JPS61139018A - チツプ型電子部品の外部接続用電極を形成する方法 - Google Patents

チツプ型電子部品の外部接続用電極を形成する方法

Info

Publication number
JPS61139018A
JPS61139018A JP59261364A JP26136484A JPS61139018A JP S61139018 A JPS61139018 A JP S61139018A JP 59261364 A JP59261364 A JP 59261364A JP 26136484 A JP26136484 A JP 26136484A JP S61139018 A JPS61139018 A JP S61139018A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
type electronic
electronic component
external connection
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP59261364A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0554245B2 (ja
Inventor
厚生 千田
卓二 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP59261364A priority Critical patent/JPS61139018A/ja
Priority to US06/807,270 priority patent/US4756928A/en
Publication of JPS61139018A publication Critical patent/JPS61139018A/ja
Publication of JPH0554245B2 publication Critical patent/JPH0554245B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002—Details
    • H01G4/228—Terminals
    • H01G4/232—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01C—RESISTORS
    • H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/006—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for manufacturing resistor chips
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G13/00—Apparatus specially adapted for manufacturing capacitors; Processes specially adapted for manufacturing capacitors not provided for in groups H01G4/00 - H01G11/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明はチップ型電子部品の外部接続用電極を形成す
る方法      ゛      、)瞥に関するもの
である。
(従来の技術) チップ型電子部品として、代表的なものにコンデンサ、
抵抗、インダクタンスなどがある。
第6図はチップ型コンデンサ、特にチップ型積層セラミ
ックコンデンサの典型的な構造を示す側面図である。
この図において、複数のM電体セラミック層2の間に内
部電極3が介挿された状態で積層体1が構成され、この
積層体1の内部電極3に接続される外部接続用電極4が
積層1句側面に形成されている。
第7図はチップ型抵抗の典型的な構造を示す側面図であ
る。
この図において、アルミナなどの基板5の上に電1fi
 6,6が形成され、この電極6.6間にたとえばRI
J 02からなる抵抗ペーストを焼き付けて抵抗体7を
形成し、電極6.6にそれぞ机電気接続する外部接続用
電極8が側面に形成されている。
第8図はチップ型インダクタの典型的な構造を示す概略
側面図である。
この図において、詳細に図示していないが、導体パター
ンを形成したフェライト生シートを複数枚積み重ね、フ
ェライト生シートに形成したスルーホールを介して導体
パターンがたとえば上から下へ連結され、結果的にはコ
イル9を内部に包含した状態で形成され、加圧一体化さ
れて焼成され、得られたチップ10の側面にコイル9の
端部と電気接続するように外部接続用電極11が形成さ
れている。
上記した各種のチップ型電子部品の外部接続用電極は、
通常ガラスフリット、ワニスを含む銀ペーストを塗布、
印刷などの手段で付与し、これを空気中で焼き付けるこ
とによって形成さ机ている。
(発明が解決しようとする問題点) ところが、外部接続用l1fflは上記したように、銀
ペーストの焼き付けにより形成したものであるため厚膜
状に形成されている。特に、第6図〜第8図に示した各
種のチップ型電子部品において、両平面の端部に盛り上
がり部分Aが形成されることになる。たとえば、第6図
に示したチップ型コンデンサについて説明すれば、チッ
プ本体の厚みが500μmに対して、外部接続用電極の
盛り上がり部分への厚みは50μm程度に形成され、上
下の電極の盛り上がり部分Aを合算すると100μ硼と
なり、チップ本体の厚みの20%にも達する。
このような外部接続用電極の形成構造に起因して次のよ
うな点が問題とされている。
まず、チップ型電子部品をプリント基板上に装着すると
き、真空チャックでチップ型電子部品を吸い上げるが、
外部接続用電極が盛り上がり部分を持って形成されてい
るため、上面が平坦状態ではなく、チップ型電子部品と
の間に隙間ができることになり、真空チャックで吸い上
げられないことになる。
また、上記したように外部接続用電極の盛り上がり部分
があると、チップ型電子部品の薄膜化に逆行し、厚みが
制約されている電子機器への組み込みができなくなると
いう問題を含んでいる。
さらに、チップ型コンデンサの場合、外部接続用電極の
盛り上がり部分だけ、誘電体層の積層数を減らして、チ
ップ型電子部品の薄膜化を阻害しないようにすることも
考えられる。しかし逆に容重が小さくなるという問題を
含むことになる。
そこで、接続用外部電極の厚みを薄くし、盛り上がり部
分をなくするため、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法などの薄膜形成技術によりこの外
部接続用電極を形成することが提案されている。
特開昭58−64017号はこの発明の最も好適な従来
技術を開示したものである。
第9図はチップ型積層セラミックコンデンサの端面にス
パッタリングWにて外部接続用′R極を形成する状態を
示した側断面図である。
この図において、マスキング装置12のポケット13に
積層ユニット14を装着し、この状態でスパッタリング
装置に設置し、ターゲット15をスパッタリングして、
積層ユニット14の側面にスパッタ粒子を付着して外部
接続用電極16を形成している。
なお、17.18はそれぞれ内部電極である。
しかしながら、このような方法で形成された外部接続用
電極16は次のような問題を有している。
つまり、積層ユニット14の側面にしか外部接続用電橋
16が形成されていないため、積層ユニット14に対す
る十分な接合強度が得られないということである。この
ため、外部接続用電極16を形成する前に、スパッタ+
−4エツチング処理を施し、側面表面を荒らすことが明
示されているが、このような処理をもってしても十分な
接合強度を得るには至っていない。
したがって、外部接続用電極を構造的な点から改善する
必要がある。つまり、第6図〜第8図に示したように、
外部接続用電極を側面にだけ形成するのではなく、側面
および側面から上下面の端部にまで延びた形状、つまり
断面口字状をなす外部接続用N極とする必要がある。
しかし、第9図に図示したマスキング装置では、チップ
型電子部品の本体の上下面にまで達っする外部接続用電
極を形成することは不可能である。
しかも“、従来の方法では、ポケット13と積層ユニッ
ト14との間に隙間が存することは不適当であり、ポケ
ット13ならびに積層ユニット14の寸法精度を上げな
ければならない。また装填作業や取り出し作業の点から
見てもかなり面倒なものであることは明らかである。
(発明の目的) したがって、この発明は、チップ型積哨セラミックコン
デンサ、積層チップ型抵抗、チップ型インダクタなどの
ようなチップ型電子部品の外部接続用電極を真空蒸着法
、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの1
11%形成技術により形成するに際して、チップ型電子
部品の端部に断面口字状をなす形状の外部接続用電極を
形成する方法を提供することを目的とする。
また、この発明は、チップ型電子部品の端部に外部接続
用電極を形成するに際して、作業性のよい方法を提供す
ることを目的とする。
(問題点を解決するための手段) この発明は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプ
レーティング法などの薄膜形成技術によりチップ型電子
部品の端部に外部接続用電極を形成するに際して、まず
第2図に示すような六面体状のチップ型電子部品21を
対象とする。このチップ型電子部品21は図示した位置
からみて、左右側面AI、A2.前侵側面31.[32
および上下主面C1゜C2を有する。
このチップ型電子部品21の端部、つまり左右側面へ1
.A2および上下主面C1,C2の一部に断面口字状の
外部接続用電極を形成する順序を第3図に従って説明す
る。
まず、第3図(a >に示すように、チップ型電子部品
21を準備する。
次いで、第3図(b)に示すように、下主面C2の左端
部02Lおよびこの左端部C2Lに連続して左側面A 
1の一部に導電部22aを形成する一方、右端部C2R
およびこの右端部C2Rに連続して右側面A2の一部に
導電部23aを形成する。
さらに、第3図(C)に示すように、チップ型電子部品
21を裏返し、つまり、上下主面CI、C2が互いに逆
の位置に位置するように裏返す。
つづいて、第3図(d )に示すように、上主面C1の
左端部CILおよびこの左端部CILに連続して左側面
A 1の一部に導電部22bを形成する一方、右端部C
IRおよびこの右端部C1Rに連続して右側面A2の一
部に導電部23bを形成する。
このとき、チップ型電子部品21の左側面AI、右側面
A2に形成される導電部22aと22b1および導電部
23aと23bは互いに重なる状態で形成される。
なお、第3図(d )に示した状態のチップ型電子部品
21の位置関係は第2図の状態で定義した位置関係にも
とづいて説明した。したがって、第3図(d )での説
明では上下の位置関係が逆転していることに注意された
い。
また第3図(b)の状態からチップ型電子部品21を第
3図(C)の状態に裏返したとき、上下の位置を逆にし
たが、左右側面を互いに逆の位置になるようにしてもよ
い。
上記した工程を経ることにより、チップ型電子部品21
の端部に断面口字状の外部接続用電極が形成されたこと
になる。
第4図はチップ型電子部品21の完成した状態を示す図
であり、両端部に断面口字状の外部接続用電極22.2
3がそれぞれ形成されている。第3図(d)の状態では
、チップ型電子部品21の左右側面AI、A2に導電部
22a、22b 、および導電部23a。
23bが重なった状態で形成されている様子が示されて
いるが、説明の便宜上厚みをもって図示しており、いず
れも薄膜状に形成されるため、実際には第4図に示すよ
うな状態に外部接続弔電If!22゜23が形成される
。
(効果) この発明によれば、次のような種々の効果が得られる。
■7!膜状の外部接続用電極が形成でき、従来のように
銀の焼き付は電極のように盛り上がり部分は形成されな
い。
■電極の盛り上がり部分がないため、真空チャック装置
でチップ型電子部品を吸着することができ、プリント基
板への自vJ@Wが可能になるとともに位置決め精度が
上がる。
■電極の盛り上がり部分の厚みだけ、チップ型電子部品
本体の厚みを増やすことができ、たとえば積層型セラミ
ックコンデンサであればW’1M体ヒラミヒラミック層
できるため、容量の増大を図ることができる。ざらには
、抗折強度も増大させることができる。
■根の焼き付は電極には、ガラスフリット成分であるア
ルカリ金属成分が含有されているため、耐湿性が悪いと
いう欠点が見られるが、この発明によれば上記したアル
カリ金属成分を含有しない電極材料で電極を形成するた
め、すぐれた耐湿性を有するチップ型電子部品を提供す
ることができる。
■電極材料としてニッケル、クロム、銅、アルミニウム
などの卑金属を用いることができるので、コストダウン
を図ることができる。
■チップ型電子部品の端面のみに電極を形成した場合に
くらべて接合強度が大きく、高信頼性のチップ型電子部
品の作成が可能となる。
■装填作業がやりやすく作業性や量産性に富む。
(実施例) 以下この発明を図示した実施例に従って詳細に説明する
。
第1図は電極の被着体であるチップ型電子部品を治具に
装着した状態を示す一部側断面図である。
この図において、31は保持具であり、チップ型電子部
品21を収容する凹部32を有する。この凹部32は溝
状に形成されており、図示した状態そは明らかではない
が、この凹部32にチップ型電子部品21が複数個互い
に密着した状態で収容される。つまり第2図で示したチ
ップ型電子部品21の位置の定義によれば、隣り合うチ
ップ型電子部品の前側面B1と後側面B2が互いに密着
した状態となる。
また凹部32は複数条互いに並行して形成され、同時に
複数個のチップ型電子部品21に外部接続用電極を形成
処理できるようになっている。チップ型電子部品21を
収容する凹部32の深さgはチップ型電子部品21の厚
み(にくらべて!<  1/2tの関係になるように設
定されている。
また図示した状態では凹部32にチップ型電子部品21
が隙間が形成されないように収容されているが、第5図
に示すように凹部32の幅W1をチップ型電子部品21
の幅W2(左側面A1と右側面A2どの距1Ilt)よ
りやや幅広としてもよい。
41はスペーサであり、チップ型電子部品21の左右側
面Al、A2を露出させる役割を果たす。この場合、ス
ペーサ41は独立した構成部分として取り扱っているが
、保持具31と一体に形成してもよい。
またスペーサ41を後述するマスクと一体に形成しても
よい。
51はマスクであり、このマスク51は図示した状態で
上面がチップ型電子部品21の下主面C2と密着してい
る。このマスク51には、スリット52が形成されてお
り、マスク51の下方から見たとき、チップ型電子部品
21の下主面C2の左端部C2Lおよび右端部C2Rが
露出するような状態となっている。スリット52の残余
の部分が遮蔽部53となっている。この遮蔽部53はチ
ップ型電子部品21の下主面C2のほぼ中央部を覆って
あり、後述する導電部の形成工程でこの中央部に電極形
成材料飛散源から飛散する電極形成材料が形成されるの
を阻止されることになる。
保持具31.スペーサ41およびマスク51はボルト7
1、ナツト72で相互に固定される。したがって、チッ
プ型電子部品21は保持具31とマスク51とに挾持固
定され、外部接続用電極を形成する工程に供される状態
に準備される。
マスク51の下方には、外部接続用電極を形成するため
の材料、つまり電極形成材料飛散源61がマスク51に
対して並行に設置されている。この電極形成材料飛散源
61はたとえば、真空蒸着法、イオンプレーティング法
では通常蒸発源と称され、ヒータ、ボート、るつぼなど
を加熱して、その上に蒸発材料が設置されたもので構成
される。またスパッタリング法ではターゲットと称され
るものが用いられる。図示したものは説明の便宜上、ス
パッタリング法で用いられるターゲットを示した。
チップ型電子部品21を装着した治具、ならびに電極形
成材料飛散源61は真空容器内に設置され、真空雰囲気
中で外部接続用電極の形成処理が行われる。
次に、外部接続用電極をチップ型電子部品21に形成す
る工程を説明する。
この工程については、第1図、第3図(a )〜(d 
)にもとづいて説明する。
第1図に示した治具には第3図(a )の位置関係でチ
ップ型電子部品21がi着される。
この状態で電極形成材料飛散源61からチップ型電子部
品21を見たとき、マスク51のスリット52から下主
面C2の左端部C2L、右端部C2Rが露出し、またチ
ップ型電子部品21の左側面AI、右側面A2が露出し
ている。この状態で電極形成材料飛散源61から粒子を
飛散させると、粒子は露出している左端部02Lおよび
この左端部C2Lに連続して左側面A1の一部に付着す
る一方、右端部C2Rおよびこの右端部C2R1,:1
続して右側面A2に付着する。このときチップ型電子部
品21の左側面A 1と右側面A2とはIR穫影形成材
料飛散源51対向していないが、飛散粒子の斜め方向か
らの飛来により左側面A1と右側面A2とに飛散粒子が
付着する。チップ型電子部品21のその他の個所につい
ては、マスク51の遮蔽部53により飛散粒子の付着が
阻止されたり、チップ型電子部品21が互いに密着して
いることにより、つまり前後側面Bl、B 2同志が密
着していることにより飛散粒子は被着しない。
このような形成状態を示したのが第3図(b )である
。
次いで、チップ型電子部品21を冶具から取り外ずし、
このチップ型電子部品21を第3図(C)に示すように
裏返し、この位置関係で第1図に示したようにチップ型
電子部品21を治具に装着する。
そして、上記した工程と同じように処理することにより
、第3図(d )に示したように、チップ型電子部品2
1の上主面C1の左端部CILおよびこの左端部CIL
に連続して左側面A1に導電部22bが形成される一方
、右端部CIRおよびこの右端部C1Rに連続して右側
面A2に導電部23bが形成される。この段階ですでに
第1段階の工程で形成した左側面At、右側面A2の導
電部22a、23aの上に一部重なって導電部22b、
23bが形成されることになる。これはすでに上述した
ように、つまり第1図に示したように、凹部32の深さ
りをチップ型電子部品21の厚みtにくらべてQ < 
 1/ 2tの関係になるように設定したことにより、
このような形成状態が実現することになる。したがって
、チップ型電子部品21の左側面AI、右側面A2に十
分な厚みをもって導電部22a、22bおよび導電部2
3a、23bが形成されることになり、半田付は時に半
田喰われ現象の発生を抑制することができる。しかもこ
のチップ型電子部品21には角部に不連続な部分が形成
されることのないし字状の導電部22a。
22bおよび導電部23a、23bが形成され、外部接
続用電極のチップ型電子部品21に対する接着強度を強
固なものにすることができる。
この工程を経たのちの状態を示したのが第4図であり、
チップ型電子部品21の両端部およびこの両端部にそれ
ぞれ連続する側面に、断面口字状の外部接続用電極22
.23が形成された状態となっている。
上記した実施例では、冶具に対してN極形成材料飛散源
61を並行に配置したが、治具を電極形成材料飛散源6
1に対して斜め、第1図に示した状態では右下がりか左
下がりに配置してもよい。逆に電極形成材料飛散111
61を冶具に対して斜め、第1図に示した状態では右下
がりか、左下がりに配置してもよい。また処理工程中に
冶具または電極形成材料飛散源61を互いに斜め状態に
なるように移動させてもよい。
上記した外部接続用電極22.23としては、ニッケル
、クロム、銅、アルミニウムなどの卑金属があるが、こ
のほか、酸化ニッケル、酸化錫、酸化マンガン、酸化鉄
、酸化コバルト、窒化ニッケル、酸化ニッケル、(第1
1jIN)  −窒化ニッケル(第211>で構成して
もよい。侵者の電極材料で構成すれば、たとえばチップ
型積層セラミックコンデンサでは高温での絶縁抵抗の劣
化を生じさせないという効果をもたらす。
また、この発明によれば、チップ型積層セラミックコン
デンサのほか、チップ型抵抗、チップ型インダクタなど
、要は六面体状のチップ型電子部品に外部接続用電極を
形成する場合に有用なものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明を実施するに当って、チップ型電子部
品を冶具に装着した状態を示す一部側断面図である。 第2図はチップ型電子部品の主面および側面の位置を特
定する記号を示すための斜視図である。 第3図(a )〜第3図(d )はチップ型電子部品に
外部接続用電極を形成する過程を示す側面図である。 第4図はこの発明を実施することによりチップ型電子部
品の端部に外部接続用電極を形成した状態を示す側面図
である。 第5図は凹部にチップ型電子部品を収容した他の態様を
示す一部断面側面図 第6図〜第8図は各種チップ型電子部品の代表的なもの
を示した側面図であり、第6図はチップ型積層セラミッ
クコンデンサの例、第7図はチップ型抵抗の例、第8図
はチップ型インダクタの例である。 第9図はこの発明の従来技術に相当し、チップ型積層セ
ラミックコンデンサの端面にスパッタリング法にて外部
接続用電極を形成する状態を示した側断面図である。 21はチップ型電子部品、22.23は外部接続用電極
、22a、22b、23a、23bは1!電部、31ハ
保持員、32は凹部、41はスペーサ、51はマスク、
52はスリット、53は遮蔽部、61は電極形成材料飛
散源。 特  許  出  願  人 株式会社村田製作所 駕 J 図 (α) (b) (C) (改)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)六面体状のチップ型電子部品の端部に真空蒸着法
    、イオンプレーティング法、スパッタリング法による薄
    膜形成技術により断面コ字状の外部接続用電極を形成す
    るに際し、 前記チップ型電子部品の一方主面を電極形成材料飛散源
    に対向させ、 第1段階の工程として、マスクを介して電極形成材料飛
    散源より電極形成材料を飛散させることにより、前記チ
    ップ型電子部品の一方主面の両端部および両端部のそれ
    ぞれに連続する側面に導電部を形成し、 次いで、前記チップ型電子部品の他方主面を電極形成材
    料飛散源に対向させ、 第2段階の工程として、マスクを介して電極形成材料飛
    散源より電極形成材料を飛散させることにより、前記チ
    ップ型電子部品の他方主面の両端部および両端部のそれ
    ぞれに連続する側面に導電部を形成し、 結果的に、前記チップ型電子部品の端部に断面コ字状の
    外部接続用電極を形成することを特徴とする、チップ型
    電子部品の外部接続用電極を形成する方法。
  2. (2)前記チップ型電子部品の側面に形成する導電部は
    、 第1段階の工程で形成する導電部の上に第2段階の工程
    で形成する導電部を重ねた状態で形成することを特徴と
    する、 特許請求の範囲第(1)項記載のチップ型電子部品の外
    部接続用電極を形成する方法。
  3. (3)前記第1段階の工程および前記第2段階の工程は
    、 前記チップ型電子部品を保持具の凹部に一部収容し、該
    チップ型電子部品の一方主面または他方主面のほぼ中央
    部をマスクで覆った状態で実施することを特徴とする、 特許請求の範囲第(1)項記載のチップ型電子部品の外
    部接続用電極を形成する方法。
JP59261364A 1984-12-10 1984-12-10 チツプ型電子部品の外部接続用電極を形成する方法 Granted JPS61139018A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59261364A JPS61139018A (ja) 1984-12-10 1984-12-10 チツプ型電子部品の外部接続用電極を形成する方法
US06/807,270 US4756928A (en) 1984-12-10 1985-12-10 Method of forming electrodes of an electronic component of chip type for connecting to the external

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59261364A JPS61139018A (ja) 1984-12-10 1984-12-10 チツプ型電子部品の外部接続用電極を形成する方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61139018A true JPS61139018A (ja) 1986-06-26
JPH0554245B2 JPH0554245B2 (ja) 1993-08-12

Family

ID=17360812

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59261364A Granted JPS61139018A (ja) 1984-12-10 1984-12-10 チツプ型電子部品の外部接続用電極を形成する方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4756928A (ja)
JP (1) JPS61139018A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01154501A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Koa Corp 角形チップ抵抗器

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5145435A (en) * 1990-11-01 1992-09-08 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of making composite field-emitting arrays
US5202602A (en) * 1990-11-01 1993-04-13 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Metal-glass composite field-emitting arrays
JP3882954B2 (ja) * 1997-03-19 2007-02-21 Tdk株式会社 チップ型積層セラミックコンデンサ
TW558919B (en) * 2001-10-24 2003-10-21 Wistron Corp Method of making member for dual connection plate of circuit board
US20110312222A1 (en) * 2010-06-16 2011-12-22 Tanaka Yokichi J Multi-electrode holders
USD675171S1 (en) 2010-12-16 2013-01-29 Tecella Llc Multi-electrode holder

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58110024A (ja) * 1981-12-24 1983-06-30 富士通株式会社 セラミツクコンデンサ端子電極組成
JPS58120637U (ja) * 1982-02-10 1983-08-17 株式会社村田製作所 積層磁器コンデンサ
JPS59188108A (ja) * 1983-04-08 1984-10-25 富士通株式会社 端子電極ペ−スト

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4011143A (en) * 1973-06-25 1977-03-08 Honeywell Inc. Material deposition masking for microcircuit structures
US4149904A (en) * 1977-10-21 1979-04-17 Ncr Corporation Method for forming ion-implanted self-aligned gate structure by controlled ion scattering
US4278706A (en) * 1977-12-15 1981-07-14 Trx, Inc. Method for making discrete electrical components
US4278707A (en) * 1980-05-19 1981-07-14 Hewlett-Packard Company Method for coating the edge of a printed circuit board to improve its moisture resistance
US4444635A (en) * 1981-07-22 1984-04-24 Hitachi, Ltd. Film forming method
US4469719A (en) * 1981-12-21 1984-09-04 Applied Magnetics-Magnetic Head Divison Corporation Method for controlling the edge gradient of a layer of deposition material
US4554732A (en) * 1982-02-16 1985-11-26 General Electric Company High reliability electrical components

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58110024A (ja) * 1981-12-24 1983-06-30 富士通株式会社 セラミツクコンデンサ端子電極組成
JPS58120637U (ja) * 1982-02-10 1983-08-17 株式会社村田製作所 積層磁器コンデンサ
JPS59188108A (ja) * 1983-04-08 1984-10-25 富士通株式会社 端子電極ペ−スト

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01154501A (ja) * 1987-12-11 1989-06-16 Koa Corp 角形チップ抵抗器

Also Published As

Publication number Publication date
US4756928A (en) 1988-07-12
JPH0554245B2 (ja) 1993-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3612963A (en) Multilayer ceramic capacitor and process
US7944128B2 (en) Electronic component
US12051547B2 (en) Component built-in substrate including multilayer ceramic electronic component including protruding connection portions
US10115528B2 (en) Multilayer ceramic electronic component
CN113363062B (zh) 层叠线圈零件
JPH0554245B2 (ja)
JP2025072622A (ja) 積層コイル部品
JPH01152712A (ja) 積層セラミックコンデンサの外部電極の形成方法
JP2021125648A (ja) コイル部品
JP7471040B2 (ja) 電子部品
CN1172337C (zh) 芯片型多联电子器件
JP7688514B2 (ja) セラミック電子部品および実装基板
JP2020119992A (ja) 積層セラミックコンデンサ
CN121444190A (zh) 层叠陶瓷电子部件
CN115938797A (zh) 层叠陶瓷电子部件
JP3248294B2 (ja) チップインダクタ及びその製造方法
JP2000049038A (ja) 積層セラミックコンデンサ
WO2022044516A1 (ja) 高周波電子部品
JP2839262B2 (ja) チップ抵抗器とその製造方法
JPH0470768B2 (ja)
JP2516533Y2 (ja) 積層インダクタ−
JPH11260653A (ja) 積層型電子部品とその製造方法
JPH11345734A (ja) 積層セラミックコンデンサ
JPH07135116A (ja) 複合部品及びその製造方法
JPH0121545Y2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term