JPS61145729A - ハ−ドデイスクの磁場配向装置 - Google Patents
ハ−ドデイスクの磁場配向装置Info
- Publication number
- JPS61145729A JPS61145729A JP59269025A JP26902584A JPS61145729A JP S61145729 A JPS61145729 A JP S61145729A JP 59269025 A JP59269025 A JP 59269025A JP 26902584 A JP26902584 A JP 26902584A JP S61145729 A JPS61145729 A JP S61145729A
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- JP
- Japan
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- magnetic field
- orientation
- substrate
- magnet
- pole
- Prior art date
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気ディスクに塗布される磁性塗膜中の磁性
粉を磁気的に配向させるハードディスクの磁場配向装置
に関するものである。
粉を磁気的に配向させるハードディスクの磁場配向装置
に関するものである。
従来の技術
磁気ディスク装置の記録媒体として用いられる磁気ディ
スクはアルミニウム等の超平滑基板に磁性粉を含む塗料
がスピンコード法により塗布されてできている。磁性粉
としては針状ｒ −Ｆｅ２Ｏ３が多く用いられているが
、この磁性粉の粒子形状と向きにより、出力、ノイズ等
が異なる事は良く知られており、再生出力とノイズ特性
を向上するため、一般には、塗膜を乾燥前に磁場中に通
過させて磁性粉の磁化容易軸方向をそろえている。
スクはアルミニウム等の超平滑基板に磁性粉を含む塗料
がスピンコード法により塗布されてできている。磁性粉
としては針状ｒ −Ｆｅ２Ｏ３が多く用いられているが
、この磁性粉の粒子形状と向きにより、出力、ノイズ等
が異なる事は良く知られており、再生出力とノイズ特性
を向上するため、一般には、塗膜を乾燥前に磁場中に通
過させて磁性粉の磁化容易軸方向をそろえている。
以下図面を参照しながら、従来のハードディスクの磁場
配向装置の例について説明する。
配向装置の例について説明する。
第３図（Ａ） 、 （Ｂ）および第４図（Ａ） 、 （
Ｂｌは、従来の配向装置の例である。第３図の装置は、
４１の配向用磁石により塗布面７に水平磁界をかけて、
この磁界により塗布膜中の磁性粉を円周方向に配向させ
るというものである。第４図の装置は、４２の垂直配向
用磁石による塗布面７に垂直な磁界と、４１の水平配向
用磁石による塗布面７に水平な磁界とを交互にかける事
により、磁性粉をより高度に配向させようというもので
ある。
Ｂｌは、従来の配向装置の例である。第３図の装置は、
４１の配向用磁石により塗布面７に水平磁界をかけて、
この磁界により塗布膜中の磁性粉を円周方向に配向させ
るというものである。第４図の装置は、４２の垂直配向
用磁石による塗布面７に垂直な磁界と、４１の水平配向
用磁石による塗布面７に水平な磁界とを交互にかける事
により、磁性粉をより高度に配向させようというもので
ある。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記のような従来例の構成の場合、第３
図の装置では充分な配向性が得られないという問題点が
あり、第４図の装置では、装置が複雑で高価になる上に
、磁石間隔の調整が難しくなるなどの問題点があった。
図の装置では充分な配向性が得られないという問題点が
あり、第４図の装置では、装置が複雑で高価になる上に
、磁石間隔の調整が難しくなるなどの問題点があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、簡単な装置構造であシな
がら、高い配向性を実現しうるハードデ上記問題点を解
決するために、本発明のハードディスクの磁場配向装置
は、基板に対面して、基板回転方向と平行な漏洩磁束を
発生しうる間隙を有する磁界発生装置と、基板をはさん
で前記磁界発生装置の極のいずれか一つと相対する位置
に一極を対向させた磁界発生装置とを有し、前記の二つ
の磁界発生装置のうち、少なくとも漏洩磁束を発生しう
る間隙を有する磁界発生装置の一極に基板をはさんで相
対する位置にある、前記磁極と互いに異極である一極を
対向させた磁界発生装置を、独立して配向作動位置から
遠ざけ得る構造としだものである。
がら、高い配向性を実現しうるハードデ上記問題点を解
決するために、本発明のハードディスクの磁場配向装置
は、基板に対面して、基板回転方向と平行な漏洩磁束を
発生しうる間隙を有する磁界発生装置と、基板をはさん
で前記磁界発生装置の極のいずれか一つと相対する位置
に一極を対向させた磁界発生装置とを有し、前記の二つ
の磁界発生装置のうち、少なくとも漏洩磁束を発生しう
る間隙を有する磁界発生装置の一極に基板をはさんで相
対する位置にある、前記磁極と互いに異極である一極を
対向させた磁界発生装置を、独立して配向作動位置から
遠ざけ得る構造としだものである。
作用
本発明は上記した構成によって、磁場配向工程の途中か
ら磁界発生装置の一つを徐々に基板から遠ざける事がで
き、磁界発生装置を遠ざける前は基板面に対して垂直な
磁界を、そして遠ざけた後は基板面に対して水平な磁界
を発生できるようにしである。これにより水平磁界と垂
直磁界とを任意に切シ換える事ができ、塗膜の配向性を
高くする事ができる。また磁界発生装置は一ケ所であり
、構造的に簡単であり、かつ磁極間隙の調整も容易であ
る。
ら磁界発生装置の一つを徐々に基板から遠ざける事がで
き、磁界発生装置を遠ざける前は基板面に対して垂直な
磁界を、そして遠ざけた後は基板面に対して水平な磁界
を発生できるようにしである。これにより水平磁界と垂
直磁界とを任意に切シ換える事ができ、塗膜の配向性を
高くする事ができる。また磁界発生装置は一ケ所であり
、構造的に簡単であり、かつ磁極間隙の調整も容易であ
る。
実施例
以下本発明の一実施例のハードディスクの磁場配向装置
について、図面を参照しながら説明する。
について、図面を参照しながら説明する。
第１図（ム） 、 （Ｂ）は本発明の実施例におけるハ
ードディスクの磁場配向装置の簡略図を示すものである
。第１図において、１は塗布膜付の基板であり、回転軸
６のまわりを回転する。２は漏洩磁束を発生し得るギャ
ップを有する固定型配向用磁石であシ、３は一極を基板
に対面させた上下動可能にしである配向用磁石である。
ードディスクの磁場配向装置の簡略図を示すものである
。第１図において、１は塗布膜付の基板であり、回転軸
６のまわりを回転する。２は漏洩磁束を発生し得るギャ
ップを有する固定型配向用磁石であシ、３は一極を基板
に対面させた上下動可能にしである配向用磁石である。
以上のように構成されたハードディスクの磁場配向装置
について、以下第２図（ム）及び第２図（Ｂ）を用いて
その動作を説明する。
について、以下第２図（ム）及び第２図（Ｂ）を用いて
その動作を説明する。
まず第２図（ム）は、配向用磁石３を配向作動位置（基
板近く）に設置した時の状態を示す。この場合配向用磁
石２のＮｌｉと配向用磁石３のＳＦＭとの間に、基板面
に対して垂直な強い磁界が現れる。
板近く）に設置した時の状態を示す。この場合配向用磁
石２のＮｌｉと配向用磁石３のＳＦＭとの間に、基板面
に対して垂直な強い磁界が現れる。
この磁界により、基板１上の塗膜１１の中にある針状磁
性粉１２が基板面に垂直に向けられる。この復配内用磁
石３を基板から離した状態を示すのが第２図（Ｂ）であ
る。この時、向かいあった極の間は離れているため配向
用磁石２のＮ極と配向用磁石３のＳ極との間には弱い磁
界しか発生せず、磁石２のギャップ間に生じる磁界が強
くなり、これにより基板１上に基板面に水平かつ回転方
向に平行な磁界が生じる。この磁界により、基板１上の
塗膜１１の中にある針状磁性粉１２は第２図（Ａ）で示
した配向状態から第２図（Ｂ）に示すように基板面に平
行に配向される。
性粉１２が基板面に垂直に向けられる。この復配内用磁
石３を基板から離した状態を示すのが第２図（Ｂ）であ
る。この時、向かいあった極の間は離れているため配向
用磁石２のＮ極と配向用磁石３のＳ極との間には弱い磁
界しか発生せず、磁石２のギャップ間に生じる磁界が強
くなり、これにより基板１上に基板面に水平かつ回転方
向に平行な磁界が生じる。この磁界により、基板１上の
塗膜１１の中にある針状磁性粉１２は第２図（Ａ）で示
した配向状態から第２図（Ｂ）に示すように基板面に平
行に配向される。
一度垂直方向に配向された磁性粉はある程度方向がそろ
っているために、水平方向に配向される時に、配向され
易くなっておシ、配向性を向上できる。
っているために、水平方向に配向される時に、配向され
易くなっておシ、配向性を向上できる。
本発明の磁場配向装置を用いて作製した試料の磁気特性
を従来の装置を用いて作製した比較試料と比較したのが
第１表である。磁性塗料は同じ、ものを使用し、印加す
る平行磁界はいずれの配向装置でも塗膜部分で２０００
０ｅ、基板回転数は１２Ｏｒ、ｐ、ｍ、 となるよう
にして試料作製を行った。
を従来の装置を用いて作製した比較試料と比較したのが
第１表である。磁性塗料は同じ、ものを使用し、印加す
る平行磁界はいずれの配向装置でも塗膜部分で２０００
０ｅ、基板回転数は１２Ｏｒ、ｐ、ｍ、 となるよう
にして試料作製を行った。
第１表かられかるように、本発明の装置による試料は、
第３図の従来例の装置による比較例１よシも高い角型比
を示しており、第４図の従来例の装置による比較例２と
同等の角型比を示している。
第３図の従来例の装置による比較例１よシも高い角型比
を示しており、第４図の従来例の装置による比較例２と
同等の角型比を示している。
即ち、本発明の装置を用いれば第４図の高配向度をめざ
した配向装置と同等の磁気配向性が得られるものである
。
した配向装置と同等の磁気配向性が得られるものである
。
第１表
発明の詳細
な説明したように、本発明のハードディスクの磁場配向
装置は、基板に対面して、基板回転方向と平行な漏洩磁
束を発生しうる間隙を有する磁界発生装置と、基板をは
さんで前記磁界発生装置の極のいずれか一つと相対する
位置に一極を対向させた磁界発生装置とを有し、前記の
二つの磁界発生装置のうち、少なくとも漏洩磁束を発生
しつる間隙を有する磁界発生装置の一極に基板をはさん
で相対する位置にある、前記磁極と互いに異極である一
極を対向させた磁界発生装置を、独立して配向作動位置
から遠ざけ得る構造としただけの簡易な構造であシなが
ら、より複雑な構造の高い配向度をめざした磁場配向装
置と、同等の配向性を実現し得るもので・あシ、ハード
ディスクの高性能化と低価格化を実現可能とするもので
ある。
装置は、基板に対面して、基板回転方向と平行な漏洩磁
束を発生しうる間隙を有する磁界発生装置と、基板をは
さんで前記磁界発生装置の極のいずれか一つと相対する
位置に一極を対向させた磁界発生装置とを有し、前記の
二つの磁界発生装置のうち、少なくとも漏洩磁束を発生
しつる間隙を有する磁界発生装置の一極に基板をはさん
で相対する位置にある、前記磁極と互いに異極である一
極を対向させた磁界発生装置を、独立して配向作動位置
から遠ざけ得る構造としただけの簡易な構造であシなが
ら、より複雑な構造の高い配向度をめざした磁場配向装
置と、同等の配向性を実現し得るもので・あシ、ハード
ディスクの高性能化と低価格化を実現可能とするもので
ある。
第１図は本発明のハードディスクの磁場配向装置の実施
例の簡略図、第２図は第１図の装置の動作原理図、第３
図は従来のハードディスクの磁場配向装置の第１の例の
簡略図、第４図は従来のハードディスクの磁場配向装置
の第２の例の簡略図である。 １・・・・・・基板、２，３・・・・・・配向用磁石、
６・・・・・・回転軸、７・・・・・・塗布面、１１・
・・・・・塗布膜、１２・・・・・・磁性粉、１３・・
・・・・磁界、４１・・・・・・水平配向用磁石、４２
・・・・・垂直配向用磁石。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第３図 （八）
例の簡略図、第２図は第１図の装置の動作原理図、第３
図は従来のハードディスクの磁場配向装置の第１の例の
簡略図、第４図は従来のハードディスクの磁場配向装置
の第２の例の簡略図である。 １・・・・・・基板、２，３・・・・・・配向用磁石、
６・・・・・・回転軸、７・・・・・・塗布面、１１・
・・・・・塗布膜、１２・・・・・・磁性粉、１３・・
・・・・磁界、４１・・・・・・水平配向用磁石、４２
・・・・・垂直配向用磁石。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第３図 （八）
Claims (1)
- 基板に対面して、基板回転方向と平行な漏洩磁束を発生
しうる間隙を有する磁界発生装置と、基板をはさんで前
記磁界発生装置の極のいずれか一つと相対する位置に一
極を対向させた磁界発生装置とを有し、前記の二つの磁
界発生装置のうち、少なくとも漏洩磁束を発生しうる間
隙を有する磁界発生装置の一極に基板をはさんで相対す
る位置にある、前記磁極と互いに異極である一極を対向
させた磁界発生装置を、独立して配向作動位置から遠ざ
け得る構造とした事を特徴とするハードディスクの磁場
配向装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59269025A JPS61145729A (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 | ハ−ドデイスクの磁場配向装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59269025A JPS61145729A (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 | ハ−ドデイスクの磁場配向装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61145729A true JPS61145729A (ja) | 1986-07-03 |
Family
ID=17466623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59269025A Pending JPS61145729A (ja) | 1984-12-19 | 1984-12-19 | ハ−ドデイスクの磁場配向装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61145729A (ja) |
-
1984
- 1984-12-19 JP JP59269025A patent/JPS61145729A/ja active Pending
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