JPS6118736B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、水のみで現像可能な、新規な光重合
性組成物に関するものである。

従来の光重合性組成物は、他の感光材料に比
べ、その硬化後の強度、耐薬品性等が良好なた
め、印刷用プレート、レジスト等に広く使われて
いる。しかしながら、これらのものは現像の際
に、溶剤又は溶剤を含むアルカリ溶液を用いねば
ならず、このため、作業員が現像時に溶剤の蒸気
を吸入したり、作業場に臭気がたちこむ等作業環
境が悪く、さらに可燃性溶剤の場合には引火の危
険があり、また、現像廃液が高濃度の有機物を含
む場合はその処理装置を必要とする等、種々の問
題があつた。

また、有機溶剤やアルカリ溶剤を用いる現像方
法においては、樹脂を膨潤させ、これをブラツシ
ングなどにより強制的に除去させるため、解像
性、耐刷性がそこなわれるし、アルカリ溶液を用
いる場合にはさらにベースとなる亜鉛やアルミニ
ウムの表面が腐食され、不均質なものとなるとい
う欠点がある。他方において、水のみにより現像
しうる光重合性組成物もいくつか提案されてい
る。この光重合性組成物は、水溶性高分子と光重
合性エチレン性不飽和化合物と光重合開始剤とか
ら成り、前記エチレン性不飽和化合物を光重合さ
せて重合体を形成させると同時に、その組織中に
水溶性高分子を包絡することにより硬化が行われ
る。

しかし、この種の光重合性組成物を用いて得ら
れる平版印刷版は、印刷開始時にインキの転移性
が悪く、不良の印刷物が増えヤレ紙の増加となつ
たり、また印刷中に湿し水により水溶性高分子が
溶け出すためか、実用上十分な耐刷性を得ること
が困難である等の欠点がある。そこでこれらの欠
点を解消すべく検討した結果、重合体と架橋剤と
光重合開始剤とからなる光重合性組成物におい
て、該重合体の側鎖にエチレン性不飽和基と水溶
性塩の基とを導入することにより、感光液自身が
溶剤タイプであつても塗布乾燥後は水のみで現像
可能であり、かつインキの転移性の良好な耐印刷
性のある印刷版を作成することのできる光重合性
組成物が得られることを見出した。本発明は、こ
の知見に基いてなされたものである。

すなわち、本発明の光重合性組成物は、(イ)側鎖
にエチレン性不飽和基と水溶性塩の基をもつ重合
体と、(ロ)エチレン性不飽和基を含む光重合性不飽
和化合物と、(ハ)光重合開始剤の３成分を必須成分
として成るもので、その他必要に応じて組成物の
貯蔵安定性を向上させるための熱重合禁止剤や、
光重合後の機械的強度、耐溶剤性、支持体への接
着性を向上させるための種々の充てん剤、可塑剤
を含むものである。これらのうち、本発明で用い
られる側鎖にエチレン性不飽和基と水溶性塩の基
を有する重合体とは不飽和カルボン酸５重量％以
上を構成単位として含有する重合体（以下「ベー
スポリマー」と称する）にそのカルボキシル基に
対し0.03〜0.85当量のオキシシラン環含有エチレ
ン性不飽和化合物を付加させ、残りのカルボキシ
ル基の0.60〜1.00当量を中和しアルカリ金属塩又
はアンモニウム塩としたものである。

これまでに、カルボキシル基を含む重合体にオ
キシシラン環含有エチレン性不飽和化合物を付加
せしめ、側鎖にエチレン性不飽和基とカルボキシ
ル基を含有する重合体を主体とする光重合性組成
物は知られている。（例えば特開昭47−30402号公
報、特開昭47−31704号公報、特公昭49−34041
号、特公昭49−17874号公報参照）。

しかしながら、この種の重合体は分子内に電離
性基としてカルボキシル基しか含んでいないた
め、アルカリ性水溶液には可溶ではあるが水のみ
では現像不可能であつた。

これに対し、本発明の側鎖にエチレン性不飽和
基と水溶性塩の基とを有する重合体は水のみに可
溶であり、かつ不飽和基を有しているので露光さ
れることにより光重合性エチレン性不飽和化合物
と共に光重合し、完全に反応硬化し不溶化する。
このため、平版印刷版に用いた場合、現像時にに
アルカリ水溶液を用いることなく水のみで現像可
能でかつ露光現像された硬化部は非常に撥水性で
親油性な性質を持つ。このものは、印刷開始時の
ヤレ紙を非常に減少するという利点があり、従来
の重合体包絡型のエチレン性不飽和化合物のみが
反応し、重合体を包絡するものと比較し、エチレ
ン性不飽和化合物のみでなく、重合体自身の不飽
和基も反応に関与するため非常に強靫な画像を形
成し、耐刷性が向上する。

一方、レジストとして使用した場合、現像液に
溶剤を含まないため現像時に硬化した部分の樹脂
のの膨潤が起きにくく解像性、耐薬品性が良好に
なるという利点がある。また、通常の水（水道
水）で現像できるため作業性、作業環境も良好に
維持でき、廃液処理も容易である。

本発明の組成物の調製に用いられるベースポリ
マーは、その構成単位として不飽和カルボン酸を
全構成単位の少なくとも５重量％含有することが
必要であり、通常は、５〜70重量％含有すること
が望ましい。不飽和カルボン酸単位が５重量％よ
りも少ないと、充分な光重合性及び水溶性を与え
るに足るエチレン性不飽和基及び水溶性塩の基を
導入することができない。一方、不飽和カルボン
酸単位は70重量％以下にしておく方が、ベースポ
リマーの極性ガラス転移温度などに好ましい点が
多い。特に平版用印刷版として高い耐刷力などが
要求される場合には、ベースポリマーの構成単位
として、スチレン化合物、不飽和ニトリル、不飽
和カルボン酸エステルおよび脂肪酸ビニルエステ
ルの中から選ばれた少なくとも１種のエチレン性
不飽和化合物を全構成単位の95〜30重量％含有さ
せることが好ましい。このような構成単位を加え
ることにより、平版用感光層やレジストとして好
ましい性質を得ることができる。

本発明のベースポリマーに用いられる不飽和カ
ルボン酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、
イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、ビニル酢酸、α−エチルアクリル酸、アンゲ
リカ酸；イタコン酸、マレイン酸またはフマル酸
のモノメチルエステル、モノエチルエステル、モ
ノプロピルエステル、モノイソプロピルエステ
ル、モノノルマルブチルエステルあるいは無水マ
レイン酸、無水イタコン酸などを挙げることがで
き、これらは単独で、または混合して使用するこ
とができる。スチレン化合物としては、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなど、
不飽和ニトリルとしては、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリルなど、不飽和カルボン酸エステ
ルとしては、アクリル酸アルキルエステルまたは
メタクリル酸アルキルエステル、例えばメチルア
クリレート、エチルアクリレート、ノルマルプロ
ピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、
オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアク
リレート、ラウリルアクリレート、メチルメタク
リレート、エチルメタクリレート、ブチルメタク
リレート、オクチルメタクリレート、ラウリルメ
タクリレートなど、脂肪酸ビニルエステルとして
は、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどをそれ
ぞれ挙げることができる。これらはそれぞれ単独
で、または混合して使用することができる。

ベースポリマーは、不飽和カルボン酸、または
このほかにさらにスチレン化合物、不飽和ニトリ
ル、不飽和カルボン酸エステル、脂肪酸ビニルエ
ステルなどを混合したものを、通常行なわれる方
法で溶液重合、乳化重合または懸濁重合すること
により製造される。この重合反応において、重合
開始剤として過酸化物、アゾ化合物などを使用す
ることができるが、光重合性組成物としての放置
安定性を考慮すると、できるだけ分解効率のよい
重合開始剤を使用することが好ましい。重合溶媒
としては、ケトン類、エステル類、アルコール
類、エーテル類、芳香族炭化水素類等を用いるこ
とができるが、オキシラン環含有エチレン性飽和
化合物の付加反応時の反応安定性より、アルコー
ル系溶媒、特に炭素数が３〜５のアルコールが良
好である。

側鎖にエチレン性不飽和基と水溶性塩の基とを
有する重合体は、ベースポリマーのカルボキシル
基へのオキシラン環含有エチレン性不飽和化合物
の付加反応及びアルカリによる中和反応により得
られる。

付加反応時の反応溶媒としては、ケトン類、エ
ステル類、アルコール類、エーテル類、芳香族炭
化水素類等を用いることができるが、反応の安定
性からみると、アルコール系溶媒、特に炭素数３
〜５のアルコールまたはこれらのアルコールと他
種の有機溶媒との混合溶媒が好ましい。また反応
触媒としては、カルボン酸とオキシラン環化合物
の反応触媒であればどのようなものでも使用可能
であるが、特にトリメチルベンジルアンモニウム
サイドロオキサイドが有効である。またこの反応
を行なうにあたり、オキシラン環含有エチレン性
不飽和化合物のビニル型付加重合を抑制するた
め、反応系に重合禁止剤として還元性物質を存在
させておく必要がある。このような化合物として
はハイドロキノンが有効である。

オキシラン環含有エチレン性不飽和化合物とし
ては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート、アクリルグリシジルエーテル、α−
エチルグリシジルアクリレート、クロトニルグリ
シジルエーテル、グリシジルクロトネート、グリ
シジルイソクロトネート、イタコン酸モノアルキ
ルエステルモノグリシジルエステル、フマール酸
モノアルキルエステルモノグリシジルエステル、
マレイン酸モノアルキルエステルモノグリシジル
エステル等を挙げることができるが、グリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレートが反応
性の点でより好ましい。得られる光重合性組成物
の感光速度、基材への接着性、現像性および皮膜
の強じん性よりみて、ベースポリマーのカルボキ
シル基に対し、0.03〜0.85当量、特に好ましくは
0.10〜0.80当量のオキシラン環含有エチレン性不
飽和化合物が付加される。

このようにしてベースポリマーのカルボキシル
基へのオキシラン環含有エチレン性不飽和化合物
の付加反応終了後、残存カルボキシル基をアルカ
リで中和し、アルカリ金属塩又はアンモニウム塩
とする。用いられるアルカリとしては、アルカリ
金属化合物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどやアンモニア、アミン類、例えばエタ
ノールアミン、トリエタノールアミン、トリメチ
ルアミンなどがある。これらの水溶液又はアルコ
ール溶液を付加反応終了後のベースポリマー溶液
に添加することにより中和することができる。こ
の場合、水現像性より付加反応後の残りのカルボ
キシル基の0.60〜1.00当量を中和する必要があ
る。0.60当量以下の中和度では水のみの現像が困
難となる。

前記(ロ)成分として用いられるエチレン性不飽和
基を含む光重合性組成物には、アクリル酸、メタ
クリル酸又はそのエステル、例えばメチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ヘキシ
ル、ｎ−オクチル、ｎ−ドデシル、シクロヘキシ
ル、テトラヒドロフルフリル、アリル、グリシジ
ル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロ
ピル、３クロロ−２−ヒドロキシ又は４−ヒドロ
キシブチルのアクリレート及びメタクリレート、
あるいはエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ジプロピレングリ
コール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ブチレングリコールのモノ又はジ
アクリレート及びモノ又はジメタクリレート、あ
るいはトリメチロールプロパントリアクリレート
及びメタクリレート、ペンタエリトリツトテトラ
アクリレート及びメタクリレートなどや、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド又はその誘導体、例
えば、Ｎ−メチロールアクリルアミド及びメタク
リルアミド、Ｎ−メトキシアクリルアミド及びメ
タクリルアミド、Ｎ，N′−メチレンビスアクリ
ルアミド及びメタクリルアミド、Ｎ，N′−ヘキ
サメチレンビスアクリルアミド及びメタクリアミ
ドなどや、スチレン、ビニルトルエン、ジビニル
ベンゼン、ジアリルフタレート、トリアリルシア
ヌレート、酢酸ビニルなどがあり、特に好ましい
のは、３〜４個のエチレン基を有するトリメチロ
ールプロパントリアクリレート及びメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリアクリレート及び
メタクリレート、テトラメチロールメタントリア
クリレート及びメタクリレート、ペンタエリトリ
ツトテトラアクリレート及びメタクリレートであ
る。

(ハ)成分の光重合開始剤としては、慣用の光重合
開始剤である。ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン−
Sec−ブチルエーテル、ベンゾインフエニルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−エチルベンゾ
イン、α−メチルベンゾインメチルエーテル、α
−フエニルベンゾイン、α−メチロ−ルベンゾイ
ン、α−メチロ−ルベンゾインエチルエーテル、
α−アリルベンゾイン、ベンゾイントリメチルシ
リルエーテル、γ−ヒドロキシ−γ−フエニル−
γ−ベンゾイル酪酸などのベンゾイン誘導体、ベ
ンゾフエノン、３−メチルベンゾフエノン、２，
4′−ジメチルベンゾフエノン、２，2′−ジメチル
−３−オキシベンゾフエノン、２−ニトロベンゾ
フエノン、４−アミノベンゾフエノン、４−アセ
チルベンゾフエノン、２−クロルベンゾフエノ
ン、２，4′−ジクロルベンゾフエノン、４−ベン
ゾイルベンゾフエノン、４，4′−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフエノン、４，4′−ビス（ジエチ
ルアミノ）ベンゾフエノンなどのベンゾフエノン
誘導体、アンスラキノン、β−メチルアンスラキ
ノン、β−エチルアンスラキノン、β−クロルア
ンスラキノン、１，２−ベンゾアンスラキノン、
フエナンスレンキノンなどのキノン誘導体、及び
ジアセチル、ベンジル、ジフエニルジスルフイ
ド、β−ナフタレンスルホニルクロリド、アセト
フエノン、ω−ブロモアセトフエノンなどを例と
して挙げることができる。

以上の光重合開始剤は単独で、あるいは２種類
以上の組み合わせで用いることができる。比較的
感度の速いものを得るに好ましいものは、β−エ
チルアンスラキノン、ベンゾフエノン、４，4′−
ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフエノンの単独、
あるいは組み合わせである。

光重合性エチレン性不飽和化合物は側鎖にエチ
レン性不飽和基と水溶性塩の基とを有する重合体
100重量部に対して１〜100重量部の範囲で使用す
ることが好ましい。光重合開始剤は光重合性組成
物全重量に対し0.001〜10重量％の割合で用いら
れる。

また、本発明の光重合性組成物は暗所での反応
を防止するため、また長期間安定に貯蔵するため
適当な熱重合禁止剤を含有することが好ましい。
この禁止剤の例としては、例えば、ハイドロキノ
ン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ハイド
ロキノンモノエチルエーテル、ハイドロキノンモ
ノ第三ブチルエーテル、ベンゾキノン、ｐ−メト
キシフエノール、２，５−ジフエニルｐ−ベンゾ
フエノン、ピリジン、フエノチアジン、ｐ−ジア
ミノベンゼン、β−ナフトール、ナフチルアミ
ン、ピロガロール、第三ブチルカテコール、ニト
ロベンゼンなどを挙げることができる。これらの
熱重合抑制剤は、通常、光重合性組成物全重量に
対し0.005〜10重量％の割合で使用される。

また本発明の光重合性組成物は、充てん剤、可
塑剤などを含んでもよい。充てん剤としては、無
機化合物、例えば、ガラス粉末、雲母、シリカ等
が挙げられ、有機化合物としては、ポリエチレ
ン、ポリエチレンオキサイド、ポリエステル、ポ
リアミド、ポリメタクリレート、セルロースおよ
びその誘導体等が挙げられる。

これら充てん剤は、光重合性組成物成分と相溶
性の良いものを選ぶ必要があり、その目的に応じ
て充てん剤を組合せて用いることができる。また
感光性樹脂組成物の目的に応じて、その量は適当
な範囲に選ぶことができる。

一方、可塑剤としては、フタル酸ジアルキルエ
ステル、オリゴエチレングリコールモノアルキル
エステル、オリゴエチレングリコールジアルキル
エステル、リン酸トリクレジルなどのリン酸エス
テル系可塑剤等を使用することができる。そのほ
か、本発明の光重合性組成物を構成する側鎖にエ
チレン性不飽和基及び水溶性塩の基を有する重合
体に対し相溶性のある低分子有機化合物であれば
いかなるものでも可塑剤として使用することがで
きる。

本発明の感光液は、前記光重合性組成物成分を
以下に記する溶媒に溶解することにより得られ
る。感光液を作製するための溶媒は、少なくとも
前記のエチレン性不飽和基及び水溶性塩の基を有
する重合体、光重合性エチレン性不飽和化合物、
光重合開始剤、および熱重合防止剤のいずれをも
溶解する能力を有していることが必要である。こ
の場合、前記４成分の組合せによつては、２種以
上の成分から成る混合溶媒とすることが必要にな
る。このような観点から、本発明の光重合性組成
物溶液を作製するに適した溶媒としては、エステ
ル類、ケトン類、アルコール類、エーテル類、芳
香族炭化水素類等を挙げることができる。特に、
酢酸エチル、メチルエチルケトン、ｎ−ブチルア
ルコール、ｔ−ブチルアルコール、ジオキサン、
ベンゼンあるいはこれらの混合物が適当である。

一方、感光液に含まれる光重合性組成物の濃度
としては、感光液の基材への塗布様式および塗布
条件によつて異なるが、たとえば、ホイラー塗り
でオフセツトPS版を作成する場合には約２〜20
重量％が適当である。

本発明の組成物からの感光液は、その光重合性
組成物成分と溶媒を通常の混合槽内で通常の方法
でカキマゼ混合することによつて製造することが
できる。

このようにして製造された感光液は、一般に、
オフセツト印刷用基材として使用されているアル
ミ板、亜鉛板、マグネシウム板、その他多層平版
用金属板上に塗布される。該感光液を塗布する場
合、塗布方法としては、回転塗布機（Whirler）
による塗布、カーテンコーター、ロールコータな
どを使用した枚葉塗布またはエブ塗布を行なうこ
とができる。

本発明の感光性樹脂組成物を塗布した生版は、
通常の平版と同様なプロセスで焼付け、水のみに
て現像を行なうことができ、活性光線光源とし
て、アーク灯、水銀灯、キセノン灯、ケミカルラ
ンプなどが用いられる。又、現像が水のみで行な
うことができるため溶剤、アルカリ使用による各
種の問題点が解消される。

製版工程としては、露光、現像、水洗、乾燥お
よび不感脂化処理の工程から成り、以上の過程を
経てオフセツト用印刷版が作成される。さらに多
層平版の場合には、現像後、腐食、剥膜の処理を
行なうことによつてバイメタル、トリメタル印刷
版を得ることができる。

このように、本発明の感光性樹脂組成物は、オ
フセツトPS版、ワイポン版、エツチング版 （Deep Etch Plate）、および平凸版用の感光材料
として広く用いることができるほか各種のレジス
トとして有用なものである。

次に、実施例により本発明を詳細に説明する
が、これらは決して本発明を限定するものではな
い。

実施例 １ かきまぜ後、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計
を備えた500ml容の四つ口フラスコに、反応溶媒
としてイソプロピルアルコール100ｇを入れ、窒
素置換を行いながら80℃に加熱した。滴下漏斗に
アクリルニトリル30ｇ、ブチルアクリレート30
ｇ、アクリル酸30ｇ、スチレン10ｇ及び重合触媒
としてＮ，N′−アゾビスイソブチロニトリル３
ｇの混合物を入れておき、該混合物を２時間30分
で滴下し、次いで80℃で５時間30分加熱すること
によつて反応を完結した。混合物を60℃に冷却
し、次いでこれにイソプロピルアルコール96ｇ、
重合禁止剤としてハイドロキノン0.3ｇ、反応触
媒としてトリメチルベンジルアンモニウムハイド
ロオキサイドの40％メタノール溶液3.75ｇを加え
た。次に内容物を80℃に昇温したのち、ハイドロ
キノン0.3ｇを含むグリシジルメタクリレート30
ｇを１時間で滴下し、さらに４時間反応を続け
た。室温に冷却後、淡黄色の粘稠な重合体溶液を
得た。得られた重合体のグリシジルメタクリレー
トの付加反応率（カルボキシル基に対するもの）
は68％であつた。

ここで得られた重合体に1N−水酸化ナトリウ
ムエタノール溶液93.3ｇをかきまぜながら混合し
中和度0.7とした。

こうして得た重合体溶液250ｇを、ｎ−ブチル
アルコール1300ml、ベンゼン200ml及び酢酸エチ
ル200mlから成る混合溶媒で希釈し、これに架橋
剤としてペンタエリトリツトテトラメタクリレー
ト25ｇ及び光増感剤としてβ−エチルアントラキ
ノン0.9ｇ及びベンゾインメチルエーテル0.1ｇを
加え、よくかきまぜ混合して水現像用光重合性組
成物溶液を調製した。

この溶液をよく水洗乾燥した0.3mmのアルミニ
ウム板上にホイラーで塗布、乾燥して９μのポリ
エチレンテレフタレートフイルムをラミネートし
た。

こうして得られた版を、ネガフイルムを密着さ
せ真空焼枠中で、2Kw超高圧水銀灯で1mの距離
より20秒間露光した。

通常の水（水道水）で現像し、鮮明な画線を得
た。この版をオフセツト印刷機（小森スプリン
ト）に取り付け墨インキ（ＦグロスNo.85、大日本
インキ製）で50000枚印刷した。この結果、刷り
出し時のインキ着肉性も良く、また地汚れ、画線
のトビ、カケなどがみられず、良好な印刷物を得
た。

実施例 ２ 下記組成の単量体混合物を用いて、実施例１と
同様にして、ベースポリマーを製造した。

アクリルニトリル 30ｇ ブチルアクリレート 30ｇ メタクリル酸 30ｇ 酢酸ビニル 10ｇ 重合反応完結後、実施例１と同様にして、ベー
スポリマーへのグリシジルメタクリレートの付加
反応を行つた。得られた重合体のグリシジルメタ
クリレートの付加反応率（カルボキシル基に対す
る）は70％であつた。

ここで得られた重合体に1N−水酸化カリウム
エタノール溶液83.7ｇを実施例１と同様に混合か
きまぜ、中和度0.8とした。

ここで得られた重合体溶液250ｇに、架橋剤及
び光増感剤としてトリメチロールプロパントリア
クリレート25ｇ、ミケラスケトン１ｇを用いて実
施例１と同様にして水現像用光重合性組成物溶液
を調製した。

こうして得られた光重合性組成物溶液を用いる
ほかは、実施例１と同様にして原版を作成し、露
光し、水で現像を行つたところ、解像力の高い鮮
明な画線が得られた。また実施例１と同様に 50000枚の印刷を行なつたところ、インキの着
肉性も良く良好な印刷物が得られた。

実施例 ３ 下記組成の単量体混合物を用いて、実施例１と
同様にして、ベースポリマーを製造した。

アクリルニトリル 30ｇ スチレン 10ｇ ブチルアクリレート 30ｇ アクリル酸 30ｇ 重合反応完結後、グリシジルメタクリレート30
ｇの代りにグリシジルアクリレート27ｇを使用し
たほかはすべて実施例１と同様の手順で、ベース
ポリマーのグリシジルアクリレートの付加反応を
行つた。得られた重合体のグリシジルアクリレー
トの付加反応率（カルボキシル基に対するもの）
は62％であつた。

ここで得られた重合体に1N−水酸化ナトリウ
ムエタノール溶液126.7ｇを実施例１と同様に混
合かきまぜ中和度0.8とした。

この重合体溶液250ｇに、架橋剤及び光増感剤
としてそれぞれテトラエチレングリコールジメタ
クリレート25ｇ、ベンゾフエノン１ｇを加えて、
実施例１と同様にして光重合性組成物溶液を調製
した。

こうして得られた光重合性組成物溶液を銅板上
に塗布、乾燥し、２μの膜厚を得た。これを、実
施例１と同様に真空焼枠中で露光し、その後、水
道水で現像したところ、高度の解像力を有する画
線が得られた。この銅板を腐食液に浸せきしたと
ころ、画線にはなんら異常は認められなかつた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 側鎖にエチレン性不飽和基と水溶性塩の基を
   もつ重合体、エチレン性不飽和基を含む光重合性
   不飽和化合物及び光重合開始剤から成る光重合性
   組成物において、前記重合体として、不飽和カル
   ボン酸５重量％以上を構成単位として含有する重
   合体にそのカルボキシル基に対し0.03〜0.85当量
   のオキシラン環含有エチレン性不飽和化合物を付
   加させ、残りのカルボキシル基の0.60〜1.00当量
   を中和し、アルカリ金属塩又はアンモニウム塩と
   した重合体を用いることを特徴とする水現像可能
   な光重合性組成物。 ２ 不飽和カルボン酸５重量％以上を構成単位と
   して含有する重合体がアクリル酸及びメタクリル
   酸の中から選ばれた少なくとも１種の不飽和カル
   ボン酸５〜70重量％と、スチレン化合物、不飽和
   ニトリル、不飽和カルボン酸エステル及び脂肪酸
   ビニルエステルの中から選ばれた少なくとも１種
   のエチレン性不飽和化合物95〜30重量％からなる
   重合体である特許請求の範囲第１項記載の組成
   物。 ３ オキシラン環含有エチレン性不飽和化合物が
   グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリ
   レートである特許請求の範囲第１項記載の組成
   物。