JPS61124035A - シヤドウマスク成形方法 - Google Patents
シヤドウマスク成形方法Info
- Publication number
- JPS61124035A JPS61124035A JP59245224A JP24522484A JPS61124035A JP S61124035 A JPS61124035 A JP S61124035A JP 59245224 A JP59245224 A JP 59245224A JP 24522484 A JP24522484 A JP 24522484A JP S61124035 A JPS61124035 A JP S61124035A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- curved surface
- axis
- springback
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0788—Parameterised dimensions of aperture plate, e.g. relationships, polynomial expressions
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はＣＲＴディスプレイ用シャドウマスクのプレス
成形方法に関するものである。
成形方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
カラー受像管、ＣＲＴディスプレイ装置等に使用される
シャドウマスクはその機能上、パネルとの間隔及びシャ
ドウマスク曲面は所定の値と形状が正確に保持される必
要がある。特に高精細度ＣＲＴデイスプレイ装置はパイ
・層間隔及びシャドウマスク曲面精度を０．０５−０．
１ ｗｒ程度に保持する必要がある。
シャドウマスクはその機能上、パネルとの間隔及びシャ
ドウマスク曲面は所定の値と形状が正確に保持される必
要がある。特に高精細度ＣＲＴデイスプレイ装置はパイ
・層間隔及びシャドウマスク曲面精度を０．０５−０．
１ ｗｒ程度に保持する必要がある。
ところで一般にシャドウマスクは板厚が０．１〜０．２
程度と薄くこれに対してシャドウマスク曲面部の曲率
半径は６００〜１２００間程度と大きくかつ曲面部の面
積が大きいのでプレス成形によってスプリングバックを
起こし易くかつ有孔材を５Ｍ、形ｆることがらスプリン
グバックによる変形量が一率でなく部分的な凹凸が発生
し易い。
程度と薄くこれに対してシャドウマスク曲面部の曲率
半径は６００〜１２００間程度と大きくかつ曲面部の面
積が大きいのでプレス成形によってスプリングバックを
起こし易くかつ有孔材を５Ｍ、形ｆることがらスプリン
グバックによる変形量が一率でなく部分的な凹凸が発生
し易い。
従来のシャドウマスク成形においては、ンヤドウマスク
の全面にわたって一定の率のスプリングバックを見込ん
で形成された装置を用いて成形されていたが、所望の曲
面精度に成形する事は困難であった。そのためにカラー
受像管では色むらの原因となり、ＣＲＴディスプレイ装
置ではピンボケ現象が発生し、致命的な不良の要因とな
っていた。
の全面にわたって一定の率のスプリングバックを見込ん
で形成された装置を用いて成形されていたが、所望の曲
面精度に成形する事は困難であった。そのためにカラー
受像管では色むらの原因となり、ＣＲＴディスプレイ装
置ではピンボケ現象が発生し、致命的な不良の要因とな
っていた。
発明の目的
本発明は、以上のような従来技術の欠点を克服すべく、
成形におけるスプリングパンク量をシャドウマスク曲面
全体に対して適正に設定することによジ精度の良いシャ
ドウマスク曲面を創出する成形方法を提供するものであ
る。
成形におけるスプリングパンク量をシャドウマスク曲面
全体に対して適正に設定することによジ精度の良いシャ
ドウマスク曲面を創出する成形方法を提供するものであ
る。
発明の構成
本発明はプレス成形すべきシャドウマスクの曲面上の任
意の点Ｐにおける曲面中心からの高さをＺｌ、プレス成
形によるスプリングバック量をＺ２としたとき、シャド
ウマスク成形装置の曲面の高さはＺ＝Ｚ１＋Ｚ２で表現
し、 この時、Ｚ２＝Ｒ２−６四＝１７ Ｒ２＝Σ（Ａ１− ｃｏｓ”θ＋Ｂ１・５Ｌｎｎθ＋Ｃ
１・ｅｘｐ（Ｄｌ、（Ｅｌ−θ２）〕ただし、Ｌは曲面
中心から任意の点までの距離Ａ１Ｂ、Ｃ１Ｄ１Ｅ１〜Ａ
ｍＢ！！ＩＣよりｍＥ！ｎは定数θはＸ軸となす角度 ｎは正の偶数値 で表わされる方法で、曲面全体にわたってなめらかに変
化するようにスプリングバックｔｔ設定した曲面によジ
酸形する構成でらジ、シャドウマスクを所望の曲面で製
作でき、精度良く高品質なディスプレイ装置を提供でき
る。
意の点Ｐにおける曲面中心からの高さをＺｌ、プレス成
形によるスプリングバック量をＺ２としたとき、シャド
ウマスク成形装置の曲面の高さはＺ＝Ｚ１＋Ｚ２で表現
し、 この時、Ｚ２＝Ｒ２−６四＝１７ Ｒ２＝Σ（Ａ１− ｃｏｓ”θ＋Ｂ１・５Ｌｎｎθ＋Ｃ
１・ｅｘｐ（Ｄｌ、（Ｅｌ−θ２）〕ただし、Ｌは曲面
中心から任意の点までの距離Ａ１Ｂ、Ｃ１Ｄ１Ｅ１〜Ａ
ｍＢ！！ＩＣよりｍＥ！ｎは定数θはＸ軸となす角度 ｎは正の偶数値 で表わされる方法で、曲面全体にわたってなめらかに変
化するようにスプリングバックｔｔ設定した曲面によジ
酸形する構成でらジ、シャドウマスクを所望の曲面で製
作でき、精度良く高品質なディスプレイ装置を提供でき
る。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について説明する。
第１図Ａ、Ｂ、Ｃはそれぞれシャドウマスクの正面図、
Ｘ軸断面図、Ｔ軸断面図である。第１図Ａにおいてシャ
ドウマスクの曲面部中心を原点にとり、シャドウマスク
の長軸をＸ軸、短軸ｉＹ軸。
Ｘ軸断面図、Ｔ軸断面図である。第１図Ａにおいてシャ
ドウマスクの曲面部中心を原点にとり、シャドウマスク
の長軸をＸ軸、短軸ｉＹ軸。
Ｘ軸Ｙ軸に垂直の方向ｆｔＺ軸にとり、原点を通ってＸ
Ｙ平面上でＸ軸に対し任意の角度θだけ傾いた軸をＴ軸
とする。シャドウマスク曲面部の任意の点Ｐ（ｘ、ｙ）
における原点からのＺ軸方向の距離を２１とすると２１
−Ｊ（！＋７） なる多項式で表わされる。逆にこの
式によってシャドウマスク全面におけるＺｌの値が求め
られる曲面を決定することができる。
Ｙ平面上でＸ軸に対し任意の角度θだけ傾いた軸をＴ軸
とする。シャドウマスク曲面部の任意の点Ｐ（ｘ、ｙ）
における原点からのＺ軸方向の距離を２１とすると２１
−Ｊ（！＋７） なる多項式で表わされる。逆にこの
式によってシャドウマスク全面におけるＺｌの値が求め
られる曲面を決定することができる。
第１表はＴ軸上の原点からの長さＬにおけるスプリング
バック見込量を事例として示したものである。通常スプ
リングバックはＴ軸上で中心部に近い部分と外周に近い
部分の値を組み合わせたものであるが、ここでは中心部
に近い部分について事例を述べる。シャドウマスクは中
心点に対して対称でｈｖこのＴ軸上のスプリングバック
量は中心を含めた３点から求めた１つの曲率半径で実用
上近似することができる。
バック見込量を事例として示したものである。通常スプ
リングバックはＴ軸上で中心部に近い部分と外周に近い
部分の値を組み合わせたものであるが、ここでは中心部
に近い部分について事例を述べる。シャドウマスクは中
心点に対して対称でｈｖこのＴ軸上のスプリングバック
量は中心を含めた３点から求めた１つの曲率半径で実用
上近似することができる。
第 １ 表
これらの曲率半径ＲＴ・はＲＴ＝ｆ（ｚ、ｙ）で表現す
ることができ、この時のスプリングバック量Ｚ２は・Ｚ
２ ＝ ＲＴｒ可で求められる。
ることができ、この時のスプリングバック量Ｚ２は・Ｚ
２ ＝ ＲＴｒ可で求められる。
さらにθが０°から９０°にわたる間にこのＲＴをなめ
らかに変化させる方法として Ｒ７＝Σ（Ａ−ＣＯＳ”θ＋Ｂ −５Ｉｎ”θ＋Ｇ −
１１３ＣＰ（Ｄ −（Ｅ−θ）勺〕θ＝−（−） Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅは定数 ｎは正の偶数値 で示される多項式を用いる事により、！′Ｐ！度よくな
めらかに変化するスプリングバック量の設定が可能とな
る。なお９０°から３６００については、形状がＸ軸Ｙ
軸に対称であることがら上記の方法から簡単に求められ
る。
らかに変化させる方法として Ｒ７＝Σ（Ａ−ＣＯＳ”θ＋Ｂ −５Ｉｎ”θ＋Ｇ −
１１３ＣＰ（Ｄ −（Ｅ−θ）勺〕θ＝−（−） Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅは定数 ｎは正の偶数値 で示される多項式を用いる事により、！′Ｐ！度よくな
めらかに変化するスプリングバック量の設定が可能とな
る。なお９０°から３６００については、形状がＸ軸Ｙ
軸に対称であることがら上記の方法から簡単に求められ
る。
即ち、シャドウマスク成形装置の曲面高さＺはシャドウ
マスク曲面高さＺｌとスプリングバック見込量ｚ２を用
いて ２＝２１＋２２として全面にわたってなめらかで
精度よく表現する事ができ、この方法で作成されたシャ
ドウマスク成形装置を用いて成形することにより、所望
の曲面を有するシャドウマスクを製作することができる
。
マスク曲面高さＺｌとスプリングバック見込量ｚ２を用
いて ２＝２１＋２２として全面にわたってなめらかで
精度よく表現する事ができ、この方法で作成されたシャ
ドウマスク成形装置を用いて成形することにより、所望
の曲面を有するシャドウマスクを製作することができる
。
また、特殊な場合としてシャドウマスクの曲面が上記の
ように曲面中心を含んだＲ１で表現される性質のもので
あれば（例えば球面のように）、シャドウマスク成形装
置の曲率半径ＲをＲ＝Ｒ１＋ＲＴとし、Ｚ＝２１＋Ｚ２
の替わりにＺ＝Ｒ−ｍでシャドウマスク成形装置 の曲面を表現しても等価である。第１表にこの事例とし
てＲＴ ｉ近似スプリングバック量として設定したもの
を示す。なお、第１表のＲＴを満足する多項式は、 Ｒ７＝＝−６，７７ＣＯＳ２θ−１１，ｏｓＩｒ１２θ
＋６．２２６ｅｘｐ（−０，００５（θ−３５，５）
）＋０．４５ｅｘｐ（−０，００７（θ−６３．０）
） で表現され、これのθが０°から９０°までの変化を第
２図に示す。例えば６０°の時、９．３になっており、
全ての曲面上でなめらかに精度よく設定が行なわれてい
る事がよくわかる。また、シャドウマスクが曲率半径８
００であったとすれば、第２図の右側の数値より、６０
’の時、曲率半径を７９０６７になるようにシャドウマ
スク成形装置を製作すればよいことがわかる。
ように曲面中心を含んだＲ１で表現される性質のもので
あれば（例えば球面のように）、シャドウマスク成形装
置の曲率半径ＲをＲ＝Ｒ１＋ＲＴとし、Ｚ＝２１＋Ｚ２
の替わりにＺ＝Ｒ−ｍでシャドウマスク成形装置 の曲面を表現しても等価である。第１表にこの事例とし
てＲＴ ｉ近似スプリングバック量として設定したもの
を示す。なお、第１表のＲＴを満足する多項式は、 Ｒ７＝＝−６，７７ＣＯＳ２θ−１１，ｏｓＩｒ１２θ
＋６．２２６ｅｘｐ（−０，００５（θ−３５，５）
）＋０．４５ｅｘｐ（−０，００７（θ−６３．０）
） で表現され、これのθが０°から９０°までの変化を第
２図に示す。例えば６０°の時、９．３になっており、
全ての曲面上でなめらかに精度よく設定が行なわれてい
る事がよくわかる。また、シャドウマスクが曲率半径８
００であったとすれば、第２図の右側の数値より、６０
’の時、曲率半径を７９０６７になるようにシャドウマ
スク成形装置を製作すればよいことがわかる。
シャドウマスクの大きさは２インチから４０インチまで
多数あり、有孔形状９寸法及び外周形状も多くの種類が
あるが、はぼ相似形であり、本方式によって全て一様に
適用ができる。
多数あり、有孔形状９寸法及び外周形状も多くの種類が
あるが、はぼ相似形であり、本方式によって全て一様に
適用ができる。
発明の効果
以上のように、本発明によればプレス成形されたシャド
ウマスクを所望の曲面に製作でき、精度よく高品質なＣ
ＲＴディスプレイ装置を得ることができる。
ウマスクを所望の曲面に製作でき、精度よく高品質なＣ
ＲＴディスプレイ装置を得ることができる。
第１図はそれぞれ正面、Ｘ軸断面、Ｔ軸断面のシャドウ
マスクを示した説明図、第２図はスプリングバック量の
設定事例及びシャドウマスク成形装置の曲率半径設定事
例の図である。
マスクを示した説明図、第２図はスプリングバック量の
設定事例及びシャドウマスク成形装置の曲率半径設定事
例の図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 プレス成形すべきシャドウマスクの曲面上の任意の点Ｐ
における曲面中心からの高さをＺ＿１、プレス成形によ
るスプリングバック量をＺ＿２としたとき、シャドウマ
スク成形装置の曲面の高さはＺ＝Ｚ＿１＋Ｚ＿２で表現
し、 この時、Ｚ＿２＝Ｒ＿２−√（Ｒ＿２−Ｌ＾２）Ｒ＿２
＝Σ〔Ａ＿１・ｃｏｓ＾ｎθ＋Ｂ＿１・ｓｉｎ＾θ＋Ｃ
＿１・ｅｘｐ（Ｄ＿１・（Ｅ＿１−θ）＾２）〕 ただし、Ｌは曲面中心から任意の点までの距離Ａ＿１Ｂ
＿１Ｃ＿１Ｄ＿１Ｅ＿１〜Ａ＿ｍＢ＿ｍＣ＿ｍＤ＿ｍＥ
＿ｍは定数θはｘ軸となす角度 ｎは正の偶数値 で表わされる方法で、曲面全体にわたってなめらかに変
化するようにスプリングバック量を設定した曲面により
成形するシャドウマスク成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245224A JPS61124035A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | シヤドウマスク成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59245224A JPS61124035A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | シヤドウマスク成形方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61124035A true JPS61124035A (ja) | 1986-06-11 |
Family
ID=17130488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59245224A Pending JPS61124035A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | シヤドウマスク成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61124035A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5274278A (en) * | 1975-12-17 | 1977-06-22 | Hitachi Ltd | Formation of shadow mask for color cathode-ray tube |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP59245224A patent/JPS61124035A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5274278A (en) * | 1975-12-17 | 1977-06-22 | Hitachi Ltd | Formation of shadow mask for color cathode-ray tube |
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