JPS61145546A - 製版用ハロゲン化銀写真感光材料及びその減力処理方法 - Google Patents
製版用ハロゲン化銀写真感光材料及びその減力処理方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/06—Silver salts
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は製版用ハロゲン化銀写真感光材料(以下、「a
服用感材」と記す)及び七〇減力処理方法に関するもの
である。
服用感材」と記す)及び七〇減力処理方法に関するもの
である。
製版用感材は、印刷工業等の分野に於て、網点画像や線
画像を写真製版法により印刷するのに用いる感材である
。
画像を写真製版法により印刷するのに用いる感材である
。
通常、これらの製版用感材は、最終的な網点画像又は線
画像を得るKあたりて、画像の微妙な調子再現や芸術的
な表現を満足させる為に、減力処理と呼ばれる処理をし
て画像を部分的に、又は全面的に微修正に供されること
が多い。
画像を得るKあたりて、画像の微妙な調子再現や芸術的
な表現を満足させる為に、減力処理と呼ばれる処理をし
て画像を部分的に、又は全面的に微修正に供されること
が多い。
この為、製版用感材に於ては減力処理適性を有している
か否かは極めて重置な性能の1つである。
か否かは極めて重置な性能の1つである。
印刷製版工程に於ては、原画像の濃淡(i!II子)を
微小な点の面積の大小、即ち網点画像によりて表現する
方法がとられることが多い。
微小な点の面積の大小、即ち網点画像によりて表現する
方法がとられることが多い。
露光、現像処理を経て網点画像又は線画像を形成した製
版用感材を減力処理するには、該網点又は線画像を形成
している金属銀を酸化剤で漂白する方法などが知られて
いる。
版用感材を減力処理するには、該網点又は線画像を形成
している金属銀を酸化剤で漂白する方法などが知られて
いる。
たとえば、ミーズ著 ザ・セオリー・オブ・ダ・フォト
グラフィック・プロセス(Mess I Th・Th@
ory of the Photographlc P
roc@ms )第738〜739頁(1954年、M
acmillan社刊行)には過マンガン酸塩、第2鉄
塩、第2セリウム塩、赤血塩、重クロム酸塩、過硫酸塩
などの減力成分を用いた減力液が記載されている。
グラフィック・プロセス(Mess I Th・Th@
ory of the Photographlc P
roc@ms )第738〜739頁(1954年、M
acmillan社刊行)には過マンガン酸塩、第2鉄
塩、第2セリウム塩、赤血塩、重クロム酸塩、過硫酸塩
などの減力成分を用いた減力液が記載されている。
減力処理とは、結局、銀画像を酸化し、俗解することで
あるから銀画像を形成している銀の単位面積当りの量が
多ければ多い程、一般に減力処理により画像を修正でき
る範囲は広くなる。
あるから銀画像を形成している銀の単位面積当りの量が
多ければ多い程、一般に減力処理により画像を修正でき
る範囲は広くなる。
即ち、網点画像を減力処理する場合、減力処理により網
点面積を減少せしめると、それと併行して網点1個当り
の黒化濃度の減少が生ずるのが一般的であり、網点面積
の減少時に、網点1個当りの黒化濃度の減少が少ない程
、減力による修正可能な範囲は広い。
点面積を減少せしめると、それと併行して網点1個当り
の黒化濃度の減少が生ずるのが一般的であり、網点面積
の減少時に、網点1個当りの黒化濃度の減少が少ない程
、減力による修正可能な範囲は広い。
換言すれば、網点画像の修正可能な範囲のメジャーは、
網点1個当りの黒化濃度を一定値以上に保つて網点面積
をいくら減少せしめ得たかによって表わすことが出来る
。
網点1個当りの黒化濃度を一定値以上に保つて網点面積
をいくら減少せしめ得たかによって表わすことが出来る
。
本明細書に於ては、減力処理により写真製版工程で心安
とされるぎりぎりの値にまで網点の黒化濃度が減少した
時に、網点面積が処理前の網点面積に対してどれ位減少
したかを「減力中」なる用語で表わすこと忙する。
とされるぎりぎりの値にまで網点の黒化濃度が減少した
時に、網点面積が処理前の網点面積に対してどれ位減少
したかを「減力中」なる用語で表わすこと忙する。
前述のRo <、一般に画像を形成している銀量が多け
れば多い程、減力中は大きくなり、従りて減力処理によ
り面積を修正できる程度も大きくすることが出来る〇 その為には、製版用感材釦用いるハロゲン化銀の単位面
積当りの塗布量を多くすればよいのであるが、周知の如
(、銀は極めて高価かつ貴重なものであり、いたずらに
塗布銀量を多くすることは製版用感材のコストの点から
も省資源的見地からも好ましくない。
れば多い程、減力中は大きくなり、従りて減力処理によ
り面積を修正できる程度も大きくすることが出来る〇 その為には、製版用感材釦用いるハロゲン化銀の単位面
積当りの塗布量を多くすればよいのであるが、周知の如
(、銀は極めて高価かつ貴重なものであり、いたずらに
塗布銀量を多くすることは製版用感材のコストの点から
も省資源的見地からも好ましくない。
従って、出来るだけ少ない銀を用いて、必要な特性を有
する製版用感材を装造することは当業界の重要な課題の
1つである。
する製版用感材を装造することは当業界の重要な課題の
1つである。
従りで本発明の目的の第1は、減力処理適性にすぐれる
製版用感材を提供することにある。
製版用感材を提供することにある。
第2K、単位面積当りの塗布銀量を少なくしても減力処
理適性が劣化しない製版用感材を提供すること忙ある。
理適性が劣化しない製版用感材を提供すること忙ある。
第3K、単位面積当りの塗布銀量の少い製版用感材を用
いながら減力中の広い減力処理方法を提供することにあ
る。
いながら減力中の広い減力処理方法を提供することにあ
る。
本発明の目的は、下記一般式で示される化合物が感光性
ハロゲン化銀乳剤層に隣接する非感光性層の少なくとも
1層及び/又は感光性ハロゲン化銀乳剤層の全銀量の1
15以下を含有する副感光性ハロゲン化銀乳剤層に含有
されている製版用ハロゲン化銀写真感光材料によって達
成される。
ハロゲン化銀乳剤層に隣接する非感光性層の少なくとも
1層及び/又は感光性ハロゲン化銀乳剤層の全銀量の1
15以下を含有する副感光性ハロゲン化銀乳剤層に含有
されている製版用ハロゲン化銀写真感光材料によって達
成される。
一般式
式中、R1及びalは水素原子又はアルカリ離脱性マス
キング基を表わし、B& 、 R4及びHsは各々水素
原子又は置換されていてもよいアルキル基な表わ−ル基
を表わし、X!はカルボニル基、チオ基、オキシ基、−
NHCO−又は−CONH−を表わし、bは0又は1を
表わす。aはθ〜6の整数を表わし、X、はチオ基又は
セレノ基を表わし、Aはカルボニル基、チオカルボニル
基、カルボキシメチレン基、3〜6員の炭素環基又は3
〜10員の複素環基を表わす。
キング基を表わし、B& 、 R4及びHsは各々水素
原子又は置換されていてもよいアルキル基な表わ−ル基
を表わし、X!はカルボニル基、チオ基、オキシ基、−
NHCO−又は−CONH−を表わし、bは0又は1を
表わす。aはθ〜6の整数を表わし、X、はチオ基又は
セレノ基を表わし、Aはカルボニル基、チオカルボニル
基、カルボキシメチレン基、3〜6員の炭素環基又は3
〜10員の複素環基を表わす。
上記一般式KNいて、al及びR8のアルカリ離脱住1
ヌ廖ング斎ビ、fP!えピアシル基(イえビアナプール
、子ノー、ジ〜ヌにトリククコアセチル、モアル;・j
5で塩9.シ褥るイス番ング愚である。
ヌ廖ング斎ビ、fP!えピアシル基(イえビアナプール
、子ノー、ジ〜ヌにトリククコアセチル、モアル;・j
5で塩9.シ褥るイス番ング愚である。
R1〜Bl 、 R?及びB龜のアルキル基は、炭素原
子数がl〜n、好ましくは8〜18であり、例えば無置
換アルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル、シク
ロプロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、S・
C−ブチル、t@rt−ブチル、シクロブチル、ペンチ
ル、イソア之ル、 t@rt−アミル、シクロペンチル
、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、
ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシルj4)、t
scyアルキル基(例えばクロロオクチル、ブロモドデ
シル、フルオロテトラデシルのようなフルオロアルキル
、りaロアルキル、ブロモアルキル)、スルホアルキル
基(例えばスルホヘキシル、スルホオクチル、スルホド
デシル等)、アルキルスルホン酸it (例、tばドデ
シルスルホン酸、テトラデシルスルホン酸等入アルキル
スルホニルアルキル基(例エバエチルスルホニルブチル
等)、シアノアルキル基(例工ばシアノヘキシル、シア
ノオクチル、シアノデシル等)、カルボキシアルキル基
(例えばカルボキシヘキシル、カルボキシデシル、カル
ボキシヘキサデシル等)、アラルキル基(例えばベンジ
ル、フヱノドデシル、トリルドデシル等)、アルコキシ
アルキル(例工ばオクトキシヘキシル、ブトキシヘキシ
ル、エトキシデシル等)、アリーロキシアルキル基(例
えばフェノキシメチル、フェノキシエチル等)、アルコ
キシアリール基ル基(例えばメトキシフェニルメチル、
ブトキシフェニルヘキシル等)、アシロキシアルキル基
(例えハペンソイルオキシヘキシル、ア七トキシプチル
等)、アルコキシカルボニルアルキル基(例えばブトキ
シカルボニルヘキシル等)、アリーロキシカルボニルア
ルキル基(例工ばフェノキシカルボニルエチル、クロロ
フェノキシカルボニルブチル等)、アルキルアミドアル
キル基(例えばヘキサンアミドブチル、オクタンアミド
プロピル等)、アリールアミドアルキル基(例えばフェ
ニルアミドエチル、メチルフェニルアミドブチル等)等
が挙げられる。
子数がl〜n、好ましくは8〜18であり、例えば無置
換アルキル基(例えばメチル、エチル、プロピル、シク
ロプロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、S・
C−ブチル、t@rt−ブチル、シクロブチル、ペンチ
ル、イソア之ル、 t@rt−アミル、シクロペンチル
、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、
ペンタデシル、ヘキサデシル、オクタデシルj4)、t
scyアルキル基(例えばクロロオクチル、ブロモドデ
シル、フルオロテトラデシルのようなフルオロアルキル
、りaロアルキル、ブロモアルキル)、スルホアルキル
基(例えばスルホヘキシル、スルホオクチル、スルホド
デシル等)、アルキルスルホン酸it (例、tばドデ
シルスルホン酸、テトラデシルスルホン酸等入アルキル
スルホニルアルキル基(例エバエチルスルホニルブチル
等)、シアノアルキル基(例工ばシアノヘキシル、シア
ノオクチル、シアノデシル等)、カルボキシアルキル基
(例えばカルボキシヘキシル、カルボキシデシル、カル
ボキシヘキサデシル等)、アラルキル基(例えばベンジ
ル、フヱノドデシル、トリルドデシル等)、アルコキシ
アルキル(例工ばオクトキシヘキシル、ブトキシヘキシ
ル、エトキシデシル等)、アリーロキシアルキル基(例
えばフェノキシメチル、フェノキシエチル等)、アルコ
キシアリール基ル基(例えばメトキシフェニルメチル、
ブトキシフェニルヘキシル等)、アシロキシアルキル基
(例えハペンソイルオキシヘキシル、ア七トキシプチル
等)、アルコキシカルボニルアルキル基(例えばブトキ
シカルボニルヘキシル等)、アリーロキシカルボニルア
ルキル基(例工ばフェノキシカルボニルエチル、クロロ
フェノキシカルボニルブチル等)、アルキルアミドアル
キル基(例えばヘキサンアミドブチル、オクタンアミド
プロピル等)、アリールアミドアルキル基(例えばフェ
ニルアミドエチル、メチルフェニルアミドブチル等)等
が挙げられる。
R7及びaAのアリール基はナフチル基のような縮合環
基及び置換アリール基を含み、例えば無置換アリール基
(例えばフェニル、ナフチル、アンスラセニル、フェナ
ンスレニル等)、ノーロアリール基(例え/d p a
ロフェニル、トリクロロフェニル、ジブロモフェニル、
フルオロフェニル、クロロトリル等)、スルホアリール
(例えばスルホフェニル等)、スルホナトアリール基(
例えばスルホナトフェニル等)、ニドロアリールf、(
N、tば=)ロアzニル、ジニトロフェニル等ン、シア
ノアリール基(例えばシアノフェニル、シアノナフチル
等)、カルボキシアリール基(例えij :/J k
d? dP ジフェニル、ジカルボキシフェニル等)、
アルカリール基(例えハトリル、ブチルフェニル、デシ
ルフェニル、ジエチルフェニル、トリフルオロメチルフ
ェニル等)、アルカリール基(例エバベンジルフェニル
、ナフチルメチルフェニル等)、アルコキシアリール基
(例えばオクトキシフェニル、メトキシフェニル等)、
アリーロキシアリール基(例工ばフェノキシフェニル、
フェノキシナフチル等)、アシロキシアリール基(例え
ばベンゾイルオキシフェニル、アセトキシフェニル等)
、7ルコキシ力ルポニルアリール基(例えばエトキシカ
ルボニルフェニル等)、アリーロキシカルボニルアリー
ル& (例えばフェノキシカルボニルフェニル、メチル
フェノキシカルボニルナフチル等)、アルキルアミドア
リール基(例えばアセトアミドフェニル、アミルアミド
フェニル、ジーtart −アミルアミドフェニル、ヘ
キサンアミドフェニル、ヘプタンアミドフェニル、オク
タンアミドフェニル、ノナンアミドフェニル、デカンア
ミドフェニル、ウンデカンアミドフェニル、ドデカンア
ミドフェニル、トリデカンアミドフェニル、テトラデカ
ンアミドフェニル、ペンタデカンアミドフェニル、ヘプ
タフルオロブタンアミドフェニル、カルボキシシクロペ
ンタンアセトアミドフェニル等〕、シクロアルキルイミ
ノスルホニルアリール基(PJえばピペリジニルスルホ
ニルフェニル、アゼチジニルスルホニルフェニル、ヒロ
リジニルスルホエルフェニル、インドリニルスルホニル
フェニル等)等が挙げられる。
基及び置換アリール基を含み、例えば無置換アリール基
(例えばフェニル、ナフチル、アンスラセニル、フェナ
ンスレニル等)、ノーロアリール基(例え/d p a
ロフェニル、トリクロロフェニル、ジブロモフェニル、
フルオロフェニル、クロロトリル等)、スルホアリール
(例えばスルホフェニル等)、スルホナトアリール基(
例えばスルホナトフェニル等)、ニドロアリールf、(
N、tば=)ロアzニル、ジニトロフェニル等ン、シア
ノアリール基(例えばシアノフェニル、シアノナフチル
等)、カルボキシアリール基(例えij :/J k
d? dP ジフェニル、ジカルボキシフェニル等)、
アルカリール基(例えハトリル、ブチルフェニル、デシ
ルフェニル、ジエチルフェニル、トリフルオロメチルフ
ェニル等)、アルカリール基(例エバベンジルフェニル
、ナフチルメチルフェニル等)、アルコキシアリール基
(例えばオクトキシフェニル、メトキシフェニル等)、
アリーロキシアリール基(例工ばフェノキシフェニル、
フェノキシナフチル等)、アシロキシアリール基(例え
ばベンゾイルオキシフェニル、アセトキシフェニル等)
、7ルコキシ力ルポニルアリール基(例えばエトキシカ
ルボニルフェニル等)、アリーロキシカルボニルアリー
ル& (例えばフェノキシカルボニルフェニル、メチル
フェノキシカルボニルナフチル等)、アルキルアミドア
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フェニル、ジーtart −アミルアミドフェニル、ヘ
キサンアミドフェニル、ヘプタンアミドフェニル、オク
タンアミドフェニル、ノナンアミドフェニル、デカンア
ミドフェニル、ウンデカンアミドフェニル、ドデカンア
ミドフェニル、トリデカンアミドフェニル、テトラデカ
ンアミドフェニル、ペンタデカンアミドフェニル、ヘプ
タフルオロブタンアミドフェニル、カルボキシシクロペ
ンタンアセトアミドフェニル等〕、シクロアルキルイミ
ノスルホニルアリール基(PJえばピペリジニルスルホ
ニルフェニル、アゼチジニルスルホニルフェニル、ヒロ
リジニルスルホエルフェニル、インドリニルスルホニル
フェニル等)等が挙げられる。
Aの炭素環基としては、例えばシクロアルキレンts
(例りばシクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペ
ンチレン、シクロヘキシレン等)、シクロアルケニレン
基(例、tばシクロプロペニレン、シクロブテニレン、
シクロベンテニレン、シクロベンタジエニレン、シクロ
ヘキセニレン、シクロヘキサンジエニレン等)及びアリ
ーレン基(例えばフェニレン、ナフチレン、アンスリレ
ン等)が挙げられる。
(例りばシクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペ
ンチレン、シクロヘキシレン等)、シクロアルケニレン
基(例、tばシクロプロペニレン、シクロブテニレン、
シクロベンテニレン、シクロベンタジエニレン、シクロ
ヘキセニレン、シクロヘキサンジエニレン等)及びアリ
ーレン基(例えばフェニレン、ナフチレン、アンスリレ
ン等)が挙げられる。
Aの複素環基は、例えばそれぞれ十B11)、を有する
オキシレニル、フラニル、ベンゾフラニル、イソベンゾ
フラニル、ジベンゾフラニル、オキサシリル、ベンゾオ
キサシリル、イソオキサシリル、ベンズイソオキサシリ
ル、オキサジアゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、1.
2−ピラニル、114−ピラニル、2(H)ベンゾピラ
ニル、4(用ベンゾピラニル、ジオキソリル、メチレン
ジオキシベンゼン、l、2−オキサジニル、l、3−オ
キサジニル、1.4−オキサジニル、モルホリニル、l
。
オキシレニル、フラニル、ベンゾフラニル、イソベンゾ
フラニル、ジベンゾフラニル、オキサシリル、ベンゾオ
キサシリル、イソオキサシリル、ベンズイソオキサシリ
ル、オキサジアゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、1.
2−ピラニル、114−ピラニル、2(H)ベンゾピラ
ニル、4(用ベンゾピラニル、ジオキソリル、メチレン
ジオキシベンゼン、l、2−オキサジニル、l、3−オ
キサジニル、1.4−オキサジニル、モルホリニル、l
。
3−ジオキサニル、l、3−オキサチアニル、1.4−
オキサチアニル、l、2−ジオキサニル、1.3−ジオ
キサニル、1.4−ジオキサニル、ジオキサジェニル、
ジアセチル、ピロリル、インドリル、イソインドリル、
カルバゾリル、ピロコリニル、アクリジニル、フェノキ
サジニル、2−イミダゾリニル、3−イミダゾリニル、
4−イミダゾリニル、ピリジル、ピリダジニル、ジノリ
ニル、フタラジニル、キノキサリニル、ピリミジニル、
ピラゾロ(3,4d)ピリミジニル、ヒポキサンチニル
、ベンゾピリミジニル、ピラジニル、キノキサリニル、
フタラジニル、キノリニル、インキノリニル、フタラジ
ニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、プリニル
、ピリジニル、1゜3.5−トリアジニル、テトラゾリ
ル、トリアジンチオニル、1(H)アゼピニル、ピペリ
ジニル、イミダゾリジニル、キノリジジニル、チェニル
、ベンゾチェニル、インベンゾチェニル、ジベンゾチェ
ニル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、インチアゾリル
、ベンゾイソチアゾリル、チアジアゾリル、ベンゾチア
ジアゾリル、1.2−ジチオリル、1.3−ジチオリル
、1.3−オキサシリル、チアントリニル、チアモルホ
リニル、l、4−チアニニル、1.4−ジチアニル、l
、4−ジチアジェニル、セレナゾリル、ベンゾセレナゾ
リル、インセレナゾリル、ベンズイソセレナゾリル、セ
レナジアゾリル、ベンゾセレナジアゾリル等のような少
なくとも1個の炭素原子及び窒素、酸素、硫黄及びセレ
ンから選ばれる1〜5個の原子を環に有する複素環基で
ある。
オキサチアニル、l、2−ジオキサニル、1.3−ジオ
キサニル、1.4−ジオキサニル、ジオキサジェニル、
ジアセチル、ピロリル、インドリル、イソインドリル、
カルバゾリル、ピロコリニル、アクリジニル、フェノキ
サジニル、2−イミダゾリニル、3−イミダゾリニル、
4−イミダゾリニル、ピリジル、ピリダジニル、ジノリ
ニル、フタラジニル、キノキサリニル、ピリミジニル、
ピラゾロ(3,4d)ピリミジニル、ヒポキサンチニル
、ベンゾピリミジニル、ピラジニル、キノキサリニル、
フタラジニル、キノリニル、インキノリニル、フタラジ
ニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、プリニル
、ピリジニル、1゜3.5−トリアジニル、テトラゾリ
ル、トリアジンチオニル、1(H)アゼピニル、ピペリ
ジニル、イミダゾリジニル、キノリジジニル、チェニル
、ベンゾチェニル、インベンゾチェニル、ジベンゾチェ
ニル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、インチアゾリル
、ベンゾイソチアゾリル、チアジアゾリル、ベンゾチア
ジアゾリル、1.2−ジチオリル、1.3−ジチオリル
、1.3−オキサシリル、チアントリニル、チアモルホ
リニル、l、4−チアニニル、1.4−ジチアニル、l
、4−ジチアジェニル、セレナゾリル、ベンゾセレナゾ
リル、インセレナゾリル、ベンズイソセレナゾリル、セ
レナジアゾリル、ベンゾセレナジアゾリル等のような少
なくとも1個の炭素原子及び窒素、酸素、硫黄及びセレ
ンから選ばれる1〜5個の原子を環に有する複素環基で
ある。
上記一般式で示される化合物(以下、本発明の化合物と
い5)は一般に非拡散性銀漂白抑制剤放出型ハイドロキ
ノンと言われ、現像主薬の酸化体と反応して酸性チオー
ル又はセレノールを遊離するものであり、ミーズ著ザ・
セオリー・オプ・ザフォトグラフィック・プロセス(M
ass * TheTheory of the Ph
otographic Proc@ms )第278〜
311頁(1966年、Maemillan社刊行)に
記載されている。
い5)は一般に非拡散性銀漂白抑制剤放出型ハイドロキ
ノンと言われ、現像主薬の酸化体と反応して酸性チオー
ル又はセレノールを遊離するものであり、ミーズ著ザ・
セオリー・オプ・ザフォトグラフィック・プロセス(M
ass * TheTheory of the Ph
otographic Proc@ms )第278〜
311頁(1966年、Maemillan社刊行)に
記載されている。
本発明の化合物の特に有効な具体的化合物としては、
(a)2.3−ジエチル−5−(1−(3−ノナンアミ
ドフェニル)−テトラゾール−5−イルチオ〕ハイドロ
キノン 1b)2.3−ジメチル−5−(5−デカンアミド−1
,3,4−チアジアゾール・2−イルチオ)ハイドロキ
ノン (c)3−ブチル−5−(5−デカンアミド−1゜3−
ベンズイミダゾール−2−イルチオ)ハイドロキノン (d)2.3−ジエチル−5−(4−ドデカンアミドシ
クロヘキサン−1−イルチオ)ハイドロキノン (@12,3−ジエチルー5−[:1−(3−デカンア
ミドフェニル)テトラゾール−5−イルセレノ]ハイド
ロキノン (f)3−オクチル−5−(5−ノナンアミド−1゜3
7ペンゾチアゾールー2−イルチオ)ハイドロキノン (g)2.3−ジエチル−5−(l−カルボキシ−4−
デカンアミドシクロへキシルチオ)ハイドロキノン などが挙げられる。
ドフェニル)−テトラゾール−5−イルチオ〕ハイドロ
キノン 1b)2.3−ジメチル−5−(5−デカンアミド−1
,3,4−チアジアゾール・2−イルチオ)ハイドロキ
ノン (c)3−ブチル−5−(5−デカンアミド−1゜3−
ベンズイミダゾール−2−イルチオ)ハイドロキノン (d)2.3−ジエチル−5−(4−ドデカンアミドシ
クロヘキサン−1−イルチオ)ハイドロキノン (@12,3−ジエチルー5−[:1−(3−デカンア
ミドフェニル)テトラゾール−5−イルセレノ]ハイド
ロキノン (f)3−オクチル−5−(5−ノナンアミド−1゜3
7ペンゾチアゾールー2−イルチオ)ハイドロキノン (g)2.3−ジエチル−5−(l−カルボキシ−4−
デカンアミドシクロへキシルチオ)ハイドロキノン などが挙げられる。
本発明の化合物の感光材料中への添加は水又は有機溶剤
にて溶解し、直接添加すればよいが、プロテクト分散し
て添加しても構わない。又、添加量はハロゲン化銀組成
、ノ・ロゲン化銀粒子サイズ、銀行量、バインダー量、
減力の処理条件(温度。
にて溶解し、直接添加すればよいが、プロテクト分散し
て添加しても構わない。又、添加量はハロゲン化銀組成
、ノ・ロゲン化銀粒子サイズ、銀行量、バインダー量、
減力の処理条件(温度。
時間ン等によりそれぞれ最適量は異なるが、概ね感光性
ハロゲン化銀乳剤層の全層のハロゲン化銀1モルに対し
凡そIO−10モルの範囲又は塗布面積t、l癌り凡そ
3XlO〜3X104ルの範囲で好ましい結果かえられ
る。
ハロゲン化銀乳剤層の全層のハロゲン化銀1モルに対し
凡そIO−10モルの範囲又は塗布面積t、l癌り凡そ
3XlO〜3X104ルの範囲で好ましい結果かえられ
る。
本発明に於ける製版用感材とは、前記の如(、印刷工業
分野に於て、網点画像や線ifIgRを写真製版法によ
り印刷する際に用いる感材であり、その種類°性能は特
に限定されないが、最も一般的な感材は、云わゆるリス
フィルムの如き硬i#l感材である。
分野に於て、網点画像や線ifIgRを写真製版法によ
り印刷する際に用いる感材であり、その種類°性能は特
に限定されないが、最も一般的な感材は、云わゆるリス
フィルムの如き硬i#l感材である。
従って本発明の製版感材の感光性ハロゲン化銀乳剤層に
用いられるハロゲン化銀としては、特に限定はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、沃臭化銀、臭化銀等を用
いることができるが特に、塩化銀を少くとも60モル%
(好ましくはBモル%以上)含み、沃化銀を0〜2モル
%含む塩臭化銀もしくは塩沃臭化嫁が好ましい。ノ・ロ
ゲン化銀粒子の形態、晶癖、サイズ分布等に%に制限は
ないが粒径0.5μ以下のものが好ましい。
用いられるハロゲン化銀としては、特に限定はなく、塩
化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、沃臭化銀、臭化銀等を用
いることができるが特に、塩化銀を少くとも60モル%
(好ましくはBモル%以上)含み、沃化銀を0〜2モル
%含む塩臭化銀もしくは塩沃臭化嫁が好ましい。ノ・ロ
ゲン化銀粒子の形態、晶癖、サイズ分布等に%に制限は
ないが粒径0.5μ以下のものが好ましい。
ハロゲン化銀乳剤は塩化金酸塩、三塩化金などのような
金化合物、ロジウム、イリジウムの如キ貴金属の塩、銀
塩と反応して硫酸銀を形成するイオウ化合物、第一スズ
塩、アミン類の如き還元性物質で粒子を粗大化しないで
感度を上昇させることか出来る。
金化合物、ロジウム、イリジウムの如キ貴金属の塩、銀
塩と反応して硫酸銀を形成するイオウ化合物、第一スズ
塩、アミン類の如き還元性物質で粒子を粗大化しないで
感度を上昇させることか出来る。
又、ロジウム、イリジウムの如き貴金属の塩、赤血塩等
鉄化合物をハロゲン化銀粒子の物理熟成時、又は核生成
時に存在せしめることも出来る。
鉄化合物をハロゲン化銀粒子の物理熟成時、又は核生成
時に存在せしめることも出来る。
本発明に用いられる親水性コロイドバインダーとしては
、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。
、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水
性コロイドも用いることができる。
たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグ
ラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘導
体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポ
リビニルアルコール、ポリヒニルアルコール部分アセタ
ール、ポ9−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、
ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイ
ミダゾール、ポリビニルピラゾール等の皐−あるいは共
重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いること
ができる。
ラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘導
体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポ
リビニルアルコール、ポリヒニルアルコール部分アセタ
ール、ポ9−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、
ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイ
ミダゾール、ポリビニルピラゾール等の皐−あるいは共
重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いること
ができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンやBull、 8oc、 Set、 Phot、
Japan +Nn16e田頁(1966)K記載され
たような酸素処理ゼラチンを用いてもよく、又ゼラチン
の加水分解物や酸素分解物も用いることができる。
チンやBull、 8oc、 Set、 Phot、
Japan +Nn16e田頁(1966)K記載され
たような酸素処理ゼラチンを用いてもよく、又ゼラチン
の加水分解物や酸素分解物も用いることができる。
ハロゲン化銀乳剤層又はその他の層には、米国特許3,
411.911号、同3,411,912号、同3.1
42.568号、同3,325.286号、同3゜54
7.650号、特公昭45−5331等に記載されてい
るアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレート、
アクリル酸、クリシジルアクリレート等のホモ又はコポ
リマーからなるポリマーラテックスを、写真材料の寸度
安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せしめる
ことが出来る。
411.911号、同3,411,912号、同3.1
42.568号、同3,325.286号、同3゜54
7.650号、特公昭45−5331等に記載されてい
るアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレート、
アクリル酸、クリシジルアクリレート等のホモ又はコポ
リマーからなるポリマーラテックスを、写真材料の寸度
安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せしめる
ことが出来る。
写真乳剤にはカプリ防止剤としては、4−ヒドロキシ−
6−メチル−1、3、3m 、 7−チトラアザインデ
ン、3−メチルベンゾチアゾール、l−フェニル−5−
メルカプトテトラゾールをはじめ多くの複素環化合物、
含水銀化合物、メルカプト化合物などの他特開昭49−
81024、同5〇−6306、同50−19429、
米国特許3,850,639号に記載されているような
当業界でよく知られたカプリ防止剤はいづれも用いるこ
とが出来る。
6−メチル−1、3、3m 、 7−チトラアザインデ
ン、3−メチルベンゾチアゾール、l−フェニル−5−
メルカプトテトラゾールをはじめ多くの複素環化合物、
含水銀化合物、メルカプト化合物などの他特開昭49−
81024、同5〇−6306、同50−19429、
米国特許3,850,639号に記載されているような
当業界でよく知られたカプリ防止剤はいづれも用いるこ
とが出来る。
硬膜剤としては、特に制限はないが、アルデヒド系化合
物、ケトン化合物、2−ヒドロキシ−4゜6−ジクロo
−1+3*5−トリアジン等の反応性のハロゲンを有す
る化合物、反応性オレフィンを持つ化合物(例えばビニ
ルスルホン系化合物)、N−メチロール化合物、アジリ
ジン化合物、カルボジイミド化合物などを用いることが
出来る。
物、ケトン化合物、2−ヒドロキシ−4゜6−ジクロo
−1+3*5−トリアジン等の反応性のハロゲンを有す
る化合物、反応性オレフィンを持つ化合物(例えばビニ
ルスルホン系化合物)、N−メチロール化合物、アジリ
ジン化合物、カルボジイミド化合物などを用いることが
出来る。
本発明のハロゲン化銀乳剤層には、塗布助剤、写真特性
の改良、等の目的で界面活性剤を添加することが出来る
。
の改良、等の目的で界面活性剤を添加することが出来る
。
界面活性剤としては、サポニンの如き天然界面活性剤、
アルキレンオキサイド系、クリシドール系などのノニオ
ン界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸く例えば米国特
許3,415,649号記載の界面活性剤〕、燐酸、硫
酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニ
オン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、ア
ミノアルコールの硫酸又は燐酸エステル等の両性界面活
性剤が好ましく用いられる。
アルキレンオキサイド系、クリシドール系などのノニオ
ン界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸く例えば米国特
許3,415,649号記載の界面活性剤〕、燐酸、硫
酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニ
オン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、ア
ミノアルコールの硫酸又は燐酸エステル等の両性界面活
性剤が好ましく用いられる。
本発明の製版用感材はポリアルキレンオキシド化合物の
存在下に現像処理されることが好ましい。
存在下に現像処理されることが好ましい。
ポリアルキレンオキシド化合物は感材及び/又は現像液
に含有させればよく、その用い方は常法に従えばよい。
に含有させればよく、その用い方は常法に従えばよい。
本発明に好ましく用いるポリアルキレンオキシド化合物
は、炭素数2〜4のアルキレンオキシド。
は、炭素数2〜4のアルキレンオキシド。
憂たとえばエチレンオキシド、プロピレン−1゜2−オ
キシド、ブチレン−1,2−オキシドなど、好ましくは
エチレンオキシドの、少くとも【o単位から成るポリア
ルキレンオキシドと、水、脂肪族アルコール、芳香族ア
ルコール、脂肪酸、有機アミン、ヘキシトール誘導体な
どの活性水素原子を少くとも1個有する化合物との縮合
物あるいは二種以上のポリアルキレンオキシドのブロッ
クコポリマーなどを包含する。すなわち、ポリアルキレ
ンオキシド化合物として、具体的には ポリアルキレングリコール類 ポリアルキレングリコールアルキルエーテル類ポリアル
キレングリコールアリールエーテル類ポリアルキレング
リコール(アルキルアリール)エステル類 ポリアルキレングリコールエステル類 ポリアルキレングリコール脂肪酸アミド類ポリアルキレ
ングリコールアミン類 ポリアルキレングリコール・ブロック共重合体ポリアル
キレングリコールグラフト重合物などを用いることがで
きる。
キシド、ブチレン−1,2−オキシドなど、好ましくは
エチレンオキシドの、少くとも【o単位から成るポリア
ルキレンオキシドと、水、脂肪族アルコール、芳香族ア
ルコール、脂肪酸、有機アミン、ヘキシトール誘導体な
どの活性水素原子を少くとも1個有する化合物との縮合
物あるいは二種以上のポリアルキレンオキシドのブロッ
クコポリマーなどを包含する。すなわち、ポリアルキレ
ンオキシド化合物として、具体的には ポリアルキレングリコール類 ポリアルキレングリコールアルキルエーテル類ポリアル
キレングリコールアリールエーテル類ポリアルキレング
リコール(アルキルアリール)エステル類 ポリアルキレングリコールエステル類 ポリアルキレングリコール脂肪酸アミド類ポリアルキレ
ングリコールアミン類 ポリアルキレングリコール・ブロック共重合体ポリアル
キレングリコールグラフト重合物などを用いることがで
きる。
本発明で好ましく用いられるポリアルキレンオキシド化
合物の具体例をあげると次の如くである。
合物の具体例をあげると次の如くである。
ポリアルキレンオキシド化合物例
1、 HO(CH雪CH,O)。H2−CnHts
O(CHICHIO)HH3、C@H1yCH=CHC
@H1sO(CH2CH2O)1@H5、C,、H!、
C00(C馬CH,0)、。H6、C,、H,、C0N
H(CH,CH,O)、、H8、C14at・N (C
H* ) (CH2CH2O)!4 HCH。
O(CHICHIO)HH3、C@H1yCH=CHC
@H1sO(CH2CH2O)1@H5、C,、H!、
C00(C馬CH,0)、。H6、C,、H,、C0N
H(CH,CH,O)、、H8、C14at・N (C
H* ) (CH2CH2O)!4 HCH。
a + b + e =関
b : a +c=lQ: 9
本発明の化合物は、感光性ハロゲン化銀乳剤層に含有さ
せる場合には、感光性ハロゲン化銀乳剤層の総銀量の1
15以下を含有する層(以下、「副感光性ハロゲン化銀
乳剤層」と記す)忙含有させる。
せる場合には、感光性ハロゲン化銀乳剤層の総銀量の1
15以下を含有する層(以下、「副感光性ハロゲン化銀
乳剤層」と記す)忙含有させる。
副感光性ハロゲン化銀乳剤層以外の感光性ノ・ロゲン化
銀乳剤層(以下「主感光性I・ロゲン化銀乳剤層」と記
す)には本発明の化合物を含有させないことが望ましい
が、本発明の効果を阻害しない限度で該化合物を含有し
ても差支えない。
銀乳剤層(以下「主感光性I・ロゲン化銀乳剤層」と記
す)には本発明の化合物を含有させないことが望ましい
が、本発明の効果を阻害しない限度で該化合物を含有し
ても差支えない。
本発明の製版用感材において、本発明の化合物を含有す
る副感光性・・ロゲン化釧乳剤層の占める銀量の比率が
115を越えると、本発明の目的である減力処理適性は
、減力に要する時間だけが長くなり、減力中の改良は殆
んど得られない。
る副感光性・・ロゲン化釧乳剤層の占める銀量の比率が
115を越えると、本発明の目的である減力処理適性は
、減力に要する時間だけが長くなり、減力中の改良は殆
んど得られない。
副感光性ハロゲン化銀乳剤層は主感光性ハロゲン化銀乳
剤層の上下側れでもよいが上部(支持体から遠い位置)
の方が好ましい。副感光性ノ・ロゲン化銀乳剤は主感光
性ハロゲン化銀乳剤と全く異った乳剤を用いても構わな
いが、好ましくは同じ乳剤を用い、本発明の化合物を添
加した方が良好な結果かえられる。更に主感光性へ口・
ゲン化銀乳剤層より銀蓋対観水性コロイドバインダー量
比率が高い方がより本発明の効果が大きい。
剤層の上下側れでもよいが上部(支持体から遠い位置)
の方が好ましい。副感光性ノ・ロゲン化銀乳剤は主感光
性ハロゲン化銀乳剤と全く異った乳剤を用いても構わな
いが、好ましくは同じ乳剤を用い、本発明の化合物を添
加した方が良好な結果かえられる。更に主感光性へ口・
ゲン化銀乳剤層より銀蓋対観水性コロイドバインダー量
比率が高い方がより本発明の効果が大きい。
本発明の化合物を非感光性層に含有させる場合には、そ
の非感光性層は、感光性・・ロゲン化釧乳剤層に隣接す
るものであれば感光性ハロゲン化銀乳剤層忙対する位置
は任意であり、例えば保護層、下引層等が挙げられるが
、好ましくは感光性ハロゲン化銀乳剤層の上部に位置す
る非感光性層である。
の非感光性層は、感光性・・ロゲン化釧乳剤層に隣接す
るものであれば感光性ハロゲン化銀乳剤層忙対する位置
は任意であり、例えば保護層、下引層等が挙げられるが
、好ましくは感光性ハロゲン化銀乳剤層の上部に位置す
る非感光性層である。
本発明の製版用感材の非感光性層Kt!親水性コロイド
バインダー(たとえばゼラチン)、界面活性剤、ゼラチ
ン可塑剤、ポリマーラテックス、硬膜剤、銀標白抑制剤
等を用いることが出来る。更に、表面像#!膜層にはマ
ット剤、帯電防止剤、滑り剤、コロイダルシリカ等も用
いることが出来る。
バインダー(たとえばゼラチン)、界面活性剤、ゼラチ
ン可塑剤、ポリマーラテックス、硬膜剤、銀標白抑制剤
等を用いることが出来る。更に、表面像#!膜層にはマ
ット剤、帯電防止剤、滑り剤、コロイダルシリカ等も用
いることが出来る。
そし°C親水性コロイドバインダー量は感光性ハロゲン
化銀乳剤層より多く、かつ硬膜度もより高くなるように
層別硬膜されていることが本発明の目的である減力性改
良忙より望ましい。
化銀乳剤層より多く、かつ硬膜度もより高くなるように
層別硬膜されていることが本発明の目的である減力性改
良忙より望ましい。
マット剤としてはポリメチルメタアクリレート、二酸化
ケイ素の0.1〜10μ、特Kl〜5μ程度の粒子が好
ましい。
ケイ素の0.1〜10μ、特Kl〜5μ程度の粒子が好
ましい。
本発明の製版用感材の支持体としては、ポリエチレンテ
レフタレートフィルムの如キポリエステルフィルム及び
セルローストリアセテートフィルムの如きセルロースエ
ステルフィルムカ好まシ<用いられる。
レフタレートフィルムの如キポリエステルフィルム及び
セルローストリアセテートフィルムの如きセルロースエ
ステルフィルムカ好まシ<用いられる。
本発明に於ては画像を得るための露光は通常の方法を用
いて行なえばよい。すなわち、自然光(日光)、タング
ステン電灯、螢光灯、水銀灯、キセノン、アーク灯、炭
素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フライン
グスポットなど公知の多種の光源をいずれでも用いるこ
とができる。
いて行なえばよい。すなわち、自然光(日光)、タング
ステン電灯、螢光灯、水銀灯、キセノン、アーク灯、炭
素アーク灯、キセノンフラッシュ灯、陰極線管フライン
グスポットなど公知の多種の光源をいずれでも用いるこ
とができる。
露光時間は通常カメラで用いられる1/100Q秒から
1秒の露光時間はもちろん、1/1000秒より短い露
光、たとえばキセノン閃光灯や陰極線管を用いた1/【
0〜l/10秒の露光を用いることもできるし、1秒よ
り長い露光を用いることもできる・必要に応じて色フィ
ルターで露光に用いられる光の分光組成を調節すること
ができる。露光にレーザー光を用いることもできる。
1秒の露光時間はもちろん、1/1000秒より短い露
光、たとえばキセノン閃光灯や陰極線管を用いた1/【
0〜l/10秒の露光を用いることもできるし、1秒よ
り長い露光を用いることもできる・必要に応じて色フィ
ルターで露光に用いられる光の分光組成を調節すること
ができる。露光にレーザー光を用いることもできる。
本発明の製版用感材の現像処理方法に関しては特に制限
はなく、一般KW版用感材の処理に用いられているもの
はいづれも用いることが出来る。
はなく、一般KW版用感材の処理に用いられているもの
はいづれも用いることが出来る。
処理温度は普通18℃から(資)℃の間に選ばれるが、
18℃より低い温度または50”Cをこえる温度として
もよい。
18℃より低い温度または50”Cをこえる温度として
もよい。
現像液は、知られている現像主薬を含むことができる。
現像主薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(たとえば
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(たとえばl−
フェニル−3−ピラゾリドン)、アミンフェノール類(
たとえばN−メチル−p−アミンフェノール)、l−フ
ェニル−3−ピラゾリン類、アスコルビン酸、及び米国
特許4.067.872号に記載の1.2.3.4−テ
トラヒドロキノリン環とイントレン環とが縮合したよう
な複素環化合物類などを、単独もしくは組合せて用いる
ことができる。μ像液には一般にこの他公知の保恒剤、
アルカリ剤、PH緩衝剤、カプリ防止剤などを含み、さ
らに必要に応じ溶解助剤、色調剤、現禦促進剤、界面活
性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、粘性付与剤などを
含んでもよい。
ハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(たとえばl−
フェニル−3−ピラゾリドン)、アミンフェノール類(
たとえばN−メチル−p−アミンフェノール)、l−フ
ェニル−3−ピラゾリン類、アスコルビン酸、及び米国
特許4.067.872号に記載の1.2.3.4−テ
トラヒドロキノリン環とイントレン環とが縮合したよう
な複素環化合物類などを、単独もしくは組合せて用いる
ことができる。μ像液には一般にこの他公知の保恒剤、
アルカリ剤、PH緩衝剤、カプリ防止剤などを含み、さ
らに必要に応じ溶解助剤、色調剤、現禦促進剤、界面活
性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、粘性付与剤などを
含んでもよい。
本発明に特に好ましく用いられるのは云わゆるリス用現
像液であるが、これは基本的にはオルト又ハパラジヒド
ロキシベンゼン、アルカリ剤、少量の遊離の亜硫酸塩及
び亜硫酸イオンノ(ツファー等から構成される。現像主
薬としてのオルト又はパラジヒドロキシベンゼンは写真
の分野でよく知られているものから適宜選択できる。そ
の具体例を挙げれば))イドロキノン、クロロノーイド
0キ/ン、ブロモハイドロキノン、イソプロピルハイド
ロキノン、トルヒドロロキノン、メチル/)イドロキノ
ン、2,3−ジクロロ/)イドロキノン、2゜5−ジメ
チルハイドロキノンなどがある。
像液であるが、これは基本的にはオルト又ハパラジヒド
ロキシベンゼン、アルカリ剤、少量の遊離の亜硫酸塩及
び亜硫酸イオンノ(ツファー等から構成される。現像主
薬としてのオルト又はパラジヒドロキシベンゼンは写真
の分野でよく知られているものから適宜選択できる。そ
の具体例を挙げれば))イドロキノン、クロロノーイド
0キ/ン、ブロモハイドロキノン、イソプロピルハイド
ロキノン、トルヒドロロキノン、メチル/)イドロキノ
ン、2,3−ジクロロ/)イドロキノン、2゜5−ジメ
チルハイドロキノンなどがある。
この中、特にハイドロキノンが実用的である◎これらの
現像主薬は単独、又は混合して用いられる。現像主薬の
添加量は現像液11当り1−1009、好ましくは5〜
80gである。亜硫酸イオンバッファーは現像液中の亜
硫酸塩濃度をほぼ一定に保つに有゛効な量で用いられ、
ホルマリン亜硫酸水素ナトリウム付加物の如きアルデヒ
ド亜硫酸水素アルカリ付加物、アセトン亜硫酸水素ナト
リウム付加物の妬きケトン−亜硫酸水素アルカリ付加物
、ソジウムービス(2−ヒドロキシエチル)アミンメタ
ンスルホネートの如きカルボニル重亜硫酸−アミン縮合
生成物などが挙げられる。亜硫酸イオンバッファーの使
用量は現像液11轟り13〜130gである。
現像主薬は単独、又は混合して用いられる。現像主薬の
添加量は現像液11当り1−1009、好ましくは5〜
80gである。亜硫酸イオンバッファーは現像液中の亜
硫酸塩濃度をほぼ一定に保つに有゛効な量で用いられ、
ホルマリン亜硫酸水素ナトリウム付加物の如きアルデヒ
ド亜硫酸水素アルカリ付加物、アセトン亜硫酸水素ナト
リウム付加物の妬きケトン−亜硫酸水素アルカリ付加物
、ソジウムービス(2−ヒドロキシエチル)アミンメタ
ンスルホネートの如きカルボニル重亜硫酸−アミン縮合
生成物などが挙げられる。亜硫酸イオンバッファーの使
用量は現像液11轟り13〜130gである。
本発明に用いられる現像液には亜硫酸ナトリウムなどの
亜硫酸アルカリ塩を加えて遊離亜硫酸イオン濃度を制御
することができる。亜硫酸塩の添加量は、現像液ll当
り通常5y以下が一般的であり、特K、311以下が好
ましいが、もちろん5Iより多くてもよい。
亜硫酸アルカリ塩を加えて遊離亜硫酸イオン濃度を制御
することができる。亜硫酸塩の添加量は、現像液ll当
り通常5y以下が一般的であり、特K、311以下が好
ましいが、もちろん5Iより多くてもよい。
多くの場合、ハロゲン化アルカリ(特に、臭化ナトリウ
ム、臭化カリウムの如き臭化物)を現像調節剤として含
有することが好ましい。ハロゲン化アルカリは現像液l
l当り0.001−1o、好ましくは0.1〜5I添加
することが好ましい。
ム、臭化カリウムの如き臭化物)を現像調節剤として含
有することが好ましい。ハロゲン化アルカリは現像液l
l当り0.001−1o、好ましくは0.1〜5I添加
することが好ましい。
現像液中のpHを9以上(特K pH9,7〜11.5
)にする為忙、アルカリ剤が添加される。通常の現像液
にはアルカリ剤として炭酸ナトリウムあるいは炭酸カリ
ウムが用いられ、またその添加量も種々なものがある。
)にする為忙、アルカリ剤が添加される。通常の現像液
にはアルカリ剤として炭酸ナトリウムあるいは炭酸カリ
ウムが用いられ、またその添加量も種々なものがある。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。
とができる。
定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸塩のほか、定
着剤としての効果が知られている有機硫黄化合物を用い
ることができる。
着剤としての効果が知られている有機硫黄化合物を用い
ることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩を含んで
もよい。、1色素像を形成させる場合には常法が適用で
きる。
もよい。、1色素像を形成させる場合には常法が適用で
きる。
現像処理方法としては、手作業によってもよく、又、自
動現像機を用いて行ってもよい。自動現像機で処理する
場合、搬送の方法(例えばローラー搬送、ベルト搬送)
とかに特に制限はなく、当業界で用いられている搬送型
自動現像機を用いることが出来る。この他、処理液組成
、現像方法については米国特許3,025,779号、
同3,078゜024号、同3,122.086号、同
3,149,551号、同3,156,173号、同3
,224.356号、同3,573.914号などの記
載を参考にすることが出来る。
動現像機を用いて行ってもよい。自動現像機で処理する
場合、搬送の方法(例えばローラー搬送、ベルト搬送)
とかに特に制限はなく、当業界で用いられている搬送型
自動現像機を用いることが出来る。この他、処理液組成
、現像方法については米国特許3,025,779号、
同3,078゜024号、同3,122.086号、同
3,149,551号、同3,156,173号、同3
,224.356号、同3,573.914号などの記
載を参考にすることが出来る。
本発明の製版用感材のハロゲン化銀乳剤層、その他の層
、支持体及び処理方法等についてはさらに、リサーチ・
ディスクロージャー誌176巻$〜列頁(1978年1
2月)の記載を参考にすることが出来る。
、支持体及び処理方法等についてはさらに、リサーチ・
ディスクロージャー誌176巻$〜列頁(1978年1
2月)の記載を参考にすることが出来る。
本発明に用いられる減力液に関しては、特に制限はなく
、例えば前記のミーズ著「ザ・セオリー・オグ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス」に記載されたものが有効
に用いられる。
、例えば前記のミーズ著「ザ・セオリー・オグ・ザ・フ
ォトグラフィック・プロセス」に記載されたものが有効
に用いられる。
即ち、過マンガン酸塩、過硫酸塩、第二鉄塩、第二銅塩
、第二セリウム塩、赤血塩、重クロム酸塩等の減力成分
を単独又は併用し、さらに必要により硫酸等の無機酸、
アルコール類を含有せしめた減力液、あるいは、赤血塩
、エチレンジアミンテトラ酢酸第二鉄塩等の減力成分と
チオ硫酸塩、ロダン塩、チオ尿素あるいはその銹導体等
のハロゲン化銀溶剤、さらに必要により硫酸等の無機酸
を含有せしめた減力液が用いられる。
、第二セリウム塩、赤血塩、重クロム酸塩等の減力成分
を単独又は併用し、さらに必要により硫酸等の無機酸、
アルコール類を含有せしめた減力液、あるいは、赤血塩
、エチレンジアミンテトラ酢酸第二鉄塩等の減力成分と
チオ硫酸塩、ロダン塩、チオ尿素あるいはその銹導体等
のハロゲン化銀溶剤、さらに必要により硫酸等の無機酸
を含有せしめた減力液が用いられる。
本発明に用いられる減力液忙は、さらに必要によりメル
カプト基を有する化合物を含有せしめることが出来る。
カプト基を有する化合物を含有せしめることが出来る。
本発明の減力処理に用いる減力液の組成、処理条件(温
度、時間等)には特に制限はなく、当業者が適宜、決定
することが出来る。
度、時間等)には特に制限はなく、当業者が適宜、決定
することが出来る。
減力液及び減力方法に関しては下記特許の記載を参考に
することが出来る。
することが出来る。
特開昭51−140733、同52−68419.同5
3−14901 、同54−119236.同54−1
19237、同55−2245、同55−2244 、
同55−。
3−14901 、同54−119236.同54−1
19237、同55−2245、同55−2244 、
同55−。
17123、同55−79444 、同55−8134
4以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明
するが本発明の技術的範囲は以下の実施例によって何等
制限されるものではなく、種々な簀施態様が可能である
。
4以下に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明
するが本発明の技術的範囲は以下の実施例によって何等
制限されるものではなく、種々な簀施態様が可能である
。
実施例1
70モル%の塩化銀及びIモル%の臭化釧からなる粒子
平均径0.23μのハロゲン化銀乳剤を金増感及び硫黄
増感し調製した。この乳剤忙増感色素として1−(β−
ヒドロキシエチル)−3−フェニル−5−((3−r−
スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニリデン)−エ
チリデンコチオヒダントイン及び3−エチル−5−(1
−メチル−2−(IH)−ピリジリデン〕−ローダニン
、安定剤として4−ヒドロキシ−1,3,3m−7−チ
トラザインデン更にポリエチレンオキサイド化合物、塩
化ビニリデン−メタアクリル酸ブチルポリマーラテック
ス、本発明の化合物(表−1参照)、硬膜剤としてムコ
クロール酸等を順次加えた後、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムベース上ニ1、、l当り銀3.511.ゼ
ラチン1.8.9となるように塗布した。更忙このパロ
ゲン化銀乳剤層の上に表−1で示した本発明の化合物を
含有した保ff1Jli液ヲ1 vl’にりゼラチン1
.5gとなるように塗布し試料(Nn1〜9)を作製し
た。次に上記試料に次の方法により網点画像を形成した
。大日本スクリーン社製ネガ用グレイコンタクトスクリ
ーン(150巌/インチ)を試料に密着せしめ、これに
連続調のウェッジを通してキセノン光源を用いて10秒
間露光した。この試料を現像液サクラドールリyタイプ
271、定着液サクラフィックスタイプ811、自動現
像機サクラオートマチックプロセッサーGQ −25(
以上小西六社製)を用いて27’Cで1分切妙の現像処
理を行った。次K、得られた網点ストリップスなサクラ
網点減力液R−21を1:lK希釈し、20’Cにて段
階的に時間を変えて減力処理を行った。このよ5VcL
、で得られた網点ストリップスの網点面積と網点濃度と
の変化をドツトメーター及びマイクロデンシトメーター
とによって測表−1 表−1から、本発明く係わる方法で得られた試料2.3
.6及び7は比較試料(比し減力による網点面積の減少
に際し網点濃度の低下が少く、減力中が広いことが判る
。尚、乳剤層中にfL接木発明の化合物を添加した試料
は減力中改良の効果が少いばかりか、リス現偉の遅れ感
度低下など好ましくない結果を得た。
平均径0.23μのハロゲン化銀乳剤を金増感及び硫黄
増感し調製した。この乳剤忙増感色素として1−(β−
ヒドロキシエチル)−3−フェニル−5−((3−r−
スルホプロピル−2−ペンゾオキサゾリニリデン)−エ
チリデンコチオヒダントイン及び3−エチル−5−(1
−メチル−2−(IH)−ピリジリデン〕−ローダニン
、安定剤として4−ヒドロキシ−1,3,3m−7−チ
トラザインデン更にポリエチレンオキサイド化合物、塩
化ビニリデン−メタアクリル酸ブチルポリマーラテック
ス、本発明の化合物(表−1参照)、硬膜剤としてムコ
クロール酸等を順次加えた後、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムベース上ニ1、、l当り銀3.511.ゼ
ラチン1.8.9となるように塗布した。更忙このパロ
ゲン化銀乳剤層の上に表−1で示した本発明の化合物を
含有した保ff1Jli液ヲ1 vl’にりゼラチン1
.5gとなるように塗布し試料(Nn1〜9)を作製し
た。次に上記試料に次の方法により網点画像を形成した
。大日本スクリーン社製ネガ用グレイコンタクトスクリ
ーン(150巌/インチ)を試料に密着せしめ、これに
連続調のウェッジを通してキセノン光源を用いて10秒
間露光した。この試料を現像液サクラドールリyタイプ
271、定着液サクラフィックスタイプ811、自動現
像機サクラオートマチックプロセッサーGQ −25(
以上小西六社製)を用いて27’Cで1分切妙の現像処
理を行った。次K、得られた網点ストリップスなサクラ
網点減力液R−21を1:lK希釈し、20’Cにて段
階的に時間を変えて減力処理を行った。このよ5VcL
、で得られた網点ストリップスの網点面積と網点濃度と
の変化をドツトメーター及びマイクロデンシトメーター
とによって測表−1 表−1から、本発明く係わる方法で得られた試料2.3
.6及び7は比較試料(比し減力による網点面積の減少
に際し網点濃度の低下が少く、減力中が広いことが判る
。尚、乳剤層中にfL接木発明の化合物を添加した試料
は減力中改良の効果が少いばかりか、リス現偉の遅れ感
度低下など好ましくない結果を得た。
実施例2
実施例1の乳剤に用いた本発明の化合物以外の添加剤を
加えて完成したハロゲン化銀乳剤を3つに分割し、各乳
剤に更に本発明の化合物(a)をそれぞれ(Al未添加
JR) 50 yet;t /ハロゲン化銀1モル当り
、(C) 75 # /ハロゲン化銀凰モル当り添加し
た乳剤を作成シた。次に表−2に従ってポリエチレンテ
レフタレートフィルムベース上K (A) 乳剤全塗布
し、その上K (Bl又は(C)乳剤を塗布し、両層の
合計としてli当り銀3.8g、ゼラチン1.7Iとな
るように重層し、更にその上に保膜膜液を1d当りゼラ
チン1.71となるように塗布し試料(階【0〜18)
を作製した。これらの試料を実施例1と同様に処理した
。但し、減力液としては下記を用いた。結果を表−2に
示す。
加えて完成したハロゲン化銀乳剤を3つに分割し、各乳
剤に更に本発明の化合物(a)をそれぞれ(Al未添加
JR) 50 yet;t /ハロゲン化銀1モル当り
、(C) 75 # /ハロゲン化銀凰モル当り添加し
た乳剤を作成シた。次に表−2に従ってポリエチレンテ
レフタレートフィルムベース上K (A) 乳剤全塗布
し、その上K (Bl又は(C)乳剤を塗布し、両層の
合計としてli当り銀3.8g、ゼラチン1.7Iとな
るように重層し、更にその上に保膜膜液を1d当りゼラ
チン1.71となるように塗布し試料(階【0〜18)
を作製した。これらの試料を実施例1と同様に処理した
。但し、減力液としては下記を用いた。結果を表−2に
示す。
ファーマー減力液
A液 チオ硫酸ナトリウム(ハイポ)400.lit水
にて 10100 O液 赤血塩 250,9水にて
+0004 使用液はh:s:水=5:1:6(2)’C)表 −2 摸−2から、本発明に係わる方法で得られた試料11
、12 、13 、15及び161−j減力による網点
濃度の低下が少く、減力中が広くなっていることがわか
る・本発明の化合物の添加された乳剤の割合が加%を越
えると減力所要時間が長くなるばかりで減力中は殆んど
改良されてないかむしろ劣化する。
にて 10100 O液 赤血塩 250,9水にて
+0004 使用液はh:s:水=5:1:6(2)’C)表 −2 摸−2から、本発明に係わる方法で得られた試料11
、12 、13 、15及び161−j減力による網点
濃度の低下が少く、減力中が広くなっていることがわか
る・本発明の化合物の添加された乳剤の割合が加%を越
えると減力所要時間が長くなるばかりで減力中は殆んど
改良されてないかむしろ劣化する。
更にリス現像の遅れ、感度の低下、網点品質の劣化も生
じ実用に供しない結果であった。
じ実用に供しない結果であった。
本発明の製版用感材は減力処理性が改善され、また減力
処理性を劣化させないで単位面積当りの塗布銀量の低減
が可能である。
処理性を劣化させないで単位面積当りの塗布銀量の低減
が可能である。
Claims (2)
- (1)下記一般式で示される化合物が感光性ハロゲン化
銀乳剤層に隣接する非感光性層の少なくとも1層及び/
又は感光性ハロゲン化銀乳剤層の全銀量の1/5以下を
含有する副感光性ハロゲン化銀乳剤層に含有されている
ことを特徴とする製版用ハロゲン化銀写真感光材料。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1及びR^2は水素原子又はアルカリ離脱
性マスキング基を表わし、R^3、R^4及びR^5は
各々水素原子又は置換されていてもよいアルキル基を表
わし、R^6はニトロ基、ハロゲン原子、−(X_2)
−_bR^7又は▲数式、化学式、表等があります▼を
表わし、ここでR^7及びR^8は各々それぞれ置換さ
れていてもよいアルキル基又はアリール基を表わし、X
_2はカルボニル基、チオ基、オキシ基、−NHCO−
又は−CONH−を表わし、bの0又は1を表わす。a
は0〜6の整数を表わし、X_2はチオ基又はセレノ基
を表わし、Aはカルボニル基、チオカルボニル基、カル
ボキシメチレン基、3〜6員の炭素環基又は3〜10員
の複素環基を表わす。〕 - (2)特許請求の範囲(1)に記載の製版用ハロゲン化
銀写真感光材料を露光、現像処理して得られた銀画像を
減力処理することを特徴とする製版用ハロゲン化銀感光
材料の減力処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26928584A JPS61145546A (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料及びその減力処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26928584A JPS61145546A (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料及びその減力処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61145546A true JPS61145546A (ja) | 1986-07-03 |
Family
ID=17470223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26928584A Pending JPS61145546A (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 | 製版用ハロゲン化銀写真感光材料及びその減力処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61145546A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6315237A (ja) * | 1986-07-08 | 1988-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀感光材料 |
| JPS63279241A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-16 | Konica Corp | 減力性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料とその減力処理方法 |
-
1984
- 1984-12-19 JP JP26928584A patent/JPS61145546A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6315237A (ja) * | 1986-07-08 | 1988-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀感光材料 |
| JPS63279241A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-16 | Konica Corp | 減力性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料とその減力処理方法 |
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