JPS61140596A - ３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイシンａの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイシン
Ａの製造法に関する。

本発明者らは、先の特願昭５９−１６１６１５号（出願
臼：昭和５９年ｇ月２日）に新規な半合成アミノ配糖体
抗生物質として３′−フルオロ−３′−デオキシカナマ
イシン人を創製したことを記載し、ｔたこの新規化合物
の製造のためには、既知物質としての３−デオキシ−３
−フルオロ−１，２；５，６−ジー０−イソプロピリデ
ン−α−り一グルコフラノースから出発して多段階より
なるルートラ経る合成方法を記載した。前記の特許出願
に記載された３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイ
シンＡの合成法は煩雑で効率が低いので、カナマイシン
人から出発して３′−フルオロ−３１−デオキシカナマ
イシン人を製造する方法を開発することを意図して更に
研究を重ねた。その結果、カナマイシンＡから出発して
、カナマイシン人のＮ、０−保護誘導体として既知（特
開昭５５−１０５６９９号公報、及び特開昭５６−６８
６９８号明細書。

又はｒ　Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ、　Ｂｅｓ、　Ｊ　８９ｅ
　９１〜＋０１頁（１９８１）参照）である次式 〔式中、　Ｔａ　　はトシル基を示す〕で示される６′
−Ｎ、４’−０−カルボニル−４’、６’−０−シクロ
ヘキシリデン−１，３，３’−１リ−Ｎ−トシルカナマ
イシンム〔化合物（４）という〕を調製し、この化合物
（ａ）をピリジンの存在下に無水のジメチルスルホキシ
ド中で２．５〜５モル比のＮ−アセチルイミダゾールと
０〜５０°Ｃの温度で反応させると、化合物（ａ）の３
′−ヒドロキシル基をアセチル化することなく２′−ヒ
ドロキシル基及ヒ２′−ヒドロキシ基のみを選択的にア
セチル化できることを知見した・このように生成された
６’−Ｎ　、　４’−０−カルボニル−４’、６’−０
−シクロヘキシリデン−２’、２’−ジーＯ−アセチル
ー１．３．３’−トリーＮ−）ジルカナマイシンＡ〔化
合物（婉という〕は、これをベンジルスルホニルクロラ
イドの如＠　ヘ：／　シルスルホニル化剤、メシルクロ
ライドの如きメシル化剤又はトシルクロライドの如きト
シル化剤と無水ピリジン中で５０°Ｃ以下の温度で反応
すると・化合物（υの５′−ヒドロキシル基が殆んどス
ルホニル化されずに３′−ヒドロキシル基が実質的に選
択的にスルホニル化できること従って３’　−０−スル
ホニル−６’　−Ｎ　、　４’　−０−カルボニル−４
１、ｂｌ　−Ｑ−シクロヘキシリテン−２′−２’−ｕ
−ｏ−食（アセチル−１，３，３’−１リ−Ｎ−）シル
ーカナマイシン人〔化合物（Ｃ）という〕を生成できる
こと、また化合物（ロ）の３′−ヒドロキシル基の選択
的スルホニル化にはベンジルスルホニル化剤が最も良く
適すること、更にメタル化剤を用いた場合には化ニル化
生成物をクロマトグラフィーの手法で所望のモノ−３’
−０−スルホニル誘導体、即ち化合物（ｃ）から分離で
きることを知見し念。この化合物（ｅ）は、これｔ−０
〜ｓｏ’ｃの反り温度及び１０分間〜２時間の反応時間
の範囲で選ばれた温和な反応条件・例えば反応温度を室
温として１０〜２０分間の反応時間の灰石条件下で、化
合物（ｅ）に対して０．１〜０・８モル比のナトリウム
・メチラートを用い、１〜５％（重量）の濃度でナトリ
ウム・メチラートを含む無水メタノール中でナトリウ、
ム・メチラートで処理すると　ａｔ、　ｂｅ−環状力／
Ｉ／　ハ）１−ル基及び２’−０−アセチル基が脱離で
き、こうして３′−〇−スルホニルー６’−Ｎ、４’−
０’カルボニル−４’、６’−０−シクロヘキシリデン
−１，３゜３１−トリーＮ−トシルカナマイシンＡ〔化
合物（２）という〕を生戊できることを知見した・更に
、化合物（山は、これｔ−ｏｏＣないしメタノール又は
エタノールの沸点までの反応温度、５分間〜２時間又は
それ以上の反応時間で、化合物（イ）に対して２〜ｌＯ
モル比のナトリウム・メチラート又はナトリウム・エチ
ラート又はナトリウム・ベンジレートを用い、１〜５チ
（重量）の濃度でナトリウム・メチラートを含む無水メ
タノール又は１〜５チ（重ｉｋ）の濃度でナトリウム・
エチラートを含む無水エタノール中で若しくはベンジル
アルコールの存在下に１〜５１ｔ％のナトリウム・ベン
ジレートで処理すると、化合物（ψの３′−スルホニル
オキシ基と２′−ヒドロキシル基とが反応してエポキシ
比を起し、またこれと同時に、化合物（ψの６′−アミ
ノ基と４′−ヒドロキシル基とを架橋していたカド口中
シル基から切れてメタノール、エタノール又はベンジル
アルコールと反応し、６′−アミノ基はエトキクカルボ
ニルアミノ基又はエトキクカルボニルアミノ基又はベン
ジルオキシカルボニルアミノ基の形に転化し、こうして
次式 〔式中、　Ｔａ　　はトシル基であり、Ａ′　　はメト
キクカルボニル基、エトキシカルボニル基又はベンジル
オキシカルボニル基である〕で示される２’、３’カル
ボニル−１，３，３’−）リ−Ｎ−）ジルカナマイシン
Ａ〔化合物（ｅ）という〕を生成できることを知見した
。

なお、化合物（ｅ）に対してナトリウム・メチラート又
はナトリウム・エチラート等を無水メタノ−＃又１ｄ無
水エタノール中で反応させる際に、ナトリウム・メチラ
ート又はナトリウム°エチラート・等を作用させる反応
温度１反応時間及び作用濃度。

等を高かくすること１等によって１反応条件を前述の適
当条件より苛酷にすると、２’−０−アセチル基及び２
’−０−アセチル基が脱離するが、これと同時に、ｆヒ
合物（ｅ）から４′°、６’−環状カルバメート部分（
ｏ＝ｃ’Ｑ）までが分解して終い、３’−。

−スルホニル−４＃　、　ｂｌ　−ｏ−シクロヘキシＩ
７７’　ン−ｌ　、　３　、３’−）リーＮ−トシルカ
ナマイシン人〔化合物（ｄ’）という〕が生成する。こ
の化合物（ｄ′）は、これを、前述の如く化合物（山を
ナトリウム・メチラート又はナトリウム・エチラートで
処理する際と同じ反応条件で、メタノール中ナトリウム
°メチラート又はエタノール中ナトリウム・エチラート
で処理する場合には　２１．３１−アンヒドロ−４’、
　６’−０−シクロヘキシリデン−３′−二一−１，３
，３’−トリーＮ−）ジルカナマイシン人と３’、４’
−アンヒドロ−４１，ｂｌ−ｏ−シクロへΦシソー−−
３′−二−−１．３．３’−１−ジ−Ｎ−トシルカナマ
イシンＡとが混成状態で生成されること、またこれら２
’、３’−エポキシ体と３１　、　ｄ′−エポキシ体と
の両者は通常のクロマトグラフィー法では相互に単離で
きないことを認めた・これと同様な混成のエポキシ化反
応は特開昭５６−１５２４９７号公報と米国特許第４−
３５９．５７２号６頁及び８頁に既に示されている・ また、化合物（Ｃ）に対して、前述の如き２’−ｏ−ア
セチル基及び２′−０−アセチル基の１選択的脱離のた
めのアルカリ金属アルコレートによる処理を省略したま
ま、化合物（ｅ）の２′−アセトキシ基と３′−スルホ
ニルオΦシ基とが反応してエポキシ化を起すほどの強い
反応条件下で直ちに化合物（→をアルカリ金属アルコレ
ートで処理した場合には、その処理中に４’、６’−環
状カルバメート部分の脱離が化合物（ｅ）で起り、化合
物（ｄ’）　ｔ−処理した前述の場合と同様に、　２’
、　３’−エポキシ体と３’、４’−エポキシ体とが混
成状態で生成されて不利である・この３’、４’−エポ
キシ体は１本発明の方法の目的とする３′−フルオ四−
３′−デオ會シカナマイシンＡの合成に直接には役立た
ず、またクロマトグラフィー含金的除去も困難であるの
で、　　３’、　４’−エポキシ体の副生は好ましくな
い。従って、化合物（ａ）から化合物（ロ）を生成し、
化合物（ロ）から化合物（→を生成し、化合物（ｅ）か
ら化合物（→を生成するルートを辿ることが、２’、３
’−エボ會シー３′−エピカナマイシン人誘導体の形で
ある化合物（ｅ）　ｔ−調製するための効率の高い方法
を提供するのに必要であると認められた・ｅ 更に本発明者は実験を重ねて研究を続けた結果。

ｆｔ化合物）は、エチレングリコール、グロピレングリ
コールの如き液状の低級アルキレングリコールを反応媒
質として用いて、化合物（６）　ｔす）　＋７ウム水素
ジ弗化物又はカリウム水素ジ弗化物と１００〜２００°
Ｃの温度で例えば１時間〜約１日間の反応時間反応させ
ると、２’、３’−エポキシ環が開環し且つ３′位が弗
素化されること、及び同時に４′位、６′　　位のヒド
ロキシル保護基（シクロヘキシリデン基）が脱離される
こと、従ってこうして３′−フルオロ−３′−デオキシ
−６′−Ｎ−メトキシ（又はエトキシ）カルボニル−１
１ｉ３’−トＩＪ−Ｎ−トシルカナマイシン人〔化合物
（０という〕が生成されることを発見した。このように
エポキシ環の開環に伴って、前記のアルカリ金属水素ジ
弗化物によりカナマイシンＡ化合物の３′位が弗素化さ
れることｒｉ、ステロイド類のエポキシ環及び糖類のエ
ポキシ環に求核性反応試薬を作用させて開環させた時に
求核基が開環生成物中に導入される位置を予言するＦＨ
ｒｓｔ　−Ｐｌａｔｔｎｅｒ、ノ法則（ムｄｖａｎｅｅ
ｓ　ｉｎ　Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔ
ｒｙ　ａｎｄｓｉｏｅｈｅｍｉｓｈ　頁ｅ　％　ｔｉｃ
　ｌ　２３〜ｌ　２４　頁（Ａｃａｄｍｉｃ　Ｐｒｅｓ
ｓ社発行）参照）刀１ら見ると異常な現象であると認め
られる・ 前記の化合物（ｆ）は、これの６′−アミノ基及び１−
９３−及び３Ｎ−アミノ基にシけるアミノ保護基を脱離
させる公知の脱保護法で処理すると、目的の３′−フル
オロ−３’−チオキシカナマイシンＡ（化合物Ｉ）を生
成し九〇また。化合物Ｃｅ”）から先づアミノ保護基及
びヒドロキシル保護基を脱離し。

その後に前述の条件下でアルカリ金属水素ジ弗化物と反
応させる場合にも、３’−フルオロ−３′−デオキシカ
ナマイクンＡ（Ｄｔ−生成できることを認めた・このよ
うにして本発明者は、カナマイシン人から出発して３′
−フルオロ−３′−テオキシヵｔマイシンムを合成する
ルートを開発することに成功した。

更に、化合物（ｅ）の’　−＋　３−ｅ　３’−アミノ
基上のアミノ保護基（トシル基）及び６′−アミノ基上
口キシルＪｌのヒドロキシル保護基（シクロヘキシリデ
ン基）ｔ−化合物（ｅ）から脱離し、こうして得られ７
ｔ　２’　、　３’〜アンヒドロ−３１−二ピーカナマ
イシン人の夫々のアミノ基に改めて別種のアミノ保護基
を導入し、こうして得られた１、３．６’、３’−テト
ラ−Ｎ−保護−２’、３’−アンヒドロ−３′−二ピー
カナマイシンＡを前述と同様の手法でアルカリ金属水素
ジ弗化物で処理する場合にも、望ましい１，３．６’、
３’−テトラ−Ｎ−保護−３１−フルオロ−３′−デオ
Φシカナマイシン人を生成できることを認めた。

前述し九合成ルートで用いた出発中間体化合物（４）で
は、ｌ−，３−及び３′−丁ミノ基を保護するアミノ保
護基はトシル基であり且つ３′−及び６′−ヒドロキシ
ル基を保護するヒドロキシル保護基はシクロヘキシリデ
ン基であったが、これらの保護基は夫々に、均等的に働
く他の公知のアミノ保護基及び他の公知のヒドロキシル
保護基で取代えて得られるような、化合物（１０の均等
な保護誘導体を用いても、前述と同様な反応工程を施す
ことによって、化合物（→と均等な４１，６＃−ジーｏ
−、保護−カルボニルーカナマイシンＡＱ調製できるこ
とを認めた・ 本発明は前述した諸知見に基づいて完成されたものであ
る。

従って、第１の本発明の要旨とするところは。

次の一般式 〔式中、Ａはスルホニル基型のアミノ保護基以外のアミ
ノ保１基、又は水素原子であシ、Ｂｒｉ水素原子、ある
いは、任意のアミノ保護基であり、Ｘは水素原子又は１
価のとドロキンル保護基でアリ。

Ｙは水素原子又Ｆｉ１価のヒドロキシル保護基であり、
あるいはＸ及びＹは共同して１個の２価のヒドロキシル
保護基を形成する〕で示される２′・３′−アンヒドロ
ー３′−エピ−カナマイシンＡ又はこれの保護誘導体を
次式 ％式％（） 〔式中、　Ｍｅ　　はアルカリ金属原子である〕のアル
カリ金属水素ジ弗化物と有機溶媒中で１００〜２００’
Ｃの温度で反応させて次の一般式〔式中、Ａ、Ｂ、Ｘ及
びＹは前記と同じ意味である〕で示される３′−フルオ
ロ−３′−デオキシカナマイシンＡ化合物を生成させ、
さらに式（■）の化合物中にアミノ保護基及び（又は）
ヒドロキシル保護基が残留する場合には、これら保護基
を公知方法で脱離することｆ：１％徴とする１次式で示
される３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイシン人
の製造法にある。

第Ｅの本発明の方法にお＾で、一般式（「）の２’、３
’−７ンヒトロー３′−エビ−カナマイシンＡ保護誘導
体におけるアミノ保＠基Ａは灰石に関与しな＾何れか既
知のアミノ保護基・例えばアセチル基、トリフルオロア
セチル基の如、キアルヵノイル基、ベンゾイル基の如き
アロイル１１ｓなどのアシル基、さらにメトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基
の如きアルコ命ジカルボニル基：　ベンジルオキシカル
ボニル基。

７エネテルオキシカルボニル基の如きアラルキルオキシ
カルボニル基、又はフェノキシカルボニル基又はメトキ
クフェノΦジカルボニル基の如き了り−ルオキシカルボ
ニル基であることができる。

但し、基ムがメシル基又はトシル基の如きアルキル−、
アリール−又はアラルキルスルホニル基の形のものであ
ると、アルカリ金属水素ジ弗化物との反応に関与しで、
望ましくない副生物を生ずる恐れがあるので、アミノ保
護基（Ａ）Ｆｉスルホニル基型のものでないのが好まし
い・基（Ａ）Ｖｉ水素原子であることもできるが、化合
物（ＩＩ）の６′−アミノ基は保護されであるのが好ま
しい。

一般式（ｒｌ）の化合物における１−９３−及び３１ル
基、エトキクカルボニル基、！トキシヵルボニル基Ｏ如
キアルコキシカルボニル基：ベンジルオ中ジカルボニル
基、７エネチルオキ７カルボニル基の如きアラルギルオ
ギシカルボニル基：フエノキシカルボニル基の如きアリ
ールオキシカルボニに基：ｌクル基の如キアルキルスル
ホニル基、ベンジルスルホニル基の如キアラルキルスル
ホニル基ニドシル基の如きアリールスルホニル基９等の
アミノ保護基で保護されているのが好ましい６化合物（
Ｉ［）における４′−ヒドロキシル基及び６′−ヒドロ
キシル基金保護する保護基（Ｘ、Ｙ）は低級アルキル基
、フェニル基の如きアリール基ニアセチル基の如きアル
カノイル基、又はペンシイ　。

ル基の如きアロイル基を含めて、何れか既知の１価ヒド
ロキシル保護基であることができる・しかし、Ｘ及びＹ
は共同してインプロピリデン基の如き低級アルキリデン
基、ベンジリデン基の如きアラルキリデン基、シクロヘ
キシリデン基の如きシクロアル中すデン基、又はテトラ
ヒドロピラニリデン基を含めて、何れか既知の２価ヒド
ロキシル保護基を形成していることができる＠これらア
ミノ保護基及びヒドロキシル保護基をカナマイシン人化
合物に導入することは１例えば特開昭５５−１０５６９
９号、英国特許第２０４３６３４８号：特開昭５６−６
’８６９８号、米国特許第４３５７４６６号；特開昭５
６−１５２４９７号、米国特許第４．３５９．５７２号
明細書に酊載される如き従来知られ九保護技術で達成で
きる・ 第１の本発明の方法において、一般式（ＩＩ）のＮ・〇
−保護された２′・３′−エポキシ化カナマイシン人化
合物に反応させるべきアルカリ金属水素ジ弗化物（ＩＩ
Ｉ）はＮａＨＦ　　　ＫＨＦ２　　又はＬｉＨＦ２テあ
りうるが、ＫＨＦ２が好ましい。この反応は１反応に適
当な乾燥した有機溶媒中で行いうるが、液状の低級アル
キレングリコール、好ましくはエチレングリコール又は
プロピレングリコール中で行うのが好ましい。エチレン
グリコールが最も適する＠使用する有機溶媒の種類によ
っては、所望の反応が進まないことがある。反応温度は
１ｏｏ〜２００°Ｃの範囲で適当に選ぶことができるが
、１２０〜ｌ　６　ｏｑｃの範囲内であるのが好ましい
。

上記の反ろによって一般式（■）の３′−フルオロ３′
−デオキシ−カナマイシン人保護誘導体が生成され２こ
れの採取は反応液を酢酸エチルの如き適当な有機溶媒で
抽出し、さらにシリカゲル°カラムクロマトグラフィー
で分離、精製することにより行いうる・ 一般式（■）の化合物中にアミノ保護基及び（又は）ヒ
ドロキシル保護基が残留する場合には、脱保護工程で保
護基を脱離する・この脱保護工程は・用いた保護基の種
類に応じて１段階に分けて、常用される脱保護法で公知
手法で例えば前出の特開昭公報又は米国特許明細書に示
された手法で行い得る・この脱保護反応で得られた反応
液を濃縮し、固体残渣を水に溶解しＣＭ−セファデック
スＣ−２５のカラムに通しアンモニア水で展開すること
により、単離、精製すると、目的の３′−フルオロ−３
’−ｆオキシカナマイシンＡ〔化合物（Ｉ）〕が収得で
きる・ 第２の本発明の要旨とするところは・次の一般式 〔式中ｔ　Ｂ’はアミノ保護基であり、Ｘ及びＹは夫々
に水素原子又は１価のヒドロキシル保護基であるか、あ
るいＦｉＸ及びＹは共同して１個の２価ヒドロキシル基
を形成し、２はアルキルスルホニル基、アラルギルスル
ホニル基又はアリールスルホニル基である〕で示され゛
る３’　−０−スルホニル−６’−Ｎ、４’−０−カル
ボニル−カナマイシンＡの保護誘導体をメタノールの存
在下にナトリウム・メチラート又はエタノールの存在下
にナトリウム・エチラート又はベンジルアルコールの存
在下にナトリウム・ベンジレートと反応させて次の一般
式 〔式中　ｎｌ　、　ｘ及びＹは前記と同じ意味をもち、
Ａ′はメトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基
又ハペンジルオΦジカルボニル基の形のアミノ保護基で
ある〕で示される２’、３’−アンヒドロ−３′−エヒ
−６’−Ｎ−アルコ午シカルボニルーカナマイシン人の
保護誘導体を生成し１次に式（ｒ）の化合物を直ちに用
いるか、若しくは式（ＩＩ’）の化合物からアミノ保護
基（Ａ’、Ｂ’）及びヒドロキシル保護基（ｘ、ｙ）の
一部又は全部を脱離した後に得られた２’、　３’−ア
ンヒドロ−３′−二−−カナマイシン人化合物を用いて
、これを次式％式％（） 〔式中ｅ　Ｍｅ　はアルカリ金属原子である〕のアルカ
リ金属水素ジ弗化物と有機溶媒中で１００〜２００°Ｃ
の温度で反応させて次の一般式〔式中ｒ　　Ａ’　　は
メトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基又はベ
ンジルオキシカルボニル基の形のアミノ保護基であるか
又は水素原子であり。

Ｂ′　はアミノ保護基又は水素原子であり、ｒ及びでは
前記のＸ及びＹと同じ意味をもつか、あるいはＸ′及び
Ｙ′が夫々に水素原子である〕で示される３′−フルオ
ロ−３′−チオキシカナアイシンＡ化合物を生成させ、
さらに式（■ワの化合物中にアミノ保護基及び（又は）
ヒドロキシル保護基が残留する場合には、これら保護基
を公知方法で脱離することを特徴とする１次式 で示される３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイシ
ンＡの製造法にある・ 第２の本発明の方法において、出発化合物として用＾る
一般式（Ｖ）の３′−〇−スルホニルー６′−Ｎ、４’
−０−カルボニル−カナマイシンＡ保護誘導体における
アミノ保護基Ｂ／、ならびにヒドロキシル保護基Ｘ及び
Ｙは夫々に、第１の本発明の方法で出発化合物として用
いた一般式（「）の２’、３’−アンヒドロ−３′−二
ピーカナマイシン人保護誘　　　゛導体におけるアミノ
保護基Ｂ、ならびにヒドロキシル保護基Ｘ及びＹと夫々
に同じものでよい。３′−〇−スルホニル基（２）は炭
素数置〜４のアルキルスルホニ”基ＩＦＩＪ、ｔハメタ
ンスルホニル基（メシル基）、エタンスルホニル基：ア
ラルキルスルホニル基、例、ｔばベンジルスルホニル基
；アリールスルホニル基２例えばトシル基でありうるが
。

ベンジルスルホニル基であるのが好ましい＠−一般式ｖ
）の３′−〇−スルホニルーカナマイクンＡ誘導体とメ
タノールの存在下ナトリウム・メチラート又はエタノー
ルの存在下ナトリウム・エチラート又はベンジルアルコ
ールの存在下にナトリウム・ベンジレート（Ｎａ０ＣＨ
２Ｃｂ　Ｈｓ　）　　との反応は無水条件下で行われる
。ナトＩＪウム・メチラート又はナトリウム・エチラー
ト又はナトリウム・ベンジレートはカナマイシンＡ化合
物（Ｖ）　ノ１　％ル当りに２〜１０モル比で且つ反応
媒質中で１〜５重量％の濃度で用いるのが好ましい・反
応温度は０°Ｃないし反応媒質の還流温度までの範囲で
ありうる。反応時間は５分間以上あればよく１時間が長
びいても、望ましくない副生物は余り生じないけれども
、所望の２’　、　３’−エポキシ化生成物程度の反応
条件を用いるのが工い◎ 第２の本発明の方法において、中間体として生成した一
般式（■′）の２・３−エポキシ化生成物は、所望なら
ば、これの保護基の一部又は全部を常法で脱離し、その
脱保護生成物をアルカリ金属水素ジ弗化物（ＩＩＩ）と
の反応にかけてもよい・一般式（■′）の２’、３’−
エポキシ化生成物又はこれの脱保護体と式（ＩＩＩ）の
アルカリ金属水素ジ弗化物との反応工程、ならびに、そ
の後に、必要に応じて行われる一般式（ＩＶ’）の３′
−フルオロ−３′−デオキシカナマイシンＡ化合物の脱
保護工程は第１の本発明の方法における対応の工程と同
じ要領で実施できるＯ 次に本発明を参考例及び実施例について具体的に説明す
る。

参考例１ ６’−Ｎ　、　４’−０−カルボニル−４１、ｂｌ−０
−シクロヘキシリデン−２’　、　２１−ジーＯ−アセ
チルー１．３．３’−トリーＮ−トシルカナマイシン＾
〔化合物 の）という〕の生成 化合物（ａ） 上記の式の化合物ｆａ）すなわち６’−Ｎ、４’−０−
カルボニル−４’、６’−０−シクロへ中シリデンー■
・３・３′−トリーＮ−カナマイシンムの４５０！　（
０，４２７ミリモル）ｔ、ｆｉ水レジメチルスルホキシ
ド２１無水ピリジン２．３−の混合物に溶解し、Ｎ−ア
セチルイミダゾールｌ　Ｂ　８ｗＩＩ（１，７２ミリモ
ル）を加え、室温で１６時間攪拌したー反応液に５−重
ソツ水３０ｇＩｔを加え、生成した沈＃をｆ取し、水洗
後乾燥した・さらにエーテルでその固体を洗浄後に乾燥
すると１表題の化合物０３）の４３５岬（収率９０％）
ｔ−得た。

元素分析 計算値（Ｃ５ｏＨ６４Ｎ４０□。Ｓ、−Ｈ２Ｏ）　：　
Ｃ５１，９８：　Ｈ５，７６：Ｎ　４Ｊ５：　Ｓ　８．
３３％ 実測値：　　Ｃ５１，８４：　ｆ（５，５０：Ｎ　４．
７２：　Ｓ　Ｃ２９チ 、　　Ｈ−罵スにクトル（ピリジン−ｄ５）：δ２．２
２及び２．２３　（それぞれ３Ｈシングレツト＋Ａｃ）
＋δ２．２６慶２．２７及び２．４７　（それぞれ３■
シングレツト、　　ＮＴＩＩ（ＣＭ、）　　） 参考例２ ３′−〇−ベンジルスルホニルー６’　−Ｎ。

４′−〇−カルボニ”−４’ｌ　６’−０−シクロへ中
シリダン−２’、２’−ジー〇−丁セチル−ｌ　＋　３
　＋　３’−ト’＋）　−Ｎ−トシル−カナマイシンＡ
　（化合物（ｅ’）という〕の生成 ■ 参考例１で得た化合物０の７７．５　ｑ（０−０６８ミ
リモル）を無水ピリジン１．５４に溶解し、塩化ベンジ
ルスルホニル３０．　ｌ　ｍｙ　（０，１５８ミリモル
）ヲ加え、Ｏ〜５″Ｃで１０分間反ろさせた・反応液に
水０．１．ｇｔ−加えて後減圧濃縮し、残渣をクロロホ
ルムに溶解後、溶液ｔ″５Ｉｓ重ツク水。

水で順次洗浄を行い、無水硫酸マグネシウムで脱水した
。この溶液を減圧濃縮し１表題化合物（（’）の８８．
ｏ　Ｗ　（収率１００Ｉｓ）ｅ得た６元素分析 計算値（Ｃ，ｆ（、。０□２Ｎ４Ｓ４・２Ｈ２０）　　
：　Ｃ５１，５７：Ｈ５，６２： Ｎ　４．２２　； ８９．６５５Ｇ 実測値：　Ｃ５１，４５； Ｈ５，３６： Ｎ　４．３３　： ８９．７３　％ １ト脇スはクトル（ピリジン−ｄ５）：δ２．２３及び
２．２５　（それぞれ３ＨシングレツトＩＡＣ）。

２．３０　、　２．４４及び２．５０（それぞれ３Ｈシ
ングレツトｔ　ＮＴｓ（Ｃ■、）） 参考例３ ３′−〇−ベンジルスルホニルー６’−Ｎ。

４′−〇−カルボニルー４’、６’−０−シクロへ中シ
リデンー１　、３　、３’−トリーＮ−トシルカナマイ
シンＡＣ化合物 （ｄ＃）とｈう〕の生成 化合物（ｄ’） 参考例２で得九化合物（Ｃ′）の６６８１！９（０，５
１７ミリモル）を無水メタノールＩＱ−に溶解し、メタ
ノールに溶解した２％ナトリウムメチラート０．４　ｍ
　（０，１５ｍｍｏｌ　）　　ｔ−氷冷下に加え、室温
テ１５分反応させた・ 反応液ｆＪ：０・５−塩化水素メタノール溶液で中和後
、減圧濃縮した・残渣をア七トンに溶解後・不溶物を除
去し、溶液を再び減圧濃縮を行うと、表題化合物（ｄ′
）の５４６Ｊ’Ｆ（収率６ε−）′ｆｒ：得た０元素分
析 計算値（Ｃ５ＡＨ６６０２゜Ｎ４Ｓ４）：　Ｃ５２，７
２：　■ｓ、５１：Ｎ　４．６４　：　８１０．６２９
６ 実測値：　Ｃ５２，５０：　Ｈ５，６２：Ｎ　４．５８
　：　８１０．４７− ＩＲス−＜クトル（ＫＢｒ錠、　ｃｍ−’　）　：　１
７０５　（環状カルバメート） １Ｈ−褐侃スベクトル（ピリジン−ｄ５）：δ２．２０
゜２．３３及び２．４２　（それぞれ３Ｈ？’ングレツ
ト）実施例１ （’０２’、３’−アンヒドロー４’、６’−０−シク
ロヘヤシリデンー３′−二一一６′−Ｎ−メトキシカル
ボニル−１，３，３’−）　＋７−　Ｎ−トシルカナマ
イシンＡ〔化合物（ｅ′）という〕の生成 Ｒ ｆヒ合物（ｄ’） 参考例３で得た化合物（ｄつの６００岬（０，５００ミ
リモル）をメタノールに溶解した２％ナトリウムメチラ
ートδ−（２，９６ミリモル）に加え４５６Ｃで３０分
反応させた・反応液を０．５−塩化水素メタノール溶液
で中和後、減風濃縮し、さらに残留物を酢酸エチルに溶
解後不溶物を除去した・再び溶液を減圧濃縮し九〇残留
物を展開系、クロロホルム−メタノール（５０：ｌ→ｌ
Ｑ：ｌ）によるシリカゲル・カラム・クロマトグラフィ
ーにより分離精製し表題化合物（ｅ′）の４００２（収
率７５％）を得た。〔α〕ｏ　＋４°（ｅ　２．３．ク
ロロホルム）元素分析 計算ＷＬ（Ｃ４７Ｈ６□０，８Ｎ４Ｓ、・−￥Ｈ２０）
　：　　Ｃ５２，４５：Ｈ５，８５： Ｎ　５．２０　： ８　Ｌ？３　’） 実測値：　Ｃ５２，５４； Ｈ５，７８： Ｎ　５．０４　： ８　Ｃ９２％ （ロ）　３′−デオキシ−３′−フルオロ−６′−Ｎ−
メトキシカルボニル−１，３，３’−トリーＮ−トシル
カナマイシンＡＣ化 合物（ｆ′）という〕の生成 Ｈ 化合物（ｆ′） 前項（イ）で得られた化合物（ｅ′）の１７４１９　（
０，１６３ミリモル）全無水エチレングリコール３−に
溶解し、その溶液にフッ化水素カリウム（ＫＨＦ２）　
　の９０．２４（１，１６ミリモル）を加え封管で１５
０〜Ｉ　６０’Ｃで３，５時間反応させた（２’、３’
−エポキシ環の開環、３′−フルオロ化及びシクロヘキ
シリデン基の脱離）・反応液に酢酸エチルを加えて抽出
し、その抽出溶液ｔ−５−重ソウ水、水で順次洗浄し・
無水硫酸マグネシウムで脱水後に溶液を減圧濃縮した。

残留物をシリカｌシカラムクロマトグラフィー（展開系
クロロホルム−メタノール、３０：ｌ〜５：１）で分離
精製し表題化合物（ｆ′）の５１．４ｓｖ（収率３１％
）と剛生物（未確１ａり＋７）２６．０＋＋ｙ’ｉ得た
。〔α〕ｏ＋３°（ｃ　１，３　　メタノール）元素分
析 計算値（Ｃ４，へ５Ｎ４０．ａＳｓＦ−７馬０）　：　
Ｃ４ｇ、４６　：Ｈ５，５５： Ｎ　５．５１　％ 実測［：　Ｃ４Ｂ、３７　　： Ｈ５，４８： Ｎ　５．４８５に １Ｈ−高化スはクトル（ピリジン−ｄ５）：δ５．３３
（ＩＨダプルトリグレット、　Ｈ−３’　：　ＪｓＩ、
Ｆｓｓｅう　３′−チオ中シー３′−フルオロカナマイ
シンＡ〔化合物（■）〕の合成 Ｈ 化合物（り 前項（ロ）で得た化合物（ｆ′）の４５．７　ｍ　（０
，０４５ミリモル）ｔ−−ｓｏ〜−６０’Ｃの液体アン
モニア３−に溶解し、金属ナトリウム約ＩＱｑを加え、
−５０〜−６０°Ｃで５分間反応させた（脱トシル基）
。

反応液を減圧濃縮後、残渣を水５ｍに溶解し５０″Ｃで
１５分加熱した（この反応で６′−Ｎ−メトキシカルボ
ニル基が脱離）。

反応液を室温まで冷却し、ダウエックス（Ｄｏｗｅｚ）
５０ＷＸ２樹脂（Ｈ型）３−を加えダウ、エックス５０
ＷＸ２樹脂（ＮＨ４’！！ＩＩ　）　４−に吸着さｔ２
０・５Ｎアンモニア水で溶離して目的の表題化合物（Ｉ
）の２０．１〜（収率９１チ）を得た。〔α〕二５＋１
１６°（ｃ　ｏ、ｓ水） 本物質は前の特願昭５９−１６１６１５号の実施例で得
た３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイシンＡ物質
と　Ｈ−ＮＭＲスペクトル、抗菌スはクトルの点で完全
に一致した。

実施例２ 実施例１（イ）で得られた２’、３’−アンヒトａ−４
′、６れ０−シクロヘギシリデンー３−エビ−６′−Ｎ
−メトキシカルボニル−１，３，３’−）り−Ｎ−１−
ジルカナマイシンＡ、すなわち化合物（ｅ’）の＋７ｏ
ｑｌ＋Ｉ水エチレングリコール３−に溶解し・ジフツ化
水素ナトリウム（ＮａＨＦ２）７０１ｑｔｌ−加え、実
施例１（ロ）の方法と同様に反応及び後処理して３′−
デオキシ−３′−フルオＯ−６’−Ｎ−メトキシカデボ
ニル−１，３，３’−）グーＮ−トシルカナマイシンＡ
、すなわち化合物（ｆ′）の４７■（収率２９％）を得
た。

実施例３ （４２’、３’−アンヒドロ−４’、　６’−０−シク
ロヘキシリデン−３′−二一−６′−Ｎ−メトキシカル
ボニルカナマイシンＡ 〔化合物（ｅ町という〕の合成 ■ Ｈ 化合物（・１） 実施例１（イ）で得られた化合物（ｅ）、すなわち上記
の式の化合物の３８．５４　（０，０３６ミリモル）を
−５５〜−６０°Ｃにおいて液体アンモニア約１５−に
溶解し金属ナトリウム約５０ｓｖｉ激しく攪拌しながら
加えた・１５秒後、塩化アンモニウムを溶液の青色が消
失するまで加えた後、室温で放置しアンモニアを蒸発せ
しめたｅ水１ｏ−ｔ−加え−約９になるまで減圧濃縮し
たｅ 残渣をアンバーライトＣＧ−５０（Ｎｆ（＋）　　レジ
ン５一に吸着させ、水洗後０．２Ｎアンモニア水で分離
清１ｉｔ−行ない減圧濃縮すると１表題の化合物（ｅｌ
　）・の２＋、２ｑ（収率９７．Ｉチ）１１：得た。

’Ｈ−ＮＭＲｘ　ハクトル（２０％ＮＤ５１ｎＤ２０　
）　：δ３．７２　（３Ｈ，シングレット、　ｏｃも）
８３．８５　（ＩＬ　１ｆｋｆｆＶットｍ　　Ｈ−２’
、　　Ｊ１２２１＝＝３Ｈｚ、Ｊ　　　＝４Ｈｚ） ２７　、３’ ５．１０　　（ＩＨ，ダブレットｅ　　Ｈ−１’、　　
Ｊ　１ｇ、　２＃　＝４　Ｈ”　）５．５０　　（ＩＨ
，ダシレット、　■−１′、　Ｊ、１．２７＝３Ｈ２）
（ロ）　３′−フルオロ−３′−デオキシ−６′−Ｎ−
メト中ジカルボニルカナマイクンＡ 〔化合物（ｆ　）　　という〕の生成 前項ビ）で得られｔ化合物（ｅ２）の９８１ｑを無水エ
チレングリー−ル３−に溶解し、フッ化水素カリウム１
２０ＷＩＩｔ−加え、封管で１５０°で３時間反応させ
て化合物（ｆｌ）を生成し・た・ｅ１３′−フルオロ−
３′−デオキシカナマイシンＡの合成 前項（ロ）で得られた反応混合物からエチレングリコー
ルを減圧で除去後、化合物（ｆ　）　　を含む残渣をＩ
Ｎ水酸化ナトリウム４−に溶解し、８０６Ｇで３時間加
熱した（メトΦジカルボニル基の脱離）。

その反応液をダウエックス５０ＷＸ２（Ｈ型）樹脂２０
−に吸着させ水洗後に０．５Ｎアンモニア水で溶離して
目的化合物を含む物質を得た・これを水に溶解し・ＣＭ
−化ファデツクスＣ−２５（ＮＵ４’ｌ！Ｊ　）ノカラ
ｈｖｃ入し、　０．０３−１．５　Ｎ０７７モニア水で
展開、精製分離して目的化合物の２１．０ｑ（収率２７
チ）ｔ−得た。

実施例４ （へ）　２’、３’−アンヒドロ−６′−Ｎ−ベンジル
オΦジカルボニル−４’、　６’−０−シクロヘキシリ
デン−３１−二一−ｌ、３゜３′−トリーＮ−）ジルカ
ナマイシンＡ〔化合物（ｅ　）　　という〕の合成 参考例３で得られた化合物（ｄりの６ＱＯｙｔ−４チナ
トリウムベンジレート（Ｎａ０ＣＨ２４）を含むへ：／
：）ルｌルコ−Ａ／　（◇ＸＣＨ２０Ｈ）−ｆ　ト５ヒ
）’ロフラン（１：ｌ）の混液１０−に加え４５°Ｃで
３０分反応せしめた・０．５チ塩酸で中和ｅ＊縮後。

残渣を酢酸エチルに溶解、不溶物を除去した後。

その溶液を再び減圧濃縮した。残渣を展開系クロロホル
ム−メタノール（５０：暑→ｌＱ：Ｉ）によるシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し・表題化合物（ｅ
　）　　の４２０ｖ（７４％）ｔ−得たＯ （→　２′珈３′−アンヒドロ−１，３，６’、３’−
テトラ−Ｎ−ベンジルオキシカルボ ニル−３′−エピーカｔ−ｒイシｙ　Ａ　（ｆＥ合物（
ｅ　）　　という〕の生成 化合物（Ｃ４） 前項印で得られた化合物（ｅ　）　　の１ｌｏｊｌＦ！
””６０６Ｃの液体アンモニア４０．ｔＫ溶解し、金属
ナトリウム約１５０１１ｆｔ−はげしく攪拌しながら加
えて反応させると、６’−Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ル基とトシル基が脱離される一１５秒後、塩化アンモニ
ウムを溶液が無色になるまで加え、室温　。

に放置し、アンモニアを蒸発せしめた。残渣を水に溶解
し、ダウエックス５０ＷＸ２（Ｈｆｉ）　樹脂３−に吸
着させ（この操作でシクロへ今シリデン基が脱離される
）、０．５　Ｎアン篭ニア水で溶離すると、上記の式の
化合物（ｅ）、すなわち２’　、　３’−アンヒドロー
３′−エピ−カナマイシンＡの粗製物が得られ＆、これ
を水−テトラＬドロフラン（Ｉ：２）に懸濁させ、炭酸
ナトリウム２５３９．塩化ベンジルオキシカルボニル（
ＣＩＣ０ＯＣＨ２ｙｊ　）　　７０ｑを加え、室温で３
時間反応せしめてアミノ基にベンジルオキシカルボニル
基（Ｚ）ｔ−導入した・反応液を減圧濃縮し、水を加え
、沈澱ｔ−Ｆ取し１表題化合物（ｅ　）　の８４ｑ（８
７％）ｔ−得た。

Ｃ９３′−フルオロ−３’−ｆオΦシカナマイシン人〔
化合物（Ｉ）　）の合成 Ｈ 化合物（ｆ３） 前項（ロ）で得られ九化合物（ｅ　）　　の９０１１Ｉ
ｆｔ−無水エチレングリコール３−に溶解し、フッ化水
素カリｅｙ　Ａ　（Ｋ）［Ｆ２）　　ｏ　５０　ｔｑｔ
加工、封ｗ中１５００　テ３時間反応せしめた。以後、
実施例１（ロ）の方法と同様に処理すると、上記の式の
化合物（ｆ’）、すなわちｌ　、　３　、６’　、　３
’−テトラ−Ｎ−ペンジルオキジカルボニル−３′−フ
ルオロ−３’−チオキシカナマイシンＡの粗製物（２４
ｖ９）が得られ九。これを精製することなく、水−ジオ
キサン（ｌ：＋）の３艷に懸濁し、／４ラジウム黒を加
え、３気圧の水素下還元を行ってベンジルオキシカルボ
ニル基（ｚ）を脱離させた＠得られた物質を水に溶解し
。

ＣＭ−セファデックスＣ−２５（・Ｎ’Ｈ４型）にて０
．０３〜１．５Ｎアンモニア水で展開し、精製して３′
−フルオｃＩ−３′−デオキシカナマイシンＡの９．５
キ（収率２２−）を得た＠ 実施例５ （至）　２’、３’−アンヒドロ−３７−ニー−１゜３
　、６’　、　３’−テトラ−Ｎ−アセチルカナマイシ
ンｈｃ（ヒ合物Ｃｅ’）トいう〕の合成 実施例４（イ）で得られた化合物（ｅ）、すなわち２’
、３’−７ンヒドロー６’　−Ｎ−ペンジルオ中ジカル
ボニル−４’、　６’−０−シクロヘキシリデン−３′
−エピ−１，３，３’−）リーＮ−トシルカナマイシン
ムの１ｌＱｑｆ：用い、これを実施例４（ロ）における
脱保護処理と同様に処理して２’、３’＝アンヒドロ−
３′−エピーカナマイシンム〔化合物（ｅ　）〕の粗製
物を収得した・この粗製化合物（ａ）１水−テトラヒド
ロフラン（１：２）の２１１１ｔに懸濁させ、炭酸ナト
リウム２５岬の存在°Ｆに無水−酢酸４５キを加えて意
温で反応させて、化合物（＠）のアミノ基をアセチル基
で保護した０その反応液を減圧濃縮し、得られた固体を
水−メタノール（１：１）の３−に溶解し、その溶液に
ダウエックス５０Ｗ（Ｉ（＋型）レジンの１−を加え、
攪拌後にｒ過した。固体の洗液とｒ液とを脅せて・減圧
下に濃縮乾固すると、表題化合物（ｅ　）　　の粗製物
８０キを得た口 ←）　　１．３．６’、３’−テトラ−Ｎ−アセテルー
３′−フルオロ−３′−デオキシ−カナ１イシンＡ〔１
ヒ合＊（ｆ）　　という）の生成 前項イ）で得られた粗製化合物（ｅ　）　　を・無水エ
チレングリコール３−に溶解し、７ツ化水素カリウム（
ＫＨＦ２）の５０岬を加え、封管中１５０°で３時間反
応せしめ九〇以後実施例１←）の方法と同様に処理し表
題１ヒ合物（ｆ４）すなわち１．３．６’。

３１−テトラ−Ｎ−アセチル−３′−フルオロ−３′−
デオキシカナマイシンＡの粗製物２０１１ｑが得られ九
〇 （ハ）　３′−フルオｅ１−３１−デオキシカナマイシ
ンムの合成 前項（ロ）で得られた粗製の化合物（ｆ　）　　物質を
２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液Ｉ−にとかし・　ｌ００
００２時間処理して脱アセチルした。その後ダウエック
ス５０ＷＸ２樹脂（Ｈ＋型）１．５−に吸着させ、０．
５Ｎアンモニア水で＃Ｉ４シて目的の３′−フルオ　、
、、　３′−デオΦシカナマイクン人の９．７岬を得九
＠ なお、先の参考例及び実施例に示された式におかて、Ｔ
ｓｉｊ）シル基、　ＡＯはアセチル基、　ｎｚｓはベン
ジルスルホニル基、　　Ｃｂｍはメトキシカルボニル基
、ｚはベンジルオキシカルボニル基を示す。

手続補正書（方式） 昭和６０年　４月２５日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ａはスルホニル基型のアミノ保護基以外のアミ
   ノ保護基、又は水素原子であり、Ｂは水素原子、あるい
   は、任意のアミノ保護基であり、Ｘ及びＹは夫々に水素
   原子又は１価のヒドロキシル保護基であり、あるいはＸ
   及びＹは共同して１個の２価のヒドロキシル保護基を形
   成する〕で示される２′，３′−アンヒドロ−３′−エ
   ピ−カナマイシンＡ又はこれの保護誘導体を次式 ＭｅＨＦ＿２（III） 〔式中、Ｍｅはアルカリ金属原子である〕のアルカリ金
   属水素ジ弗化物と有機溶媒中で１００〜２００℃の温度
   で反応させて次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｘ及びＹは前記と同じ意味である〕で
   示される３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイシン
   Ａ化合物を生成させ、さらに式（IV）の化合物中にアミ
   ノ保護基及び（又は）ヒドロキシル保護基が残留する場
   合には、これら保護基を公知方法で脱離することを特徴
   とする、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で示される３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイシ
   ンＡの製造法。 ２、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 〔式中、Ｂ′はアミノ保護基であり、Ｘ及びＹは夫々に
   水素原子又は１価のヒドロキシル保護基であるか、ある
   いはＸ及びＹは共同して１個の２価ヒドロキシル基を形
   成し、Ｚはアルキルスルホニル基、アラルキルスルホニ
   ル基又はアリールスルホニル基である〕で示される３′
   −Ｏ−スルホニル−６′−Ｎ，４′−Ｏ−カルボニル−
   カナマイシンＡの保護誘導体をメタノールの存在下にア
   ルカリ金属メチラート又はエタノールの存在下にアルカ
   リ金属エチラート又はベンジルアルコールの存在下にナ
   トリウム・ベンジレートと反応させて次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II′） 〔式中、Ｂ′、Ｘ及びＹは前記と同じ意味をもち、Ａ′
   はメトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基又は
   ベンジルオキシカルボニル基の形のアミノ保護基である
   〕で示される２′，３′−アンヒドロ−３′−エピ−６
   ′−Ｎ−アルコキシカルボニル−カナマイシンＡの保護
   誘導体を生成し、次に式（II′）の化合物を直ちに用い
   るか、若しくは式（II′）の化合物からアミノ保護基（
   Ａ′、Ｂ′）及びヒドロキシル保護基（Ｘ、Ｙ）の一部
   又は全部を脱離した後に得られた２′，３′−アンヒド
   ロ−３′一エピ−カナマイシンＡ化合物を用いて、これ
   を次式 ＭｅＨＦ＿２（III） 〔式中、Ｍｅはアルカリ金属原子である〕のアルカリ金
   属水素ジ弗化物と有機溶媒中で１００〜２００℃の温度
   で反応させて次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV′） 〔式中、Ａ″はメトキシカルボニル基又はエトキシカル
   ボニル基又はベンジルオキシカルボニル基の形のアミノ
   保護基であるか又は水素原子であり、Ｂ″はアミノ保護
   基又は水素原子であり、Ｘ′及びＹ′は前記のＸ及びＹ
   と同じ意味をもつか、あるいはＸ′及びＹ′が夫々に水
   素原子である〕で示される３′−フルオロ−３′−デオ
   キシカナマイシンＡ化合物を生成させ、さらに式（IV′
   ）の化合物中にアミノ保護基及び（又は）ヒドロキシル
   保護基が残留する場合には、これら保護基を公知方法で
   脱離することを特徴とする、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で示される３′−フルオロ−３′−デオキシカナマイシ
   ンＡの製造法。 ３、２′，３′−アンヒドロ−３′一エピ−カナマイシ
   ンＡ化合物（II）又は（II′）とアルカリ金属水素ジ弗
   化物との反応に用いる有機溶媒は液状の低級アルキレン
   グリコール、好ましくはエチレングリコール又はプロピ
   レングリコールである特許請求の範囲第１項又は第２項
   に記載の方法。 ４、アルカリ金属水素ジ弗化物はナトリウム水素ジ弗化
   物又はカリウム水素ジ弗化物である特許請求の範囲第１
   項又は第２項に記載の方法。