JPS6113740B2 - - Google Patents

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JPS6113740B2
JPS6113740B2 JP52140321A JP14032177A JPS6113740B2 JP S6113740 B2 JPS6113740 B2 JP S6113740B2 JP 52140321 A JP52140321 A JP 52140321A JP 14032177 A JP14032177 A JP 14032177A JP S6113740 B2 JPS6113740 B2 JP S6113740B2
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JP
Japan
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dyes
groups
atom
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JP52140321A
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Hiroshi Hara
Kotaro Nakamura
Yoshiaki Suzuki
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Priority to DE19782849347 priority patent/DE2849347A1/de
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Priority to BE191722A priority patent/BE872002A/xx
Priority to GB7844499A priority patent/GB2013227B/en
Publication of JPS5472780A publication Critical patent/JPS5472780A/ja
Publication of JPS6113740B2 publication Critical patent/JPS6113740B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
    • G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
    • G03C7/392—Additives
    • G03C7/39208—Organic compounds
    • G03C7/39284—Metallic complexes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
    • C07F15/0086—Platinum compounds
    • C07F15/0093—Platinum compounds without a metal-carbon linkage
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/04—Nickel compounds
    • C07F15/045—Nickel compounds without a metal-carbon linkage
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C09K15/04—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/32—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing two or more of boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C09K15/326—Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing two or more of boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing only metals
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/815—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
    • G03C1/8155—Organic compounds therefor

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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本願発明は、有機基体物質の光に対する安定化
に関するものであり、更に詳しくは、有機化合物
とくに有機染料の光に対する安定化に関するもの
である。 一般に、有機基体物質、たとえば有機染料が光
の作用を受けて退色もしくは変色する傾向がある
ことは広く知られているが、インク、せんいの染
色あるいはカラー写真などの分野では、このよう
な有機染料の退色もしくは変色を防止すること、
すなわち耐光性を向上させるための研究が行われ
てきている。本願発明は、上述の有機基体物質の
耐光性の向上の目的で極めて有利に用いられる。 本願明細書において、有機基体物質もしくは基
体化合物なる用語は、日光の照射下において、人
間の眼に有色もしくは無色にみえる物質を包含
し、単に可視域に吸収極大を有する物質だけでな
く、たとえば、光学的増白剤あるいは赤外部に吸
収極大を有する物質をも包含する。本願発明にお
いては、有機基体物質は紫外部の約300nmから赤
外部の約800nmに吸収極大を有する有機物質を包
含する。 本願明細書において、色素もしくは染料なる用
語は、光の照射下において、人間の眼に有色にみ
える有機物質を包含する。 本願明細書において、光という用語は、約
800nm未満の電磁波を意味し、約400nm未満の紫
外線、約400nmないし約700nmの可視光線、およ
び約700nmないし約800nmの赤外線を包含する。 従来から有機基体物質、たとえば色素もしくは
染料が光によつて退色もしくは変色する傾向があ
ることが知られており、この退色もしくは変色を
減少せしめる方法、すなわち、耐光性を向上せし
める方法については、多くの報告がある。たとえ
ば、米国特許第3432300号には、インドフエノー
ル、インドアニリン、アゾおよびアゾメチン染料
のような有機化合物を、融合複素環系を有するフ
エノールタイプの化合物と混合することにより、
可視および紫外の光に対する堅牢性が改良される
ことが記載されている。 一般に、ハロゲン化銀写真感光材料の分野で
は、C.E.K.MeesおよびT.H.James著“The
Theory of the Photographic Process”
(Macmillan社1967年刊)の第17章に記載されて
いるように、芳香族第一級アミン現象主薬の酸化
体と発色剤(カプラー)との反応によつて、アゾ
メチン染料またはインドアニリン染料が形成され
るが、これらの染料からできた像、すなわちカラ
ー画像の光に対する安定性を改良する方法につい
ては、数多くのものが知られている。たとえば、
米国特許第2360290号、同第2418613号、同第
2675314号、同第2701197号、同第2704713号、同
第2728659号、同第2732300号、同第2735765号、
同第2710801号、同第2816028号、英国特許第
1363921号等に記載されたハイドロキノン誘導
体、米国特許第3457079号、同第3069262号、特公
昭43−13496号等に記載された没食子酸誘導体、
米国特許第2735765号、同第3698909号に記載され
たp−アルコキシフエノール類、米国特許第
3432300号、同第3573050号、同第3574627号、同
第3764337号、同第3574626号、同第3698909号、
同第4015990号に記載されたごときクロマンやク
マラン等の誘導体などが知られている。しかし、
これらの化合物は、色像の退色や変色防止剤とし
ての効果はあるが十分ではない。 また、有機基体化合物の光に対する安定性を、
その吸収極大が、基体化合物の吸収極大よりも深
色性であるようなアゾメチン消光化合物を用いて
改良する方法が、英国特許第1451000号に記載さ
れているが、このアゾメチン消光化合物自身が強
く着色しているため、基体物質の色相への影響が
大きいという点で不利である。 また、金属錯体をポリマーの光劣化防止に使用
することが、J.P.GuilloryとR.S.Beckerにより、
J.Polym.Sci.,Polym.Chem.Ed.,12,993
(1974)に、R.P.R.RanaweeraとG.Scottにより、
J.Polym.Sci.,Polym.Lett.Ed.,13,71(1975)
に記載されており、金属錯体による染料の安定化
の方法が特開昭第50−87649号およびResearch
Disclosure15162(1976)に記載されている。し
かし、これらの錯体は退色防止効果そのものが大
きくない上に、有機溶媒への溶解性が高くないの
で、退色防止効果を十分発揮せしめるだけの量
を、加えることができない。その上、これらの錯
体は、それ自体の着色が大きいために、多量に添
加すると、有機基体物質、とくに染料の色相なら
びに純度に悪影響を及ぼすという欠点を有してい
る。 したがつて、本願発明のひとつの目的は、有機
基体物質の光に対する安定性を改良する方法を提
供することである。 本願発明の他の目的のひとつは、有機基体物
質、とくに色素もしくは染料の色相ならびに純度
を悪化させることなしに、これらの物質の光に対
する安定性を改良する方法を提供することであ
る。 本願発明の他の目的のひとつは、有機溶剤への
溶解度が高く、有機基体物質との混和性が高い有
機基体物質安定化剤を用いて、有機基体物質の光
に対する安定性を改良する方法を提供することで
ある。 本願発明の他の目的のひとつは、カラー写真画
像を形成する色像の光に対する安定性を改良する
方法を提供することである。 本願発明の他の目的のひとつは、芳香族第一級
アミン現像主薬と、カラーカプラーとの反応によ
つて形成される染料の光に対する安定性を改良す
る方法を提供することである。 本願発明のその他の目的は、明細書の以下の記
載から明らかとなるであろう。 本願発明の上記の目的ならびにその他の目的
は、約300nmないし約800nmに吸収極大を有する
有機基体物質と下記一般式で表わされる錯体の少
くとも一種を共存させることにより達成された。 式中MはCu,Co,Ni,PdまたはPtを表わす。 R1とR6は、それぞれ水素原子、アルキル基、
アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アリーロキシカルボニル基、アルキルスルホ
ニル基またはアリールスルホニル基を表わし、そ
れぞれ同じであつても異つていてもよい。 R2,R3,R4およびR5は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、直接もしくは2価の連
結基を介してベンゼン環上の炭素原子に間接的に
結合するアルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、複素環基、または、R2とR3、R3とR4もし
くはR4とR5は互いに結合して6員環を形成する
のに必要な非金属原子群を表わす。 R1とR6で表わされるアルキル基は置換アルキ
ル基および無置換アルキル基の両方を包含し、直
鎖アルキル基、分岐アルキル基のいずれであつて
もよい。これらのアルキル基は、置換基部分の炭
素原子を除いて、好ましくは炭素数1ないし20の
アルキル基であり、たとえば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、
ヘキサデシル基、ヘプタデシル基またはオクタデ
シル基などをあげることができる。 R1とR6で表わされるアリール基は、置換アリ
ール基および無置換アリール基の両方を包含し、
置換基部分の炭素原子を除いて、好ましくは炭素
数6ないし14のアリール基であり、たとえば、フ
エニル基、トリル基またはナフチル基などをあげ
ることができる。 R1とR6で表わされるアシル基は、置換アシル
基および無置換アシル基の両方を包含し、置換基
部分の炭素原子を除いて、好ましくは炭素数2な
いし21のアシル基であり、たとえば、アセチル
基、バレリル基、ステアロイル基、ベンゾイル基
またはナフトイル基などをあげることができる。 R1とR6で表わされるアルコキシカルボニル基
は、置換アルコキシカルボニル基および無置換ア
ルコキシカルボニル基の両方を包含し、その置換
基部分の炭素原子を除いて、好ましくは炭素数2
ないし21のアルコキシカルボニル基であり、たと
えば、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基またはプロポキシカルボニル基などをあげる
ことができる。 R1とR6で表わされるアリーロキシカルボニル
基は、置換アリーロキシカルボニル基および無置
換のアリーロキシカルボニル基の両方を包含し、
その置換基部分の炭素原子を除いて、好ましくは
炭素数7ないし15のアリーロキシカルボニル基で
あり、たとえば、フエノキシカルボニル基または
トリロキシカルボニル基などをあげることができ
る。 R1とR6で表わされるアルキルスルホニル基
は、置換アルキルスルホニル基、無置換アルキル
スルホニル基の両方を包含し、置換基部分の炭素
原子を除いて好ましくは炭素数1ないし20のアル
キルスルホニル基であり、たとえば、メシル基、
ブタンスルホニル基などをあげることができる。 R1とR6で表わされるアリールスルホニル基
は、置換アリールスルホニル基、無置換アリール
スルホニル基の両方を包含し、置換基部分の炭素
原子を除いて好ましくは炭素数6ないし14のアリ
ールスルホニル基であり、たとえば、ベンゼンス
ルホニル基、トシル基などをあげることができ
る。 R2,R3,R4およびR5で表わされるハロゲン原
子は、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子
を包含する。 R2,R3,R4およびR5で表わされるアルキル基
は、好ましくは炭素数1ないし19のアルキル基で
あり、直鎖アルキル基、分岐アルキル基のいずれ
であつてもよく、また、置換、無置換のいずれで
あつてもよい。R2,R3,R4およびR5で表わされ
るアリール基は、好ましくは炭素数が6ないし14
のアリール基であり、置換、無置換のいずれであ
つてもよい。R2,R3,R4およびR5で表わされる
複素環基は、好ましくは5員環または6員環であ
り、置換、無置換のいずれであつてもよい。
R2,R3,R4およびR5で表わされるミクロアルキ
ル基は好ましくは5員環基または6員環基であ
り、置換、無置換のいずれであつてもよい。 R2とR3、R3とR4もしくはR4とR5とが互いに結
合して形成される6員環は、好ましくはベンゼン
環であり、このベンゼン環は置換、無置換のいず
れであつてもよく、また、縮合したものであつて
もよい。 R2,R3,R4およびR5で表わされる直鎖もしく
は分岐のアルキル基としては、たとえば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラ
デシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基をを
あげることができる。 R2,R3,R4およびR5で表わされるアリール基
としては、たとえば、フエニル基、ナフチル基を
あげることができる。 R2,R3,R4およびR5で表わされる複素環基
は、ヘテロ原子として、環中に少くとも1個の窒
素原子、酸素原子もしくはイオウ原子を含む5な
いし6員の複素環基であり、たとえば、フリル
基、ヒドロフリル基、チエニル基、ピローリル
基、ピロリジル基、ピリジル基、イミダゾリル
基、ピラゾリル基、キノリル基、インドリル基、
オキサゾリル基、チアゾリル基などをいげること
ができる。 R2,R3,R4およびR5で表わされるシクロアル
キル基としては、たとえば、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、シクロ
ヘキサジエニル基などをあげることができる。 R2とR3、R3とR4もしくはR4とR5とが互いに結
合して形成される6員環としては、たとえばベン
ゼン環、ナフタレン環、イソベンゾチオフエン
環、イソベンゾフラン環、イソインドリン環など
をあげることができる。 上記のR2,R3,R4およびR5で表わされるアル
キル基、シクロアルキル基、アリール基あるいは
複素環基は2価の連結基、たとえば、オキシ基
(−o−)、チオ基(−s−)、アミノ基、オキシ
カルボニル基、カルボニル基、カルボニルオキシ
基、カルバモイル基、スルフアモイル基、カルボ
ニルアミノ基、スルホニルアミノ基、またはスル
ホニル基などを介して、ベンゼン環上の炭素原子
に結合していてもよい。 R2,R3,R4およびR5で表わされるアルキル基
が上記の2価の連結基を介してベンゼン環上の炭
素原子に結合している例としては、アルコキシ基
(たとえば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ
基、プロポキシ基、n−デシルオキシ基、n−ド
デシルオキシ基、または、n−ヘキサデシルオキ
シ基など)、アルキルチオ基(たとえば、メチル
チオ基、プロピルチオ基、またはn−デシルチオ
基など)、(たとえばメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、n−
デシルオキシカルボニル基またはn−ヘキサデシ
ルオキシカルボニル基など)、アシル基(たとえ
ば、アセチル基、バレリル基、ステアロイル基、
ベンゾイル基またはトルオイル基など)、アシル
オキシ基(たとえば、アセトキシ基またはアシル
オキシ基など)、アルキルアミノ基(たとえば、
n−ブチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基
またはN,N−ジデシルアミノ基など)、アルキ
ルカルバモイル基、(たとえば、ブチルカルバモ
イル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、また
はn−ドデシルカルバモイル基など)、アルキル
スルフアモイル基(たとえば、ブチルスルフアモ
イル基、N,N−ジエチルスルフアモイル基また
はn−ドデシルスルフアモイル基など)、スルホ
ニルアミノ基(たとえば、メチルスルホニルアミ
ノ基、またはブチルスルホニルアミノ基など)、
スルホニル基(たとえば、メシル基、またはエタ
ンスルホニル基など)、またはアシルアミノ基
(たとえば、アセチルアミノ基、バレリルアミノ
基、パルミトイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基
またはトルオイルアミノ基など)などをあげるこ
とができる。 R2,R3,R4およびR5で表わされるシクロアル
キル基が上記の2価連結基を介して本発明の化合
物の環上の炭素原子に結合している例としては、
シクロヘキシルオキシ基、シクロヘキシルカルボ
ニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、シ
クロヘキシルアミノ基、シクロヘキセニルカルボ
ニル基またはシクロヘキセニルオキシ基などをあ
げることができる。 R2,R3,R4およびR5で表わされるアリール基
が上記の2価の連結基を介して本発明の化合物の
環上の炭素原子に結合している例としては、アリ
ーロキシ基(たとえば、フエノキシ基またはナフ
トキシ基など)、アリーロキシカルボニル基(た
とえば、フエノキシカルボニル基またはナフトキ
シカルボニル基など)、アリールチオ基(たとえ
ばフエニルチオ基、トリルチオ基など、アシル基
(たとえば、ベンゾイル基またはナフトイル基な
ど)、アシルオキシ基(たとえばベンゾイルオキ
シ基、トルオイルオキシ基またはナフトイルチオ
基など)、アニリノ基(たとえば、フエニルアミ
ノ基、N−メチルアニリノ基またはN−アセチル
アニリノ基など)、アリールカルバモイル基(た
とえば、フエニルカルバモイル基など)、アリー
ルスルフアモイル基(たとえばフエニルスルフア
モイル基など)、アリールスルホニルアミノ基
(フエニルスルホニルアミノ基、p−トリルスル
ホニルアミノ基など)、アリールスルホニル基
(ベンゼンスルホニル基、トシル基など)、または
アシルアミノ基(たとえばベンゾイルアミノ基な
ど)をあげることができる。 上記のR2,R3,R4およびR5で表わされるアル
キル基、アリール基、複素環基、シクロアルキル
基またはR2とR3もしくはR4とR5とが互いに結合
して形成される6員環は、ハロゲン原子(たとえ
ば塩素原子、臭素原子または弗素原子など)、シ
アノ基、直鎖もしくは分岐のアルキル基(たとえ
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタ
デシル基、オクタデシル基、またはメトキシエト
キシエチル基など)、アリール基(たとえば、フ
エニル基、トリル基、ナフチル基、クロロフエニ
ル基、メトキシフエニル基またはアセチルフエニ
ル基など)、アルコキシ基(たとえば、メトキシ
基、エトキシ基、ブトキシ基、プロポキシ基また
はメトキシエトキシ基など)、アリーロキシ基
(たとえばフエノキシ基、トリロキシ基、ナフト
キシ基またはメトキシフエノキキシ基など)、ア
ルコキシカルボニル基(た〃えば、メトキシカル
ボニル基、ブトキシカルボニル基またはフエノキ
シメトキシカルボニル基など)、アリーロキシカ
ルボニル基(たとえば、フエノキシカルボニル
基、トリロキシカルボニル基またはメトキシフエ
ノキシカルボニル基など)、アシル基(たとえば
ホルミル基、アセチル基、バレリル基、ステアロ
イル基、ベンゾイル基、トルオイル基、ナフトイ
ル基またはp−メトキシベンゾイル基など)、ア
シルオキシ基(たとえば、アセトキシ基またはア
シルオキシ基など)、アシルアミノ基(たとえ
ば、アセトアミド基、ベンズアミド基、またはメ
トキシアセトアミド基など)、アニリノ基(たと
えば、フエニルアミノ基、N−メチルアニリノ
基、N−フエニルアニリノ基、またはN−アセチ
ルアニリノ基など)、アルキルアミノ基(たとえ
ば、n−ブチルアミノ基、N,N−ジエチルアミ
ノ基、4−メトキシ−n−ブチルアミノ基な
ど)、カルバモイル基(たとえば、n−ブチルカ
ルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル
基、n−ブチルスルフアモイル基、N,N−ジエ
チルスルフアモイル基、n−ドデシルスルフアモ
イル基、またはN−(4−メトキシ−n−ブチ
ル)スルフアモイル基など)、スルホニルアミノ
基(たとえば、メチルスルホニルアミノ基、フエ
ニルスルホニルアミノ基、またはメトキシメチル
スルホニルアミノ基など)、またはスルホニル基
(たとえば、メシル基、トシル基またはメトキシ
メタンスルホニル基など)などで置換されていて
もよい。 一般式()で表わされる錯体のうち、本願発
明に好ましく用いられる錯体は、下記一般式(
a)で表わすことができる。 式中Mは一般式()で定義された金属原子と
同じ金属原子を表わす。 R7は一般式()中のR1またはR6で定義され
た置換基と同一の置換基を表わす。 R8は一般式()中のR2,R3,R4またはR5で
定義された置換基と同一の置換基を表わす。 下記構造式で表わされる化合物は、前記の一般
式()の範囲に属する錯体であつて、この発明
の実施に有効なものを例示するために記載したも
のであるが、本願発明は、これらの化合物に限定
されるものではない。 化合物 上記錯体の一般的合成方法はたとえばA.L.
Balch,R.H.Holm,JACS88、5201(1966)に記
載されている。 化合物1−1の合成 塩化ニツケル6水和物20gを50mlの水に溶か
し、これに濃アンモニア水60mlを加える。この溶
液に温水1.5に溶かしたオルトフエニレンジア
ミン12gの水溶液を加え室温で24時間撹拌する。
生成した暗青色の沈澱をロカ、メタノールで洗い
減圧乾燥する。DMF(ジメチルホルムアミド)−
エーテル混合溶媒より再結晶。 化合物1−9の合成 塩化ニツケル6水和物10gを水30mlに溶かし、
これに濃アンモニア水30mlを加える。この溶液に
温水600mlとエタノール200mlに溶かした1−クロ
ロ−3,4−ジアミノベンゼン8gを加え室温で
24時間撹拌する。生成した暗青色の沈澱をロカ、
メタノールで洗い、減圧乾燥する。DMF(ジメ
チルホルムアミド)−エーテル混合溶媒より再結
晶する。 本願発明に係わる有機基体物質は塩基性染料、
酸性染料、直接染料、可溶性建染染料、媒染染料
などの水溶性染料、硫化染料、建染染料、油溶染
料、分散染料、アゾイツク染料、酸化染料のごと
き不溶性染料、あるいは、反応性染料などの染色
的性質上の分類に属する染料をすべて包含する。
これらの有機基体物質は、日光の照射下で有色に
見える染料に止まらず、無色ないしは淡黄色の螢
光増白染料も包含する。 これらの染料は、キノンイミン染料(アジン染
料、オキサジン染料、チアジン染料など)、メチ
ンおよびポリメチン染料(シアニン染料、アゾメ
チン染料など)、アゾ染料、アントラキノン染
料、インドアミンおよびインドフエノール染料、
インジゴイド染料、カルボニウム染料、ホルマザ
ン染料などの化学構造上の分類に属する染料をす
べて包含する。 本願発明に係わる有機基体物質は、写真の分野
で用いられる画像形成用染料、たとえば、カラー
カプラー、DRR化合物、DDRカプラー、アミド
ラゾン化合物、色素現像薬などから形成される染
料、銀色素漂白法用染料などをすべて包含する。 本願発明に係る有機基体物質として用いるのに
好ましい染料は、アンスラキノン、キノンイミ
ン、アゾ、メチン、ポリメチン、インドアミン、
インドフエニール、およびホルマザン染料であ
る。本願発明を実施するに当り最も好ましく用い
られる染料は、メチンならびにポリメチン染料お
よびインドアミンならびにインドフエノール染料
である。このメチンならびにポリメチン染料、お
よびインドアミンならびにインドフエノール染料
は、下記の基を有する化合物を包含する。 上中、フエニル基は無置換のフエニル基、ある
いは、置換されたフエニル基、たとえば、アルキ
ル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アミノ基な
どで置換されたフエニル基を表わす。 本発明に用いるのに適する染料形成カツプラー
は、イエロー、マゼンタおよびシアン染料形成タ
イプのものを包含する。このカプラーは、たとえ
ば、米国特許第3277155号および同第3458315号に
記載されているような、いわゆる4当量タイプの
ものであつても2当量タイプのものであつてもよ
い。 イエロー染料形成カツプラーは、一般に、少な
くとも1個のカルボニル基(たとえば開鎖のケト
メチレン基)により活性化されたメチレン基を含
み、ベータジケトンおよびベータケトアシルアミ
ド、たとえば、ベンゾイルアセトアニリドならび
にアルフアピバリルアセトアニリドを包含する。
適当なカプラーは、たとえば、米国特許第
2428054号、同第2499966号、同第2453661号、同
第2778658号、同第2908573号、同第3227550号、
同第3253924号、同第3277155号、同第3384657号
および英国特許第503752号に記載されている。 マゼンタ染料形成カツプラー、たとえば5−ピ
ラゾロンタイプのカツプラーを本発明に用いるこ
ともできる。このタイプのカプラーは、たとえ
ば、米国特許第2600788号、同第2725292号、同第
2908573号、同第3006759号、同第3252924号、同
第4026706号および同第3311476号に記載されてい
る。 他のマゼンタ染料形成カツプラーは、Vittum
およびWeissbergerにより“Journal of
Photographic Science6,158(1958)”に記載さ
れているタイプのインダゾロン、米国特許第
3061432号に記載されているピラゾリノベンズイ
ミダゾール、ベルギー特許第724427号に記載され
ているピラゾロ−s−トリアゾールおよび米国特
許第2115394号に記載されているような2−シア
ノアセチルクマロンなどである。 本発明に用いることができるシアン染料形成カ
プラーは、フエノールおよびナフトール化合物を
包含する。このタイプの化合物は、米国特許第
2275292号、同第2423730号、同第2474293号、同
第2895826号、同第2908573号、同第3043892号、
同第3227550号、同第3253294号、および同第
4026706号に記載されている。 このようなカツプラーは、一般的には、たとえ
ばKirk−Othmerの“Encyclopedia of Chemical
Technology,5巻、822〜825頁”および
GlafkidesのPhotographic Chemistry,2巻、
596〜614頁”に記載されている。 本発明の実施に際して、このようなカツプラー
を用いると、酸化された芳香族第一級アミン現像
主薬とカツプラーとが反応して、染料が形成され
る。 上記の現像主薬は、アミノフエノールおよびフ
エニレンジアミンを包含し、これらの現像主薬を
単独もしくは組合せて使用することができる。 本発明において、カツプラーと反応して基体物
質を形成することができる現像主薬としては、た
とえばつぎのものをあげることができる。
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】 【式】
【式】
【式】
〔実施例 1〕
1−(2,4,6−トリクロロフエニル)−3−
(2−クロロ−5−テトラデカンアミド)アニリ
ノ−4−{4−(N−エチル−N−β−メタンスル
ホンアミドエチル)アミノフエニルイミノ}−5
−オキソ−2−ピラゾリン0.1gをトリオクチル
フオスフエート3ml及び酢酸エチル5mlに溶解さ
せ、この溶液を1%ドデシルベンゼンスルフオン
酸ナトリウム水溶液1mlを含む10%ゼラチン10g
に乳化分散させた。次いでこの乳化分散物を10%
ゼラチン10gと混合し、ポリエチレンで両面ラミ
ネートした紙支持体上に塗布し乾燥した。 (試料 A) 同様の方法で、上記の乳化分散物を作る際に本
発明の化合物(1−1)を20mg加え、試料Aと同
様の方法で塗布した試料試料B、及び色素の光退
色防止剤としては公知の2,5−ジ−tert−オク
チルハイドロキノンをそれぞれ25mg、250mg加
え、試料Aと同様の方法で塗布した試料C、試料
Dをつくつた。色素の塗布量はいずれも60mg/m2
となるように塗布した。これらの試料A〜Dにつ
いてキセノンテスター(照度20万lux)に富士フ
イルム製紫外線カツトフイルターC40を付けて48
時間退色テストした。 その結果を表に示す。
〔実施例 2〕
化合物(2−23)0.1gを1N−NaOH0.2c.c.とメ
タノール2c.c.とで溶解し、この溶液を10%ゼラチ
ン10gに加えた。 これをポリエチレンで両面ラミネートした紙支
持体上に、化合物(2−23)の塗布量が80mg/m2
になるように塗布した。(試料E) 同様の方法で塗布直前に本発明の化合物(1−
10)70mgをメタノール2c.c.に溶解した溶液を加え
て試料Eと同様の方法で塗布した試料F、及び比
較試料として色素の光退色防止剤としては公知の
α−トコフエロール100mgを加えて同様の方法で
塗布した試料Gをつくつた。これらの試料を〔実
施例1〕と同じように紫外線吸収フイルターをつ
けて12時間退色テストをした。 その結果を表に示す。
〔実施例 3〕
マゼンタカプラー1−(2,4,6−トリクロ
ロフエニル)−3−{(2−クロロ−5−テトラデ
カンアミド)アニリノ)}−2−ピラゾリン−5−
オン10gをトリオクチルフオスフエート30ml、ジ
メチルホルムアミド5ml、及び酢酸エチル15mlに
溶解させ、この溶液を1%ドデシルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム水溶液8mlを含む10%ゼラチン
溶液80gに乳化分散させた。 次にこの乳化分散物を緑感性の塩臭化銀乳剤
(Br50モル%)145g(Agで7g含有)に混合
し、塗布助剤としてドデシルベンゼンスルホン酸
ナトリウムを加えポリエチレンで両面ラミネート
した紙支持体上に塗布した。(試料H)カプラー
塗布量は400mg/m2である。 同様の方法で、上記の乳化分散物を作る際に本
発明の化合物(1〜15)を0.4g加え、試料Hと
同様の方法で塗布した試料、及び色素の光退色
防止剤としては公知の2,2′−メチレン−ビス
(4−メチル−6−tert−ブチルフエノール)2.5
gを加え試料Hと同様の方法で塗布した試料Jを
つくつた。 これらの試料を1000ルツクスで1秒露光し、次
の処理液で処理した。 現像液 ベンジルアルコール 15ml ジエチレントリアミン5酢酸 5g KBr 0.4g Na2SO3 5g Na2CO3 30g ヒドロキシルアミン硫酸塩 2g 4−アミノ−3−メチル−N− エチル−N−β−(メタンス ルホンアミド) −エチルアニ リン・3/2H2SO4・H2O 4.5g 水で1000mlにする PH10.1漂白定着液 チオ硫酸アンモニウム(70wt%) 150ml Na2SO3 5g Na〔Fe(EDTA)〕 40g EDTA 4g 水で1000mlにする PH6.8処理工程 温度 時間 現像液 33℃ 3分30秒 漂白定着液 33℃ 1分30秒 水 洗 28〜35℃ 3分 このようにして色素像を形成した各試料に
400mμ以下をカツトする富士フイルム紫外線吸
収フイルターC−40をつけて太陽光に2週間曝光
した。 その結果を表に示す。測定はマクベス濃度計
RD−514型(ステータスAAフイルター)で行い
初濃度2.0の濃度部分の濃度変化を測定した。
【表】 この結果から本発明の化合物(1〜15)は有効
な退色防止剤であることがわかる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 約300nmないし約800nmの範囲に吸収極大を
    有する有機基体物質と下記一般式()で表わさ
    れる錯体の少くとも一種を共存させることにより
    有機基体物質を光に対して安定化する方法。 式中MはCu,Co,Ni,PdまたはPtを表わす。 R1とR6は、それぞれ水素原子、アルキル基、
    アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル
    基、アリーロキシカルボニル基、アルキルスルホ
    ニル基またはアリールスルホニル基を表わしそれ
    ぞれ同じであつても異つていてもよい。 R2,R3,R4およびR5は、それぞれ水素原子、
    ハロゲン原子、シアノ基、直接もしくは2価の連
    結基を介してベンゼン環上の炭素原子に間接的に
    結合するアルキル基、アリール基、シクロアルキ
    ル基、複素環基、または、R2とR3、R3とR4もし
    くはR4とR5は互いに結合して6員環を形成する
    のに必要な非金属原子群を表わす。
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