JPS61120362A - 溝付光デイスク原盤の製造方法 - Google Patents
溝付光デイスク原盤の製造方法Info
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- JPS61120362A JPS61120362A JP24103184A JP24103184A JPS61120362A JP S61120362 A JPS61120362 A JP S61120362A JP 24103184 A JP24103184 A JP 24103184A JP 24103184 A JP24103184 A JP 24103184A JP S61120362 A JPS61120362 A JP S61120362A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は溝付光ディスク原盤の製造方法に関するもので
ある。
ある。
（従来技術とその問題点）
従来、ダイヤモンドスタイラスを用いた機械式カッティ
ング法により溝付光ディスク用原盤を加工する場合、一
般に第７図に示す如く、アルミニウム板６を心材として
、これに亜鉛・ニッケルの下地めっき７を行なった後、
銅の電鋳８を０．３σ程度につけた構造のものを光ディ
スク用原盤として用いていた。しかしながらこのような
構造の原盤を作成する場合、銅の電鋳を研摩あるいけダ
イヤモンド力、ティング等により高精度な鏡面に仕上げ
なくてはならず、しかもこのような、構造の原盤を用い
て、一定深さを有する溝を加工するたメニハ、ダイヤモ
ンドスタイラスを銅の電鋳の表面に存在するうねりに追
従して切込が一定となるように微動させなくてはならず
非常に困難であったＯ （発明の目的） 本発明はこのような従来の欠点を除去せしめて、深さが
一定である溝を容具に加工でき、しかも高精度な鏡面を
有する溝付光ディスク用原盤の製造方法を提供すること
にある。
ング法により溝付光ディスク用原盤を加工する場合、一
般に第７図に示す如く、アルミニウム板６を心材として
、これに亜鉛・ニッケルの下地めっき７を行なった後、
銅の電鋳８を０．３σ程度につけた構造のものを光ディ
スク用原盤として用いていた。しかしながらこのような
構造の原盤を作成する場合、銅の電鋳を研摩あるいけダ
イヤモンド力、ティング等により高精度な鏡面に仕上げ
なくてはならず、しかもこのような、構造の原盤を用い
て、一定深さを有する溝を加工するたメニハ、ダイヤモ
ンドスタイラスを銅の電鋳の表面に存在するうねりに追
従して切込が一定となるように微動させなくてはならず
非常に困難であったＯ （発明の目的） 本発明はこのような従来の欠点を除去せしめて、深さが
一定である溝を容具に加工でき、しかも高精度な鏡面を
有する溝付光ディスク用原盤の製造方法を提供すること
にある。
（発明の構成）
本発明によれば、研摩したガラス盤上に、第一層として
Ｃｒｓ Ｔｆ 、Ｎｉ −Ｏｒのいずれかの薄膜を形成
し、第二層としてＡｕの薄膜を形成し、前記第一層と前
記第二層の膜厚の和を加工する溝の溝深さに等しく形成
し、ダイヤモンドスタイラスにより溝を加工することを
特徴とする溝付光ディスク原盤の製造方法が得られる。
Ｃｒｓ Ｔｆ 、Ｎｉ −Ｏｒのいずれかの薄膜を形成
し、第二層としてＡｕの薄膜を形成し、前記第一層と前
記第二層の膜厚の和を加工する溝の溝深さに等しく形成
し、ダイヤモンドスタイラスにより溝を加工することを
特徴とする溝付光ディスク原盤の製造方法が得られる。
（構成の詳細な説ｖｆ４）
本発明は上述の構成をとることにより従来技術の問題点
を解決した。ガラスとＡｕの付着力は小さいため、まず
第一層としてガラス及びＡｕと付着力の大きいＯｒ、’
Ｉ’ＬあるいはＮｆ −Ｏｒのいずれかの薄膜をガラス
盤上に形成する。次に第二層としてダイヤモンドと化学
的に不活性であり快削性に優れる肺の薄膜を第一層の上
忙形成する。ここでガラス盤をよく研摩し、真空蒸着法
、イオンプレートコーティング法、あるいはメッキ法等
により上述第一層及び第二層を形成することにより第二
層であるＡｕの表面はガラス盤の表面にならった非常に
高精度な鏡面を達成することかできる。
を解決した。ガラスとＡｕの付着力は小さいため、まず
第一層としてガラス及びＡｕと付着力の大きいＯｒ、’
Ｉ’ＬあるいはＮｆ −Ｏｒのいずれかの薄膜をガラス
盤上に形成する。次に第二層としてダイヤモンドと化学
的に不活性であり快削性に優れる肺の薄膜を第一層の上
忙形成する。ここでガラス盤をよく研摩し、真空蒸着法
、イオンプレートコーティング法、あるいはメッキ法等
により上述第一層及び第二層を形成することにより第二
層であるＡｕの表面はガラス盤の表面にならった非常に
高精度な鏡面を達成することかできる。
以上のように構成した原盤上に一定垂直荷重を作用させ
たダイヤモンドバイトを押し当て、ガラス盤を溝深さを
決定するストッパーとして用いガラス盤を移動すること
により、容易に第一層と第二層の膜厚の和に等しい一定
深さを有する溝を加工することができる。尚、心材は溝
深さを決定するストッパーとして用いるため、アルミニ
ウムのような軟質金属を用いることはできない。また、
従来法では第二層として銅を用いているが、＃Ｉは酸化
しやすいため好ましくない。
たダイヤモンドバイトを押し当て、ガラス盤を溝深さを
決定するストッパーとして用いガラス盤を移動すること
により、容易に第一層と第二層の膜厚の和に等しい一定
深さを有する溝を加工することができる。尚、心材は溝
深さを決定するストッパーとして用いるため、アルミニ
ウムのような軟質金属を用いることはできない。また、
従来法では第二層として銅を用いているが、＃Ｉは酸化
しやすいため好ましくない。
（実施例）
以下本発明の一実施例について図面を参照して詳細に説
明する。第１図に本発明の一実施例として溝付光ディス
ク用原盤の断面図を示す。よく研摩された内径ρ１５、
外径０１２０のドーナツ状のガラス円盤１の上に真空蒸
着により、第一層としてＯｒの薄膜２を０．０１＃１の
厚さに形成し、さらに第二層として真空蒸着によりＡｕ
の薄膜３を０．０６μｍの厚さに形成する。ｇｚ図には
Ｏｒの薄膜を形成せずにガラス円盤１に直接、Ａｕの薄
膜３を０．０７μｍ形成させた溝付光ディスク用原盤の
断面図を示す。上述の２種類の原盤上に第３図忙示す刃
先幅０．７μｍ１刃先角６０°であるダイヤモンドバイ
ト４を用いて溝の加工を行なった。溝の加工は第４図に
示すようにエアスピンドル５上に固定したガラス円盤１
を５０ｒ、ｐ、ｍで回転しながらダイヤモ： ドバイ）
４に一定垂直荷重Ｊ’＝Ｑ、ｌ ５ｇｆを作用させるこ
とにより行なった。第５図（ａ）、（ｂ）にはそれぞれ
第１図、第２図で示した原盤上に加工し止溝の平面図を
示す。第２図で示すようなガラス円盤１上に直接Ａｕの
薄膜３を形成した原盤上に溝を加工する場合には、ガラ
ス円盤１とＡｕ ３の付着強度が弱いため、第５図（ｂ
）で示すように付着面でＡｕ３ボむしられるように削り
取られてしまうなめ蛇行した溝が形成される。ところが
、第１図で示すようにガラス円盤１とＡｕ ３の間に付
着強度を増加させる目的でＯｒの薄膜２を形成した第１
図で示す原盤においては、第５図（ａ）で示すように付
着面でのむしれは生じなくなり一定形状を有する溝を加
工することができる。第６図には第１図に示す原盤を用
いて溝を加工し念場合の溝断面を示すボ、Ａｕ ３の表
面における溝幅的０．８４ｍ１ガテス円盤１０表面にお
ける溝幅的０．７μｍ１溝深さ０．０７μｍである逆台
形の溝加工が容易に可能となった。
明する。第１図に本発明の一実施例として溝付光ディス
ク用原盤の断面図を示す。よく研摩された内径ρ１５、
外径０１２０のドーナツ状のガラス円盤１の上に真空蒸
着により、第一層としてＯｒの薄膜２を０．０１＃１の
厚さに形成し、さらに第二層として真空蒸着によりＡｕ
の薄膜３を０．０６μｍの厚さに形成する。ｇｚ図には
Ｏｒの薄膜を形成せずにガラス円盤１に直接、Ａｕの薄
膜３を０．０７μｍ形成させた溝付光ディスク用原盤の
断面図を示す。上述の２種類の原盤上に第３図忙示す刃
先幅０．７μｍ１刃先角６０°であるダイヤモンドバイ
ト４を用いて溝の加工を行なった。溝の加工は第４図に
示すようにエアスピンドル５上に固定したガラス円盤１
を５０ｒ、ｐ、ｍで回転しながらダイヤモ： ドバイ）
４に一定垂直荷重Ｊ’＝Ｑ、ｌ ５ｇｆを作用させるこ
とにより行なった。第５図（ａ）、（ｂ）にはそれぞれ
第１図、第２図で示した原盤上に加工し止溝の平面図を
示す。第２図で示すようなガラス円盤１上に直接Ａｕの
薄膜３を形成した原盤上に溝を加工する場合には、ガラ
ス円盤１とＡｕ ３の付着強度が弱いため、第５図（ｂ
）で示すように付着面でＡｕ３ボむしられるように削り
取られてしまうなめ蛇行した溝が形成される。ところが
、第１図で示すようにガラス円盤１とＡｕ ３の間に付
着強度を増加させる目的でＯｒの薄膜２を形成した第１
図で示す原盤においては、第５図（ａ）で示すように付
着面でのむしれは生じなくなり一定形状を有する溝を加
工することができる。第６図には第１図に示す原盤を用
いて溝を加工し念場合の溝断面を示すボ、Ａｕ ３の表
面における溝幅的０．８４ｍ１ガテス円盤１０表面にお
ける溝幅的０．７μｍ１溝深さ０．０７μｍである逆台
形の溝加工が容易に可能となった。
また第一層としてＴｉ１及びＮｉ−０ｒを用いた場合も
同様の効果が得られた。
同様の効果が得られた。
（発明の効果）
ダイヤモンドスタイラスを用いた機械式カッティング法
により溝付光ディスク用原盤を加工する場合、従来アル
ミニウム板を心材としてこれに亜鉛・ニッケルの下地め
っきを行なった後胴の電鋳をつけた構造のものが用いら
れていたが、銅の電鋳の表面を高精度な鏡面に仕上げる
ことは困難であり、Ｌｄ−も銅の１１鋳の表面に存在す
るうねりのために一定深さを有する溝を加工することは
非常に困難であった。本発明によれは、ガラス盤を溝深
さを決定するストッパーとして用いることかでき、容烏
に一定深さの溝を加工することができ、しかもガラス盤
の表面にならった高精度な鏡面を得ることができる。
により溝付光ディスク用原盤を加工する場合、従来アル
ミニウム板を心材としてこれに亜鉛・ニッケルの下地め
っきを行なった後胴の電鋳をつけた構造のものが用いら
れていたが、銅の電鋳の表面を高精度な鏡面に仕上げる
ことは困難であり、Ｌｄ−も銅の１１鋳の表面に存在す
るうねりのために一定深さを有する溝を加工することは
非常に困難であった。本発明によれは、ガラス盤を溝深
さを決定するストッパーとして用いることかでき、容烏
に一定深さの溝を加工することができ、しかもガラス盤
の表面にならった高精度な鏡面を得ることができる。
第１図は本発明の一実施例を示す溝付光ディスク用原盤
の断面図、第２図は、本発明に用いた第一層の効果を示
すために用いた溝付光ディスク用原盤の断面図、第３図
は本発明の一実施例に用いたダイヤモンドバイトの正面
図、第４図は本発明の一実施例に用いた溝加工装置の概
略図、第５図（ｍｌ、（ｂ）はそれぞれ、第１図、第２
図に示す原盤上に加工した溝の平面図、第６図り本発明
の一実施例により加工された溝の断面図、ｌ／ｇ７図位
従末位従来光ディスク用原盤の断面図をそれぞれ示す。 １・・・ガラス盤 ２・・・Ｏｒの薄膜 ３・・・Ａｕ
Ｏ薄膜４・・・ダイヤモンドバイト ５・・・エアスピ
ンドル６・・・アルミニウム板 ７・・・亜鉛・二、ケ
ルのめっき ８・・・銅の電鋳 １７、ｆＦ７’：ｉ”、 ４Ｊ 、Ｔ’ｇ２ （”；二
）７Ｉ−３図
の断面図、第２図は、本発明に用いた第一層の効果を示
すために用いた溝付光ディスク用原盤の断面図、第３図
は本発明の一実施例に用いたダイヤモンドバイトの正面
図、第４図は本発明の一実施例に用いた溝加工装置の概
略図、第５図（ｍｌ、（ｂ）はそれぞれ、第１図、第２
図に示す原盤上に加工した溝の平面図、第６図り本発明
の一実施例により加工された溝の断面図、ｌ／ｇ７図位
従末位従来光ディスク用原盤の断面図をそれぞれ示す。 １・・・ガラス盤 ２・・・Ｏｒの薄膜 ３・・・Ａｕ
Ｏ薄膜４・・・ダイヤモンドバイト ５・・・エアスピ
ンドル６・・・アルミニウム板 ７・・・亜鉛・二、ケ
ルのめっき ８・・・銅の電鋳 １７、ｆＦ７’：ｉ”、 ４Ｊ 、Ｔ’ｇ２ （”；二
）７Ｉ−３図
Claims (1)
- 研摩したガラス盤上に第一層としてＣｒ、Ｔｉ、Ｎｉ−
Ｃｒのいずれかの薄膜を形成し、第二層としてＡｕの薄
膜を形成し、前記第一層と前記第二層の膜厚の和を加工
する溝の溝深さに等しく形成し、ダイヤモンドスタイラ
スにより溝を加工することを特徴とする溝付光ディスク
原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24103184A JPS61120362A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 溝付光デイスク原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24103184A JPS61120362A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 溝付光デイスク原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61120362A true JPS61120362A (ja) | 1986-06-07 |
Family
ID=17068294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24103184A Pending JPS61120362A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 溝付光デイスク原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61120362A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS637539A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Showa Alum Corp | 光デイスク用アルミニウム原盤の製造方法 |
| JPS637538A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Showa Alum Corp | 光デイスク用アルミニウム基板の製造方法 |
-
1984
- 1984-11-15 JP JP24103184A patent/JPS61120362A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS637539A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Showa Alum Corp | 光デイスク用アルミニウム原盤の製造方法 |
| JPS637538A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-13 | Showa Alum Corp | 光デイスク用アルミニウム基板の製造方法 |
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