称す)26で構成され
、該球体は基材12,14を電気的に接続する。球体2
6は、基材12.14を接着する非導電性エポキシ樹脂
28中で結合している。即ち、接着層24はエポキシ樹
脂28と個々の導電性球体26とで形成されるエポキシ
樹脂接着層であって、これらの球体は接着層24の厚み
をブリッジして、−2つの基材12,14間に電気伝導
を付与する。
本発明によれば、導電性球体26は約2ミクロンの平均
直径を有する微細銅粉で構成されることが好ましい。第
1具体例10において、銅粉は微粒化した銅球体26で
あって、エポキシ樹脂ベース28中で結合している。エ
ポキシ樹脂は、シェル社製の低粘度エポキシ樹脂F、P
ON 815(Versamid l 4 Q硬化
剤を使用〕が好ましい。
直径を有する微細銅粉で構成されることが好ましい。第
1具体例10において、銅粉は微粒化した銅球体26で
あって、エポキシ樹脂ベース28中で結合している。エ
ポキシ樹脂は、シェル社製の低粘度エポキシ樹脂F、P
ON 815(Versamid l 4 Q硬化
剤を使用〕が好ましい。
第1具体例1Oにおいて、微粒化した銅球体26を基材
14の表面層22に塗布する。接着層24が極めて薄く
なるのを確実にするには、基材12.14の表面@18
.22にエポキシ樹脂を塗布するために、該表面層を高
度に研磨する。具体例IOにおいて、球体26の懸濁液
を基材14にスプレーするか、または2つの基材12,
14を積層する前に2重量%の銅球体26をエポキシ樹
脂材料28に混合する。
14の表面層22に塗布する。接着層24が極めて薄く
なるのを確実にするには、基材12.14の表面@18
.22にエポキシ樹脂を塗布するために、該表面層を高
度に研磨する。具体例IOにおいて、球体26の懸濁液
を基材14にスプレーするか、または2つの基材12,
14を積層する前に2重量%の銅球体26をエポキシ樹
脂材料28に混合する。
導電性接着層を形成するのに採用した方法の評価を行う
。このテストで、スライドカラスに一ニッケルおよびク
ロムの薄い導電性二層被膜をスパッターする。先ず、接
着用ガラスに直接ニッケルをスパッターする。次に、該
ニッケルにクロムをスパッターして導電性層を設け、こ
れに接着層を形成することができる。最初のテストで、
導電性の銀エポキシ樹1指(Epotek H−20
E )を用いて。
。このテストで、スライドカラスに一ニッケルおよびク
ロムの薄い導電性二層被膜をスパッターする。先ず、接
着用ガラスに直接ニッケルをスパッターする。次に、該
ニッケルにクロムをスパッターして導電性層を設け、こ
れに接着層を形成することができる。最初のテストで、
導電性の銀エポキシ樹1指(Epotek H−20
E )を用いて。
2枚のスライドガラスを接合する。第2テストテ、スラ
イドガラスの一方に銅徽小球をスプレーした後1本発明
と同様に接着し、第3テストで、2重量%の銅微小球を
直接エポキシ樹脂に混和する。
イドガラスの一方に銅徽小球をスプレーした後1本発明
と同様に接着し、第3テストで、2重量%の銅微小球を
直接エポキシ樹脂に混和する。
スライドガラスを一列に並べて配列し、スライドガラス
のメーバーラップ接合部を大きなシリンダー状の圧力ア
プリケーターてスパンする( 5pan)。
のメーバーラップ接合部を大きなシリンダー状の圧力ア
プリケーターてスパンする( 5pan)。
これらテストは60℃で行う。銅微小球またはEpot
ek で形成した電気抵抗は実質的に同一であること
が認められる。しかしながら、Epotek の場合の
接着強度は約45ボンド/平方インチにすぎないのに、
本発明では、即ちエポキシ樹脂と微小球を混和した場合
の接着強度はガラス破壊のため測宕することができなか
った。
ek で形成した電気抵抗は実質的に同一であること
が認められる。しかしながら、Epotek の場合の
接着強度は約45ボンド/平方インチにすぎないのに、
本発明では、即ちエポキシ樹脂と微小球を混和した場合
の接着強度はガラス破壊のため測宕することができなか
った。
微小球を混合したエポキシ樹脂を用いて接着した接合部
の厚みは約2.45μmて、一方Epo t ek接合
部の厚みは12.25μmである。接合部厚み1225
μmは、超音波変換器用途に対してあまりに大きすぎ、
約7MHzll上の周波数において、厳しいノ9ンド幅
の制限の原因どなる音屓インサート減衰か起る。
の厚みは約2.45μmて、一方Epo t ek接合
部の厚みは12.25μmである。接合部厚み1225
μmは、超音波変換器用途に対してあまりに大きすぎ、
約7MHzll上の周波数において、厳しいノ9ンド幅
の制限の原因どなる音屓インサート減衰か起る。
接合部の顕微鏡写真によれば、微小球を使用した場合1
個の微小球が接着層をスパンしており、一方導電性エポ
キシ樹脂を使用した場合エポキシ樹脂中に多数の誼モを
混入して導電率を確保するため、その接着層は非富に厚
く且つ一様でなく。
個の微小球が接着層をスパンしており、一方導電性エポ
キシ樹脂を使用した場合エポキシ樹脂中に多数の誼モを
混入して導電率を確保するため、その接着層は非富に厚
く且つ一様でなく。
高周波の超音波適用に有用でないことが認められる。
次に第2図において、本発明の第2具体例3゜が示され
、第1基材32は第2基材34と電気的に接続している
。第1基材32は、スパッタークロム層38を塗布して
有する圧電材料のr@36で構成される。圧電材料の層
36に層38をスパッターした後、該スパッター層38
に適当な方法。
、第1基材32は第2基材34と電気的に接続している
。第1基材32は、スパッタークロム層38を塗布して
有する圧電材料のr@36で構成される。圧電材料の層
36に層38をスパッターした後、該スパッター層38
に適当な方法。
例えばスプレー法で微粒化した銅球体4oを塗布する。
次いで、層38の球体4oに付加的な上僧層42(これ
もクロムが好ましい)をスパッターする。図示の如く、
第2スペック一層42は球体40の形状に一致している
。従って1層42にエポキシ樹脂4斗を塗布し、該エポ
キシ樹脂44に第2基材34をプレスすると、球体4o
を取巻くギャップにエポキシ樹脂44が充満し、これに
よって層38.42間の接着が付与され、且つ層あ、4
2および球体40を介して電気伝導が起る。
もクロムが好ましい)をスパッターする。図示の如く、
第2スペック一層42は球体40の形状に一致している
。従って1層42にエポキシ樹脂4斗を塗布し、該エポ
キシ樹脂44に第2基材34をプレスすると、球体4o
を取巻くギャップにエポキシ樹脂44が充満し、これに
よって層38.42間の接着が付与され、且つ層あ、4
2および球体40を介して電気伝導が起る。
この具体例30での球体4oの目的は、エポキシ樹脂4
4を充填するギャップの領域を設け、且つ2つの基材3
2.34間の空間を極めて密に維持することである。
4を充填するギャップの領域を設け、且つ2つの基材3
2.34間の空間を極めて密に維持することである。
超音波変換器の製造に用いるため、銅球体を使用するこ
とにより基材と基材の間にゞ目に見えない′音響(ac
oustiり接着層を形成できることが認められる。従
って、実質りいずれの整1matching)層もセラ
ミック発振器に首尾よく取付けることができる。また、
変換器材料のシートを二次加工することにより、一様に
再生産可能な変換器を得ることかできる。
とにより基材と基材の間にゞ目に見えない′音響(ac
oustiり接着層を形成できることが認められる。従
って、実質りいずれの整1matching)層もセラ
ミック発振器に首尾よく取付けることができる。また、
変換器材料のシートを二次加工することにより、一様に
再生産可能な変換器を得ることかできる。
当業者にとって自明の如く1本発明は、基材の一方もし
くは両方の表面が荒い従来技術または従来の導電性エポ
キシ樹脂技法に比べてはるかに良好な接着層を提供しう
ろことが認められる。
くは両方の表面が荒い従来技術または従来の導電性エポ
キシ樹脂技法に比べてはるかに良好な接着層を提供しう
ろことが認められる。
第1図および第2図は、本発明に係る接着層を2つの基
材(物体1間に介在させたことから成る構造体の一例お
よび他の例を示す断面図であって。 12.14.32..34・・・基材、 26.40
・・・導電性微小球、 28.44・・・エポキシ樹
脂。
材(物体1間に介在させたことから成る構造体の一例お
よび他の例を示す断面図であって。 12.14.32..34・・・基材、 26.40
・・・導電性微小球、 28.44・・・エポキシ樹
脂。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、導電性の微小球を添加したエポキシ樹脂を用いて、
2つの基材を共に接着することを特徴とする2つの基材
間に薄い導電性接着層を付与する方法。 2、(a)2つの物体のそれぞれに導電性層をスパッタ
ーし、 (b)上記物体の一方のスパッター層に導電性微小球を
塗布し、次いで (c)2つの物体をエポキシ樹脂で接着して、スパッタ
ー層が導電性微小球と電気接触するようにする ことを特徴とする2つの物体を電気的に接着する方法。 3、(a)2つの物体の一方に導電性層をスパッターし
、 (b)該スパッター層に導電性微小球を塗布し、(c)
この第1スパッター層に第2の導電性層をスパッターし
て、該第2スパッター層が微小球を被覆し且つ被覆微小
球間にギャップが残るようにし、 (d)該ギャップにエポキシ樹脂を充填し、次いで (e)該エポキシ樹脂に他方の物体を適用して2つの物
体を接着し、これによつてスパッター層および微小球を
介して電気接触が起るようにすることを特徴とする2つ
の物体を電気的に接着する方法。 4、導電性微小球を添加したエポキシ樹脂を用いて2つ
の基材を共に接着したことから成る2つの基材間の薄い
導電性接着層。 5、(a)スパッター導電性層が2つの基材のそれぞれ
の上に存在し、 (b)該スパッター層間に導電性微小球が存在し、およ
び (c)エポキシ樹脂接着層が2つの基材間に存在して、
スパッター層のそれぞれが導電性微小球と電気接触し、
エポキシ樹脂が両基材を接着するようになつている前記
第4項記載の構造体。 6、微小球が銅からなる前記第5項記載の構造体。 7、スパッター層がクロムからなる前記第6項記載の構
造体。 8、微小球の平均直径が約2ミクロンである前記第7項
記載の構造体。 9、(a)第1スパッター導電性層が2つの基材の一方
の上に存在し、 (b)該第1スパッター層上に導電性微小球が存在し、 (c)第2スパッター導電性層が第1スパッター層上に
存在して、第2スパッター層が微小球を被覆し且つ被覆
微小球間にギャップが残るようになつており、および (d)該ギャップにエポキシ樹脂が充填され、該エポキ
シ樹脂によつて第2基材と第1基材が接着され、これに
よつてスパッター層および微小球を介して電気接触が起
るようになつている前記第5項記載の構造体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US616630 | 1984-06-04 | ||
| US06/616,630 US4552607A (en) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | Method of making electrically conductive thin epoxy bond |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6110883A true JPS6110883A (ja) | 1986-01-18 |
Family
ID=24470323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60121364A Pending JPS6110883A (ja) | 1984-06-04 | 1985-06-03 | 薄い導電性エポキシ樹脂接着層 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4552607A (ja) |
| EP (1) | EP0164674A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6110883A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6130059A (ja) * | 1984-07-20 | 1986-02-12 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
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| US4552607A (en) | 1985-11-12 |
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| EP0164674A3 (en) | 1987-01-07 |
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