JPS6115972A - 超硬コーチングを有する物体 - Google Patents
超硬コーチングを有する物体Info
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 16
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 63
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 61
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 32
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 15
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 12
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 10
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 9
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 2
- 239000002650 laminated plastic Substances 0.000 claims description 2
- 239000011162 core material Substances 0.000 claims 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910002795 Si–Al–O–N Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 69
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 6
- -1 C. (Ti Chemical class 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019482 Palm oil Nutrition 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 229910021652 non-ferrous alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002540 palm oil Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017109 AlON Inorganic materials 0.000 description 1
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910000997 High-speed steel Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRSVIZQEENMKOC-UHFFFAOYSA-N [B].[Co].[Co].[Co] Chemical compound [B].[Co].[Co].[Co] WRSVIZQEENMKOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N azanylidynemolybdenum Chemical compound [Mo]#N GPBUGPUPKAGMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N azanylidyneniobium Chemical compound [Nb]#N CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKKMWRVAJNPLFY-UHFFFAOYSA-N azanylidynevanadium Chemical compound [V]#N SKKMWRVAJNPLFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGLOITKZTDVGOE-UHFFFAOYSA-N boranylidynemolybdenum Chemical compound [Mo]#B LGLOITKZTDVGOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDZMENNHPJNJPP-UHFFFAOYSA-N boranylidyneniobium Chemical compound [Nb]#B VDZMENNHPJNJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDVYABSQRRRIOJ-UHFFFAOYSA-N boron;iron Chemical compound [Fe]#B ZDVYABSQRRRIOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011195 cermet Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 description 1
- 238000005338 heat storage Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005025 nuclear technology Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ダイアモンド粒子が直接的に互いに他と結合
されているような、1またはそれ以上の、緻密な、微粒
ダイアモンド層の表面コーチングを有する基材を含むコ
ンパウンド体に関する。このコーチングは、摩耗パーツ
及び工具の用途に適する、極めて高い硬度を特徴とする
。このコーチングはまた、電子成分における伝熱のため
の電子産業に極めて有用なコンパウンド体となるような
、極めて高い電気絶縁性と組合わされた極めて良好な伝
熱性を特徴とする。
されているような、1またはそれ以上の、緻密な、微粒
ダイアモンド層の表面コーチングを有する基材を含むコ
ンパウンド体に関する。このコーチングは、摩耗パーツ
及び工具の用途に適する、極めて高い硬度を特徴とする
。このコーチングはまた、電子成分における伝熱のため
の電子産業に極めて有用なコンパウンド体となるような
、極めて高い電気絶縁性と組合わされた極めて良好な伝
熱性を特徴とする。
ダイアモンドコーチングは、初期には、ダイアモンド粉
末を基材上で、高圧及び高温において焼結することによ
り製造されていた。この方法における欠点は、基材材料
の選択が極めて制限されるということである。実際上、
種々の硬質合金のみが選択可能である。また、基材材料
の所定量がダイアモンド層に浸透するので純粋なダイア
モンドコーチングを得ることはできない。他の欠点は小
さなパーツのみしかコートできないということである。
末を基材上で、高圧及び高温において焼結することによ
り製造されていた。この方法における欠点は、基材材料
の選択が極めて制限されるということである。実際上、
種々の硬質合金のみが選択可能である。また、基材材料
の所定量がダイアモンド層に浸透するので純粋なダイア
モンドコーチングを得ることはできない。他の欠点は小
さなパーツのみしかコートできないということである。
寸法はどの方向にも3cmを超えることができない。
ダイアモンド層を得るための他の方法が知られている。
CV D (Che翔1cal Vapour Dep
osition %気相成長)によって、数マイクロメ
ーターの厚さを有する層を得ることができる。この方法
はいくつかのソ連及び日本の文献に記載されている。例
えば次のようなものである。
osition %気相成長)によって、数マイクロメ
ーターの厚さを有する層を得ることができる。この方法
はいくつかのソ連及び日本の文献に記載されている。例
えば次のようなものである。
1゜ダイアモンド及び他の表面上におけるダイアモンド
の気相成長 B、V、スピッチン(B、V、5pitsyn)外、ジ
ャーナルオブクリスタルグロース(J、of Crys
talGrowth) 、52巻(1981年)、21
9〜26頁。
の気相成長 B、V、スピッチン(B、V、5pitsyn)外、ジ
ャーナルオブクリスタルグロース(J、of Crys
talGrowth) 、52巻(1981年)、21
9〜26頁。
2、 メタン−水素ガスからのダイアモンド粒子の成長
ニス、松本(S、Matsumoto)外、ジャーナル
オプマテリアルズサイエンス(J、of Materi
−als 5cience) 、17巻(1982年)
、3106〜12頁。
オプマテリアルズサイエンス(J、of Materi
−als 5cience) 、17巻(1982年)
、3106〜12頁。
3、 日本特許公開58−9100、松本(Matsu
moto)、1983年5月30日。
moto)、1983年5月30日。
4、 日本特許公開58−11’0494、松本(Ma
tsumoto)、1983年7月1日。
tsumoto)、1983年7月1日。
5、 日本特許公開58−135117、松本(Mat
sumoto)、1983年8月11日。
sumoto)、1983年8月11日。
この方法の欠点は、しばしば所望されるような厚い層を
得ることができないということ、及びそれらの層がしば
しば基材材料への接着性において劣っているということ
である。
得ることができないということ、及びそれらの層がしば
しば基材材料への接着性において劣っているということ
である。
今や、ダイアモンド層の改良された接着性が所定のタイ
プの材料に対して得られるということが見出されたので
ある。従って、良好な接着性が、炭素に対する高い親和
性を有する金属並びにある種の炭化物、窒化物及び酸化
物、並びにほとんどの貴金属に対して得られるというこ
とが見出されたのである。ダイアモンド蒸着の前に上記
の材料の薄い層で基材をコーチングすることによって、
改良された接着性が得られる。
プの材料に対して得られるということが見出されたので
ある。従って、良好な接着性が、炭素に対する高い親和
性を有する金属並びにある種の炭化物、窒化物及び酸化
物、並びにほとんどの貴金属に対して得られるというこ
とが見出されたのである。ダイアモンド蒸着の前に上記
の材料の薄い層で基材をコーチングすることによって、
改良された接着性が得られる。
ダイアモンド蒸着プロセスを等間隔及び上記の材料の蒸
着層でさえぎることによって、主としてダイアモンドか
らなり、基材への良好な接着性を有する厚いコーチング
が得られる。
着層でさえぎることによって、主としてダイアモンドか
らなり、基材への良好な接着性を有する厚いコーチング
が得られる。
非ダイアモンド層は、極めて薄いもの、例えば、約10
人であってよいけれども、それよりも厚いもの、例えば
、約10μmまでであってもよい。
人であってよいけれども、それよりも厚いもの、例えば
、約10μmまでであってもよい。
本発明によれば、改良された接着性及び厚いダイアモン
ドコーチングを有するコンパウンド体が得られる。
ドコーチングを有するコンパウンド体が得られる。
1つの態様においては、基材は鉄族の金属により結合さ
れた、周期律表の4b〜6b族からの金属の、炭化物、
窒化物、炭窒化物、酸炭化物及び硼化物を含むことがで
きる。この態様における炭化物はWCI TaC,T
iC+ MOzc I Cr 3Ct + VCIMo
C等の如き炭化物を含む。(Ti、Mo) (C,N)
の如き炭窒化物及びTi(C,O)の如き酸炭化物も可
能である。
れた、周期律表の4b〜6b族からの金属の、炭化物、
窒化物、炭窒化物、酸炭化物及び硼化物を含むことがで
きる。この態様における炭化物はWCI TaC,T
iC+ MOzc I Cr 3Ct + VCIMo
C等の如き炭化物を含む。(Ti、Mo) (C,N)
の如き炭窒化物及びTi(C,O)の如き酸炭化物も可
能である。
窒化物は、アルカリ及びアルカリ土類金属の如き塩様の
窒化物を除き、すべての金属窒化物を含む。有用な窒化
物は、一般に、遷移金属の窒化物 −である。これら
は一般に耐火性の硬質材料としての炭化物、硼化物及び
珪化物と同じように記載されている。固溶液における金
属窒化物のコンパウンド及び窒化物と炭化物とのコンパ
ウンドも本発明に有用である。窒化物及びコンパウンド
の特定の例としては、窒化珪素、窒化チタン、窒化ジル
コニウム、窒化バナジウム、窒化クロム、窒化ニオブ、
窒化モリブデン、窒化タンタル、窒化タングステン及び
窒化ハフニウムを挙げることができる。硼化物は硼化チ
タン、硼化ジルコニウム、硼化クロム、硼化コバルト、
硼化モリブデン、硼化ニオブ、硼化鉄等を含む。
窒化物を除き、すべての金属窒化物を含む。有用な窒化
物は、一般に、遷移金属の窒化物 −である。これら
は一般に耐火性の硬質材料としての炭化物、硼化物及び
珪化物と同じように記載されている。固溶液における金
属窒化物のコンパウンド及び窒化物と炭化物とのコンパ
ウンドも本発明に有用である。窒化物及びコンパウンド
の特定の例としては、窒化珪素、窒化チタン、窒化ジル
コニウム、窒化バナジウム、窒化クロム、窒化ニオブ、
窒化モリブデン、窒化タンタル、窒化タングステン及び
窒化ハフニウムを挙げることができる。硼化物は硼化チ
タン、硼化ジルコニウム、硼化クロム、硼化コバルト、
硼化モリブデン、硼化ニオブ、硼化鉄等を含む。
鉄族の金属はNi、Co及びFeを含む。
この態様に含まれる材料のうちでは、焼結炭化物、高速
度鋼、工具鋼などがある。
度鋼、工具鋼などがある。
他の態様においては、BN、s+3114、周期律表の
4b〜6b族からの金属の及びAff及びSiの酸化物
、5iAlON、 Al0N及びAl.0.とTic及
びTiNとの混合物の如きセラミック及び耐火材料を含
む。
4b〜6b族からの金属の及びAff及びSiの酸化物
、5iAlON、 Al0N及びAl.0.とTic及
びTiNとの混合物の如きセラミック及び耐火材料を含
む。
セラミック酸化物のうちでは、SiO□、八1□03
+ ZrOz +TiO□等を挙げることができる。本
発明に有用なセラミック材料は、結晶質から完全にガラ
ス質までの基材を含む多くの材料を含む。セラミックは
また前述した金属の炭化物、窒化物、硼化物及び珪化物
の如き非酸化物材料並びに上記酸化物との混合物を含む
。本発明に係るセラミックは、サーメットと呼ばれるも
の及びセラミックと金属とのコンポジットを含む。
+ ZrOz +TiO□等を挙げることができる。本
発明に有用なセラミック材料は、結晶質から完全にガラ
ス質までの基材を含む多くの材料を含む。セラミックは
また前述した金属の炭化物、窒化物、硼化物及び珪化物
の如き非酸化物材料並びに上記酸化物との混合物を含む
。本発明に係るセラミックは、サーメットと呼ばれるも
の及びセラミックと金属とのコンポジットを含む。
本発明のさらに他の態様によれば、基材は貴金属であっ
てよい。貴金属はAg、Δu、Pt、Pd+Ru+Os
及びIr、を含む。もちろん、これらの金属の種々の割
合の合金も含まれる。基材はまた、貴金属以外の他の金
属並びに貴金属を含んでいてもよい2種またはそれ以上
の金属の合金からなっていてもよい。好ましい金属は周
期律表の1b〜7b族及び8族からのものであり、例え
ば、Cu、Zn、Cd、AI、 In。
てよい。貴金属はAg、Δu、Pt、Pd+Ru+Os
及びIr、を含む。もちろん、これらの金属の種々の割
合の合金も含まれる。基材はまた、貴金属以外の他の金
属並びに貴金属を含んでいてもよい2種またはそれ以上
の金属の合金からなっていてもよい。好ましい金属は周
期律表の1b〜7b族及び8族からのものであり、例え
ば、Cu、Zn、Cd、AI、 In。
St、 Sn、 Pb、 Mo、 lllMn+ Fe
、’Co、 Ni等を含む。
、’Co、 Ni等を含む。
本発明の好ましい態様によれば、少なくともlつがダイ
アモンド層であるような少なくとも2層のコーチングを
有するコンパウンド体を提供する。
アモンド層であるような少なくとも2層のコーチングを
有するコンパウンド体を提供する。
このダイアモンド層と基材との間には、非ダイアモンド
層が設けられており、この層の目的はダイアモンド層と
基材との接着性を改良することである。この層は基材と
同じ材料からなるものであってはならない。安定な炭化
物を形成する金属、例えば、周・期律表の4b〜6b族
からの金属、好ましくは、Tiの中間層を選ぶのが適当
である。これらの金属は、炭化物を容易に形成する特性
のために、ダイアモンドに対して高い親和性を有し、こ
のことがこの中間層を介してダイアモンド層が基材に極
めてよく接着する理由である。
層が設けられており、この層の目的はダイアモンド層と
基材との接着性を改良することである。この層は基材と
同じ材料からなるものであってはならない。安定な炭化
物を形成する金属、例えば、周・期律表の4b〜6b族
からの金属、好ましくは、Tiの中間層を選ぶのが適当
である。これらの金属は、炭化物を容易に形成する特性
のために、ダイアモンドに対して高い親和性を有し、こ
のことがこの中間層を介してダイアモンド層が基材に極
めてよく接着する理由である。
非ダイアモンド層もまた、好ましくは、周期律表の4b
〜6b族の金属及びそれらの混合物の、炭化物、窒化物
、炭窒化物、酸炭化物、酸化物及び硼化物からなってい
てよい。TiCITi(CIN)lTiNITt (C
+0) +TI (C+ 0+ N) + St J*
+ AlgOa;Zr、 Hf+ V+ Nb+ Ta
。
〜6b族の金属及びそれらの混合物の、炭化物、窒化物
、炭窒化物、酸炭化物、酸化物及び硼化物からなってい
てよい。TiCITi(CIN)lTiNITt (C
+0) +TI (C+ 0+ N) + St J*
+ AlgOa;Zr、 Hf+ V+ Nb+ Ta
。
Cr+ Mo、 J St + Bの炭化物、Cr、J
ll、 CaJ、g、 Th+ Sct Y+ La+
Ti、Hf、、:Nb、Taの酸化物及び窒化物及び/
又は酸窒化物の混合物等を挙げることができる。これら
は一般ニ、次の化学式M e (CxNyOzBt)
(ここで、M6は上記金属の1種であり、0.45<x
+y+z+ t < 2.1であるものとする)により
表わされる。
ll、 CaJ、g、 Th+ Sct Y+ La+
Ti、Hf、、:Nb、Taの酸化物及び窒化物及び/
又は酸窒化物の混合物等を挙げることができる。これら
は一般ニ、次の化学式M e (CxNyOzBt)
(ここで、M6は上記金属の1種であり、0.45<x
+y+z+ t < 2.1であるものとする)により
表わされる。
上記の層の他に、非ダイアモンド層は貴金属からなって
いてよい。本発明に係るコンパウンド体は、所定の基材
上ルこ、CVD−ダイアモンドの層または非ダイ7モン
FとCVD−ダイアモンドとの層の組合せを蒸着するこ
と番こより製造することができるヵコーチングが2以上
のダイアモンドの層を含む場合、それらが蒸着される順
序は如何なるものであってもよい。例えば、ダイアモン
ドの層をまず蒸着させ、次いで非ダイアモンドの第2の
層を蒸着させ、その後さらにダイアモンドのみを含むか
またはダイアモンドと非ダイアモンド層の組合せを含む
次の層を蒸着させることができる。
いてよい。本発明に係るコンパウンド体は、所定の基材
上ルこ、CVD−ダイアモンドの層または非ダイ7モン
FとCVD−ダイアモンドとの層の組合せを蒸着するこ
と番こより製造することができるヵコーチングが2以上
のダイアモンドの層を含む場合、それらが蒸着される順
序は如何なるものであってもよい。例えば、ダイアモン
ドの層をまず蒸着させ、次いで非ダイアモンドの第2の
層を蒸着させ、その後さらにダイアモンドのみを含むか
またはダイアモンドと非ダイアモンド層の組合せを含む
次の層を蒸着させることができる。
ダイアモンド層の藺の層も上記の材料からなる。
ダイアモンド層は、活性化された気体状炭化水素及び水
素の混合物を用い、これを加熱された基材と接触させる
ような、公知の技術に従ってCvDにより蒸着すること
ができる。個々の層は0.1=1(lumの厚さ、好ま
しくは0.2〜2μmの厚さを有することができる。コ
ーチングがいくつかの層を含む場合、合計厚さは個々の
層の厚さ及び数に依存して、500μmまたはそれ以上
に達してもよい。層の数は2つまたはそれ以上であって
よく、非ダイアモンド層によって隔てられたダイアモン
ドのいくつかの層を含む。
素の混合物を用い、これを加熱された基材と接触させる
ような、公知の技術に従ってCvDにより蒸着すること
ができる。個々の層は0.1=1(lumの厚さ、好ま
しくは0.2〜2μmの厚さを有することができる。コ
ーチングがいくつかの層を含む場合、合計厚さは個々の
層の厚さ及び数に依存して、500μmまたはそれ以上
に達してもよい。層の数は2つまたはそれ以上であって
よく、非ダイアモンド層によって隔てられたダイアモン
ドのいくつかの層を含む。
非ダイアモンド層は、周知のCVDまたはPvD法によ
り蒸着することができる。
り蒸着することができる。
本発明に係るコーテッド体は産業上の多(の用途を有す
る。
る。
1つの用途は、金属並びに木材、プラスチックラミネー
ト及び繊維コンポジットの如き他の材料の機械加工のた
めの、強い摩耗に付されるパーツ、例えば、押出ダイ、
シールリング及び糸ガイド、フライス盤及び旋盤などで
ある。本発明に係るインサートを備えた工具は高い硬度
及び機械加工効率並びに高い耐摩耗性を有する。これは
、特に、合計のダイアモンド厚さが高に1時に耐摩耗性
5も良好となるから、コーチングがいくつかのダイアモ
ンド層を含む場合に適する。
ト及び繊維コンポジットの如き他の材料の機械加工のた
めの、強い摩耗に付されるパーツ、例えば、押出ダイ、
シールリング及び糸ガイド、フライス盤及び旋盤などで
ある。本発明に係るインサートを備えた工具は高い硬度
及び機械加工効率並びに高い耐摩耗性を有する。これは
、特に、合計のダイアモンド厚さが高に1時に耐摩耗性
5も良好となるから、コーチングがいくつかのダイアモ
ンド層を含む場合に適する。
本発明、特に中間層を有するものは高い有用性を有し、
高い耐腐食性及び耐摩耗性を与え、例えば宝石産業や例
えば時計側または他の装飾物の製造に有用である。また
、外側表面上のダイアモンド層は、特に、貴金属の下層
と結合されて、魅力的な特徴を与える。
高い耐腐食性及び耐摩耗性を与え、例えば宝石産業や例
えば時計側または他の装飾物の製造に有用である。また
、外側表面上のダイアモンド層は、特に、貴金属の下層
と結合されて、魅力的な特徴を与える。
本発明に係る製品は、また、電子産業に用いることがで
き、ダイアモンド層の良好な熱伝導性及び/又は高い電
気絶縁性を与える。従って、例えば、銀または金の中間
層を有していてもよいダイアモンドのコーチングは、半
導体用途において、有効な蓄熱部として作用する。
き、ダイアモンド層の良好な熱伝導性及び/又は高い電
気絶縁性を与える。従って、例えば、銀または金の中間
層を有していてもよいダイアモンドのコーチングは、半
導体用途において、有効な蓄熱部として作用する。
さらに、本発明に係るコンパウンド体は手術用具として
有用である。
有用である。
また、ダイアモンド層は放射線量をコントロールするた
めの、医療技術または核技術における放射線検出器とし
て用いることもできる。下記の例は本発明をさらに説明
するためのものである。
めの、医療技術または核技術における放射線検出器とし
て用いることもできる。下記の例は本発明をさらに説明
するためのものである。
例1
焼結炭化物インサートをまず6μm厚の110層で、コ
ートした。このインサートを、次いで、約2μm厚のダ
イアモンド層でコートした。
ートした。このインサートを、次いで、約2μm厚のダ
イアモンド層でコートした。
この例による、A7!−Si合金及び他の非鉄合金の機
械加工のための、インサートの切削特性は顕著に改良さ
れた。
械加工のための、インサートの切削特性は顕著に改良さ
れた。
例2
Si−AA−0−Nインサート及び純セラミソ 。
りのインサートを約2μm層のダイアモンド層でコート
した。
した。
この場合にも、非鉄合金並びに鋳鉄の機械加工の場合に
、改良された特性が得られた。
、改良された特性が得られた。
例3
焼結炭化物インサートを、公知のCVD技術に従って、
2μmの厚さの110層でコートした。次に、このイン
サートを約2μm厚のダイアモンド層でコートした。最
後に、このインサートをPVD (Physical
Vapour Deposition)により2pm厚
のTiN層でコートした。
2μmの厚さの110層でコートした。次に、このイン
サートを約2μm厚のダイアモンド層でコートした。最
後に、このインサートをPVD (Physical
Vapour Deposition)により2pm厚
のTiN層でコートした。
このインサートはStを含むAl合金の機械加工の場合
に優れた特性を有していた。
に優れた特性を有していた。
例4
次の例外を除いて例3を繰り返した。即ちTiC層及び
ダイアモンド層の間にPVDにより約0.1μm厚のT
i層を、接着性を改良するために蒸着した。この多層コ
ーチングは、フライス加工の間の工具欠陥を減少させて
、優れた結果を与えた。
ダイアモンド層の間にPVDにより約0.1μm厚のT
i層を、接着性を改良するために蒸着した。この多層コ
ーチングは、フライス加工の間の工具欠陥を減少させて
、優れた結果を与えた。
例5
焼結炭化物ドリルをまず前の例に従って0.1μmのT
iN及び2μmのダイアモンドからなる層でコートした
。このコーチングを6回繰り返して、7つのTiN層及
び7つのダイアモンド層がらなり、合計で15μmの厚
さを有する多層を得た。このドリルは繊維強化プラスチ
ック及び金属の孔あけに用いることができた。貫通速度
及び耐摩耗性は優れたものであった。
iN及び2μmのダイアモンドからなる層でコートした
。このコーチングを6回繰り返して、7つのTiN層及
び7つのダイアモンド層がらなり、合計で15μmの厚
さを有する多層を得た。このドリルは繊維強化プラスチ
ック及び金属の孔あけに用いることができた。貫通速度
及び耐摩耗性は優れたものであった。
例6
Si −Aj! −〇−Nのシールリングをダイアモン
ドの3pmCVD層でコートした。
ドの3pmCVD層でコートした。
この摩耗パーツを、パーム油ポンプにおいて試験した。
一般に、パーム油は酸性であり、砂及びグリツドを含ん
でいる。従って、そのようなオイルのポンプによる汲み
上げはシールリングに対して多大の要求が課される。本
発明に従ってダイアモンドでコートされたシールリング
は通常のシールリングよりもより長期間漏れを生じなか
った。
でいる。従って、そのようなオイルのポンプによる汲み
上げはシールリングに対して多大の要求が課される。本
発明に従ってダイアモンドでコートされたシールリング
は通常のシールリングよりもより長期間漏れを生じなか
った。
例7
Al203の糸ガイドをまずTiの0.1μm厚の層で
コートし、次いで2μm厚のダイアモンド層でコートし
た。2倍の耐摩耗性が得られた。
コートし、次いで2μm厚のダイアモンド層でコートし
た。2倍の耐摩耗性が得られた。
例8
ハイパワー半導体の製造における蓄熱部として用いるた
めの銅板をまずPVDにより0.1μm厚のTi層でコ
ートし、次いでダイアモンド層(5μm)でコートした
。この層はTiの中間層のために銅によく接着した。ダ
イアモンド層の存在は、高い熱伝導性と同時に電気絶縁
性を与えた。
めの銅板をまずPVDにより0.1μm厚のTi層でコ
ートし、次いでダイアモンド層(5μm)でコートした
。この層はTiの中間層のために銅によく接着した。ダ
イアモンド層の存在は、高い熱伝導性と同時に電気絶縁
性を与えた。
例9
中間層を金(1μm)及びチタン(0,3μm)で構成
した以外は、例8を繰り返した。
した以外は、例8を繰り返した。
例10
ステンレス鋼の時計側を5μmの金でコートし、次いで
2μm厚のダイアモンド層を蒸着した。このコーチング
は極めて耐性が高く、通常の金コート時計とは異なり、
極めてひっかき傷に対する耐性の高いものであった。
2μm厚のダイアモンド層を蒸着した。このコーチング
は極めて耐性が高く、通常の金コート時計とは異なり、
極めてひっかき傷に対する耐性の高いものであった。
例11
ステンレス鋼の時計側を5μmのTiNでコートし、次
いで2μm厚のダイアモンド層を蒸着した。
いで2μm厚のダイアモンド層を蒸着した。
コーチングは極めて耐性の高いものであり、極めてひっ
かき傷に対する耐性の高いものであった。
かき傷に対する耐性の高いものであった。
例12
焼結炭化物インサートを、061μm厚のTi層及び2
μm厚のダイアモンド層により交互に、約100μmの
合計厚さになるまでコートした。このインサートは砂岩
の機械加工に対して良好な結果をもって用いることがで
きた。
μm厚のダイアモンド層により交互に、約100μmの
合計厚さになるまでコートした。このインサートは砂岩
の機械加工に対して良好な結果をもって用いることがで
きた。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属、少なくとも2種の金属の合金、金属結合され
た硬質金属コンパウンドまたはセラミック材料の1種か
らなるコアを含むコンパウンド体であって、このコンパ
ウンド体が少なくとも部分的に1またはそれ以上の、多
結晶質ダイアモンドのCVD蒸着層を含むコーチングに
より被覆されていることを特徴とするコンパウンド体。 2、第1の蒸着ダイアモンド層が非ダイアモンド層を介
してコアに結合されていることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載のコンパウンド体。 3、ダイアモンド層の間に、ダイアモンド以外の材料の
蒸着層が存在することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のコンパウンド体。 4、コアが、周期律表の1b〜7b及び8族からの金属
を主成分とする合金、またはこれらの金属を単独で含む
ことを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項のいずれか
に記載のコンパウンド体。 5、コアが貴金属、銅またはアルミニウムを含むことを
特徴とする特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載
のコンパウンド体。 6、コアが、周期律表の4b〜6b族に属する金属の、
酸化物、炭化物、窒化物、硼化物またはそれらの混合物
または溶液からなる1またはそれ以上の硬質層を含むこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに
記載のコンパウンド体。 7、コア材料が鉄族に属する金属を含むことを特徴とす
る特許請求の範囲第6項記載のコンパウンド体。 8、コアが少なくとも1種のAl、ZrまたはSiの酸
化物または少なくとも1種のB、SiまたはAlの窒化
物を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項の
いずれかに記載のコンパウンド体。 9、コアがSi−Al−O−Nからなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載のコンパ
ウンド体。 10、結合層が貴金属であることを特徴とする特許請求
の範囲第2項記載のコンパウンド体。 11、結合層が安定な炭化物を形成することのできる金
属、好ましくはTiであることを特徴とする特許請求の
範囲第2項記載のコンパウンド体。 12、結合層が化学式Me(CxNyOzBt)(ここ
で、Meは周期律表の4b〜6b族からの金属またはS
iまたはAlであり、0.45<x+y+z+t<2.
1であるものとする)を有する化合物であることを特徴
とする特許請求の範囲第2項記載のコンパウンド体。 13、少なくとも1の中間層が貴金属であることを特徴
とする特許請求の範囲第3項記載のコンパウンド体。 14、少なくとも1の中間層が炭化物を形成することの
できる金属、好ましくはTiであることを特徴とする特
許請求の範囲第3項記載のコンパウンド体。 15、結合層が化学式Me(CxNyOzBt)(ここ
で、Meは周期律表の4b〜6b族からの金属またはS
iまたはAlであり、0.45<x+y+z+t<2.
1であるものとする)を有する化合物であることを特徴
とする特許請求の範囲第3項記載のコンパウンド体。 16、積層されたコーチングの合計厚さが0.1〜50
0μm、好ましくは0.5〜100μmであることを特
徴とする特許請求の範囲第1〜15項のいずれかに記載
のコンパウンド体。 17、切削工具、ドリル、鋸などの如き、摩耗パーツ、
例えば、金属または石切用の引抜ダイまたは工具、また
はプラスチックラミネートまたは繊維コンポジットの機
械用の摩耗パーツとしての、特許請求の範囲第1〜16
項のいずれかに記載のコンパウンド体の使用。 18、極めて良好な伝熱性及び高い電気絶縁性の組合せ
またはこれらの特性の1つが用いられるような電子産業
における成分としての、特許請求の範囲第1〜16項の
いずれかに記載のコンパウンド体の使用。 19、良好な耐スクラッチ性又は耐腐食性が必要な目的
または装飾の目的のための、特許請求の範囲第1〜16
項のいずれかに記載のコンパウンド体の使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE8403429-7 | 1984-06-27 | ||
| SE8403429A SE453474B (sv) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | Kompoundkropp belagd med skikt av polykristallin diamant |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6115972A true JPS6115972A (ja) | 1986-01-24 |
| JPH0576546B2 JPH0576546B2 (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=20356365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60139208A Granted JPS6115972A (ja) | 1984-06-27 | 1985-06-27 | 超硬コーチングを有する物体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4734339A (ja) |
| EP (1) | EP0166708B2 (ja) |
| JP (1) | JPS6115972A (ja) |
| DE (1) | DE3577885D1 (ja) |
| SE (1) | SE453474B (ja) |
| ZA (1) | ZA854602B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2005310724A (ja) * | 2003-05-12 | 2005-11-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電界放射型電子源およびその製造方法 |
| WO2026004639A1 (ja) * | 2024-06-26 | 2026-01-02 | 日新電機株式会社 | 金属加工工具及び金属加工工具の製造方法 |
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| DE3538261A1 (de) * | 1985-10-28 | 1987-04-30 | Battelle Institut E V | Gegeneinander abdichtende ventilelemente fuer mischarmaturen |
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| DE3546113A1 (de) * | 1985-12-24 | 1987-06-25 | Santrade Ltd | Verbundpulverteilchen, verbundkoerper und verfahren zu deren herstellung |
| JPS62202899A (ja) * | 1986-03-03 | 1987-09-07 | Nippon Gakki Seizo Kk | 装飾品の製法 |
| FR2596775B1 (fr) * | 1986-04-07 | 1992-11-13 | Univ Limoges | Revetement dur multicouches elabore par depot ionique de nitrure de titane, carbonitrure de titane et i-carbone |
| US4731296A (en) * | 1986-07-03 | 1988-03-15 | Mitsubishi Kinzoku Kabushiki Kaisha | Diamond-coated tungsten carbide-base sintered hard alloy material for insert of a cutting tool |
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| US5310603A (en) * | 1986-10-01 | 1994-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray |
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| EP0166708A3 (en) | 1987-03-25 |
| EP0166708B2 (en) | 1993-06-30 |
| SE8403429L (sv) | 1985-12-28 |
| SE453474B (sv) | 1988-02-08 |
| EP0166708B1 (en) | 1990-05-23 |
| JPH0576546B2 (ja) | 1993-10-22 |
| US4734339A (en) | 1988-03-29 |
| DE3577885D1 (de) | 1990-06-28 |
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| EP0166708A2 (en) | 1986-01-02 |
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