JPH0370855B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 (a) 発明の技術分野 本発明は磁気デイスク媒体の製造装置に係り、
特に磁気デイスク基盤に磁性塗料をスピンコート
法によりコーデング時又はトーデング直後、均一
に薄い塗膜を得るために磁気デイスク基盤を高速
回転する、所謂振り切り工程に於いて、磁気デイ
スク基盤に与える磁界を形成する為の磁気デイス
ク媒体製造装置の磁極配置方法に関する。

(b) 従来技術と問題点 磁気デイスク装置は計算機システムの記憶装置
として用いられ、その磁気デイスク装置の記憶媒
体は磁気デイスクである。磁気デイスクは超仕上
げされたアルミニウム等の基盤に磁性粉を含む塗
料がスピンコート法により塗布され、磁界の中で
前記基盤を回転して塗料を乾燥して表面を研磨す
ることで平滑にして完成されている。そして磁性
粉としては、γ−Fe₂O₃が一般に用いられる。近
年磁気デイスク媒体に対する情報の記録密度を向
上させることが強く要求されている。記録密度を
向上させる為には塗料の厚みを薄くする必要があ
るが、塗料の厚みが薄くなる程磁性粉が極度に少
ない部分やピンホール等の欠陥が発生し易い傾向
があり、塗料のコーテングを行う際に磁界をかけ
ながら行う、又はコーテング直後の振り切り工程
で磁界をかけながら行うことで均一な塗膜を得る
ことが可能であることが知られている。しかし均
一な塗膜を得るためには前記磁界は磁気デイスク
基盤に垂直な方向で半径方向に均一な磁界分布で
あることが必要である。例えば磁気デイスク基盤
の半径方向に漏洩磁界があると塗料がその漏洩磁
界により偏つて分布し、塗膜の厚みにむらが発生
する。

従来、上記磁気デイスク基盤に垂直な方向で半
径方向に均一な磁界分布を持つ磁界を簡易な方法
で形成する磁気デイスク媒体製造装置を得ること
が困難であつた。

(c) 発明の目的 本発明の目的は上記欠点を除く為、磁気デイス
ク基盤に垂直は方法で半径方向に均一な磁界分布
を持つ磁界を簡易な方法で形成する磁気デイスク
媒体製造装置の磁極配置方法を提供することにあ
る。

(d) 発明の構成 本発明の構成は磁気デイスク基盤に磁性粉を含
む塗料をスピンコート法により塗布し、高速回転
して均一な厚みを持つ塗膜を形成する磁気デイス
ク媒体製造装置に於いて、磁気デイスク基盤の塗
膜形成時に磁気デイスク基盤に接近して該磁気デ
イスク基盤の半径方向に該磁気デイスク基盤の塗
膜幅を覆う範囲以上の幅を持つ長方形の磁極を設
け、磁気デイスク基盤を挟んで前記磁極に対向す
る位置及び／又は前記磁極と磁気デイスク基盤の
同一面上に於いて前記磁極に近接した位置の片方
及び／又は前記近接した位置の両方に、漏洩磁束
を吸収するための他極を配置し、磁気デイスク基
盤の半径方向に平行で間隔の等しい空隙を構成す
るようにしたものであり、上記長方形の磁極に永
久磁石を用いる場合は該永久磁石の磁気デイスク
基盤面に対向する面に高導磁率材による磁路を設
け、該磁路を介して上記他極と上記空隙を構成す
るようにしたものである。

(e) 発明の実施例 以下本発明の実施例を図面によつて説明する。
第１図は電磁石を用いた場合の磁気デイスク媒体
製造装置の磁極配置方法の一例を示す。同図ａは
上部より見た構成図で同図ｂは同図ａのＣで示す
位置における断面図を示す。磁気デイスク基盤２
は回転軸８に取り付けられて回転する。磁性塗料
が磁気デイスク基盤２の内側にコーテングされ、
該基盤２の表面を拡散する時、又は振り切り工程
で電磁石３を磁気デイスク基盤２に接近させると
共に垂直方向以外の漏洩磁束を吸収するための他
極１を同図ｂに示す如く電磁石３に接近させる。
又は他極４を接近させる。他極を配設する目的は
垂直方向以外の漏洩磁束を吸収するためである。
又は対向位置に他極５を接近させる。又は他極１
と４を同時に接近させる。又は他極１と４と５を
同時に接近させる。又は他極１と５か４と５を同
時に接近させても良い。この場合他極は高導磁率
の純鉄、パーマロイ等を用い磁路６及び７を形成
することで構成しても、他の磁石を用いても良
い。又他極の構造は同図ａに示す如く電磁石３と
磁気デイスク基盤２の半径方向で平行に空隙を形
成するようにすることが必要である。このような
磁極配置を行うと磁気デイスク基盤２に対し垂直
方向で且つ半径方向に均一な磁界分布を持つ磁界
を与えることが出来る。そして塗膜の厚みを不均
一とする半径方向の漏洩磁束は略零になる。

第２図は永久磁石を用いた場合の磁気デイスク
媒体製造装置の磁極配置方法の一例を示す。第１
図ｂとの相違点は電磁石３の代わりに永久磁石
３′を用いたことと該永久磁石３′の磁気デイスク
基盤２に対向する面に高導磁率材で磁路９を作成
したことである。磁路９を設けることで永久磁石
３′の磁気デイスク基盤２に対向する面の全面か
ら送出される磁力線は１０，１１で示す磁路の角
に集中し１２で示す面からは殆ど送出されない
為、漏洩磁束の発生を防止する効果がある。

上記の如く、磁気デイスク媒体に垂直な磁界を
加えると、塗装材内の磁気材料（フエライト結
晶）は垂直な磁界のために垂直方向に向くととも
に、外周方向への拡散が抑制されて、拡散速度が
低下し、円盤外部に飛散しなくなり塗膜厚の均一
性が実現できるという効果がある。また、磁気材
料（フエライト結晶）は処理をしないままである
と、相互にからみあつて向きが一様にそろわない
が、垂直な磁界のために垂直方向に向くととも
に、結晶の向きがそろつてくるので、その後、乾
燥させるときの磁界の円周配向処理において、残
留磁束の増大及び均一化に有効である。

(f) 発明の効果 以上説明した如く、本発明は磁気デイスク媒体
を製造する際に磁性塗料の塗膜厚を薄く且つ均一
に磁気デイスク基盤上に形成する為に必要な磁気
デイスク基盤に垂直で半径方向に均一に分布し、
漏洩磁束の無い磁界を形成することが可能となる
ため、其の効果は大なるものがある。

【図面の簡単な説明】

第１図は電磁石を用いた場合の磁気デイスク媒
体製造装置の磁極配置方法の一例を示す図、第２
図は永久磁石を用いた場合の磁気デイスク媒体製
造装置の磁極配置方法の一例を示す図である。 １，４，５は他極、２は磁気デイスク基盤、３
は電磁石、３′は永久磁石、６，７，９は磁路、
８は回転軸である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 磁気デイスク基盤に磁性粉を含む塗料をスピ
   ンコート法により塗布し、高速回転して均一な厚
   みを持つ塗膜を形成する磁気デイスク媒体製造装
   置に於いて、磁気デイスク基盤の塗膜形成時に磁
   気デイスク基盤に接近して該磁気デイスク基盤の
   半径方向に該磁気デイスク基盤の塗膜幅を覆う範
   囲以上の幅を持つ長方形の磁極を設け、磁気デイ
   スク基盤を挟んで前記磁極に対向する位置及び／
   又は前記磁極と磁気デイスク基盤の同一面上に於
   いて前記磁極に近接した位置の片方及び／又は前
   記近接した位置の両方に、漏洩磁束を吸収するた
   めの他極を配置し、磁気デイスク基盤の半径方向
   に平行で間隔の等しい空〓を構成することを特徴
   とする磁気デイスク媒体製造装置の磁極配置方
   法。 ２ 上記長方形の磁極に永久磁石を用いる場合は
   該永久磁石の磁気デイスク基盤面に対向する面に
   高導磁率材による磁路を設け、該磁路を介して上
   記他極と上記空〓を構成することを特徴とする磁
   気デイスク媒体製造装置の磁極配置方法。