JPS61190068A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
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- JPS61190068A JPS61190068A JP60029585A JP2958585A JPS61190068A JP S61190068 A JPS61190068 A JP S61190068A JP 60029585 A JP60029585 A JP 60029585A JP 2958585 A JP2958585 A JP 2958585A JP S61190068 A JPS61190068 A JP S61190068A
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- Japan
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- vacuum
- chamber
- processing
- products
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子機器等に使用される情報媒体に真空雰囲気
中で処理を施す真空処理装置に関するものである。
中で処理を施す真空処理装置に関するものである。
従来の技術
近年、真空処理装置は真空処理室【内蔵する製品及び処
理剤が約4〜6個単位ごとに真空室を大気圧に戻した状
態で交換される、いわゆるバッチ処理方式がとられてい
る。
理剤が約4〜6個単位ごとに真空室を大気圧に戻した状
態で交換される、いわゆるバッチ処理方式がとられてい
る。
以下図面を参照しながら、上述した従来の真空処理装置
の一例について説明する。第3図、第4図は従来の真空
処理装置のそれぞれ平面図及び正面図を示すものである
。第3図及び第4図において、1は真空室、2は開閉ト
ビラ、3は円周上4か所に等間隔で製品4が取付けられ
た間欠回転円板、6は回転導入機、6はモーター、7は
一対の平歯車、8は処理機、9は円周上4か所に等間隔
で凹部をもつ処理機に内蔵された間欠回転円板、10は
凹部に収納された処理剤、11は垂直軸、12は1対の
傘歯車、13は水平軸、14は回転導入機、16はモー
ター、16は1対の平歯車である。
の一例について説明する。第3図、第4図は従来の真空
処理装置のそれぞれ平面図及び正面図を示すものである
。第3図及び第4図において、1は真空室、2は開閉ト
ビラ、3は円周上4か所に等間隔で製品4が取付けられ
た間欠回転円板、6は回転導入機、6はモーター、7は
一対の平歯車、8は処理機、9は円周上4か所に等間隔
で凹部をもつ処理機に内蔵された間欠回転円板、10は
凹部に収納された処理剤、11は垂直軸、12は1対の
傘歯車、13は水平軸、14は回転導入機、16はモー
ター、16は1対の平歯車である。
以上のように構成された真空処理装置について、以下そ
の動作について説明する。
の動作について説明する。
作業者によって真空室1の開閉トビラ2が開かれ、間欠
回転円板の円周上4か所に製品4がそれぞれ取付けられ
、さらに処理機の間欠回転円板9内の円周上4か所の凹
部に処理剤が投入された後、開閉トビラ2が閉ざされて
真空室1内の真空度が上げられ、一定の真空度に到達し
た時点で処理機8が作動し、処理剤が作用して上方の製
品4に処理剤の膜が付けられる。一定の厚さの処理膜が
付けられた後処理機の作動が停止し、間欠回転円板3及
び処理機8内の間欠回転円板がそれぞれ駆動用のモータ
ー6及び15の回転駆動によって、間欠回転円板は一対
の平歯車7、回転導入機5を経て、また処理機の間欠回
転円板は一対の平歯車16から回転導入機14、水平軸
13、一対の傘歯車12、垂直軸11を経て、それぞれ
2回転送られて停止する。次に再び処理機が作動して新
しい処理剤が作用して上方の新しい製品4に処理剤の膜
が付けられる。一定の厚さの処理膜が付けられた後、処
理機の作動が停止し、前回同様に間欠回転円板3及び処
理機の間欠回転板がそれぞれに回転して停止して同様の
動作が繰シ返される04個の製品にそれぞれ処理が施さ
れた後、再び真空室の真空度が下げられ大気圧に戻った
時点で作業者が開閉トビラ2を開いて処理された製品が
取出され処理されていない製品を取付けると同時に4個
の処理済みの処理剤が取出され、新しい処理剤が処理機
の間欠回転円板に投入される。
回転円板の円周上4か所に製品4がそれぞれ取付けられ
、さらに処理機の間欠回転円板9内の円周上4か所の凹
部に処理剤が投入された後、開閉トビラ2が閉ざされて
真空室1内の真空度が上げられ、一定の真空度に到達し
た時点で処理機8が作動し、処理剤が作用して上方の製
品4に処理剤の膜が付けられる。一定の厚さの処理膜が
付けられた後処理機の作動が停止し、間欠回転円板3及
び処理機8内の間欠回転円板がそれぞれ駆動用のモータ
ー6及び15の回転駆動によって、間欠回転円板は一対
の平歯車7、回転導入機5を経て、また処理機の間欠回
転円板は一対の平歯車16から回転導入機14、水平軸
13、一対の傘歯車12、垂直軸11を経て、それぞれ
2回転送られて停止する。次に再び処理機が作動して新
しい処理剤が作用して上方の新しい製品4に処理剤の膜
が付けられる。一定の厚さの処理膜が付けられた後、処
理機の作動が停止し、前回同様に間欠回転円板3及び処
理機の間欠回転板がそれぞれに回転して停止して同様の
動作が繰シ返される04個の製品にそれぞれ処理が施さ
れた後、再び真空室の真空度が下げられ大気圧に戻った
時点で作業者が開閉トビラ2を開いて処理された製品が
取出され処理されていない製品を取付けると同時に4個
の処理済みの処理剤が取出され、新しい処理剤が処理機
の間欠回転円板に投入される。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成では処理枚数が約4〜6
と限定されるため処理の連続化が不可能なため、4〜6
枚処理された後、真空室を大気圧に戻して製品及び処理
剤を入れ換えねばならず、生産性が極めて低いばかシで
なく、真空室を入れ換えごとに大気圧に戻すことにより
、処理条件や処理時の品質に悪影響を及ぼすという問題
を有していた。
と限定されるため処理の連続化が不可能なため、4〜6
枚処理された後、真空室を大気圧に戻して製品及び処理
剤を入れ換えねばならず、生産性が極めて低いばかシで
なく、真空室を入れ換えごとに大気圧に戻すことにより
、処理条件や処理時の品質に悪影響を及ぼすという問題
を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、処理の連続化のだめの製品
及び処理剤の連続供給を実現することにより、生産性の
大幅な向上と処理される製品品質の安定向上を提供する
ものである。
及び処理剤の連続供給を実現することにより、生産性の
大幅な向上と処理される製品品質の安定向上を提供する
ものである。
問題点を解決するための手段
上記問題を解決するために本発明の真空処理装置は真空
処理室と、処理剤を貯蔵する貯蔵室と、処理剤が収納さ
れたマガジンと、マガジン切換え部と、突上げ部と、貯
蔵室に支点をもち真空処理室までゲートバルブを通過し
て揺動可能な処理剤の供給アームと、真空処理室の片側
にゲートバルブを介して隣接し、大気から真空処理室の
真空度まで昇降可能な前真空室及び前真空室から真空処
理室へ製品を供給する製品供給アームという構成を備え
たものである。
処理室と、処理剤を貯蔵する貯蔵室と、処理剤が収納さ
れたマガジンと、マガジン切換え部と、突上げ部と、貯
蔵室に支点をもち真空処理室までゲートバルブを通過し
て揺動可能な処理剤の供給アームと、真空処理室の片側
にゲートバルブを介して隣接し、大気から真空処理室の
真空度まで昇降可能な前真空室及び前真空室から真空処
理室へ製品を供給する製品供給アームという構成を備え
たものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、処理剤の連続化につい
ては、真空処理室に常時開放状態のゲートバルブを介し
て隣接した貯蔵室の中に処理剤を数多く段積みマガジン
内に収納し、上方へ一段づつ上昇させ、最上段から1個
の処理剤を挾持して供給アームで真空処理室まで供給し
、処理剤を挾持したまま処理機が作動し処理が連続して
行われる0また製品の供給の連続化については真空処理
室に自動開閉可能なゲートバルブを介して隣接した前真
空室で大気から真空処理室の真空度と同圧まで昇降可能
にして、前真空室からゲートバルブを通過して製品を保
持した製品供給アームによって連続的に製品が真空処理
室へ供給される。
ては、真空処理室に常時開放状態のゲートバルブを介し
て隣接した貯蔵室の中に処理剤を数多く段積みマガジン
内に収納し、上方へ一段づつ上昇させ、最上段から1個
の処理剤を挾持して供給アームで真空処理室まで供給し
、処理剤を挾持したまま処理機が作動し処理が連続して
行われる0また製品の供給の連続化については真空処理
室に自動開閉可能なゲートバルブを介して隣接した前真
空室で大気から真空処理室の真空度と同圧まで昇降可能
にして、前真空室からゲートバルブを通過して製品を保
持した製品供給アームによって連続的に製品が真空処理
室へ供給される。
実施例
以下本発明の一実施例の真空処理装置について、図面を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
第1図は本発明の実施例における真空処理装置の平面図
、第2図は同じく正面図を示すものである。第1図及び
第2図において、17は真空処理室、18は貯蔵室、1
9は前真空室、20,21゜22はそれぞれゲートバル
ブ、23は垂直軸24に保持された間欠回転円板、25
は回転導入機、26は一対の平歯車、27はモーター、
28は処理機、29は規制板、30は処理を施される製
品、31は処理剤、32は貯蔵室に設けられたマガジン
、33は前記マガジンを円筒上に取付けた円板、34は
回転導入機、35は一対の平歯車、36はモーター、3
7は突き上げ部、38はマガジン切換え部、39はチャ
ック、4oは供給アーム、41は垂直軸、42はロータ
リーアクチェータ、43け前真空室から伸びた製品供給
第二アーム、44は垂直軸、45は回転導入機、46は
一対の平歯車、47はモータ、48は固定の平歯車、4
9は製品供給第一アーム、5oは遊星歯車、51は中間
歯車である062は使用済み処理剤の投入箱、63は取
出し第一アーム、64は取出し第二アームである。
、第2図は同じく正面図を示すものである。第1図及び
第2図において、17は真空処理室、18は貯蔵室、1
9は前真空室、20,21゜22はそれぞれゲートバル
ブ、23は垂直軸24に保持された間欠回転円板、25
は回転導入機、26は一対の平歯車、27はモーター、
28は処理機、29は規制板、30は処理を施される製
品、31は処理剤、32は貯蔵室に設けられたマガジン
、33は前記マガジンを円筒上に取付けた円板、34は
回転導入機、35は一対の平歯車、36はモーター、3
7は突き上げ部、38はマガジン切換え部、39はチャ
ック、4oは供給アーム、41は垂直軸、42はロータ
リーアクチェータ、43け前真空室から伸びた製品供給
第二アーム、44は垂直軸、45は回転導入機、46は
一対の平歯車、47はモータ、48は固定の平歯車、4
9は製品供給第一アーム、5oは遊星歯車、51は中間
歯車である062は使用済み処理剤の投入箱、63は取
出し第一アーム、64は取出し第二アームである。
以上のように構成された真空処理装置について、以下第
1図及び第2図を用いてその動作を説明する0 まずゲートバルブ2Qが開放され、前真空室にある供給
第一アーム49及び供給第二アームがモーター47の回
転駆動によって一対の平歯車46から回転導入機46、
垂直軸44を伝達して駆動されゲートバルブ20を通過
して外部へ伸びて製品が保持される。次に前記供給第一
アーム、及び供給第二アームが前と逆の動作を行ない前
真空室19内に入シゲートバルプ20は閉じられ、前真
空室の真空度は大気圧から隣接する真空処理室の真空度
まで上げられる。次にゲートバルブ21が開放された後
供給第一アーム及び供給第二アームがさらに駆動されゲ
ートバルブ21を通過して真空処理室17内に内蔵され
た間欠回転円板23上に製品3oが置かれた後、前記供
給第一アームと供給第二アームが前真空室へ戻った後、
ゲートバルブ21は閉められる。次に前記間欠回転円板
23がモーター27の駆動で、一対の平歯車26、回転
導入機25、垂直軸24を伝達されてに回転して停止す
る。次に貯蔵室18に内蔵された処理剤が琢積み収納さ
れたマガジン32が円板33上に取附けられたまま下方
から突上げ部37が突上げ駆動部(図示せず)によって
−股上へ突上げられ、マガジン上方で処理剤が供給アー
ム40先端に取付けられたチャック39によって挾持さ
れる0続いて前記供給アーム4oがロータリーアクチェ
ータ42の駆動によって垂直軸を伝達されて揺動動作を
行ない常時開放のゲートバルブ22を通過して真空処理
室17内に設けられた処理機28内にチャック39に挾
持された処理剤が供給されたまま処理機28が作動して
上方に用意された製品30上に処理が施される。製品上
に一定の膜厚が形成されると処理機は停止して、供給ア
ーム4oは貯蔵室18内に戻り、使用済み処理剤の投入
箱52にチャックを開放して処理剤を投入した後、再び
マガジン32上でチャック39が待機する。間欠回転円
板23上で処理が完了した製品3oは間欠回転円板かに
回転して停止した後、別の取出し第一アーム64と取出
し第二アーム53がゲートバルブ21を通過して前真空
室から真空処理室に入シ処理が完了した間欠回転円板上
の製品を保持した後、取出し第一アームと取出し第二ア
ームが動作して前真空室に入り、ゲートバルブ21が閉
じられた後、前真空室が大気圧まで下げられた後、ゲー
トバルブ2oが開放されて取出し第一アーム54及び取
出し第二アーム53がゲートバルブ2゜を通過して外部
へ伸び、ここで製品が取りはずされる。
1図及び第2図を用いてその動作を説明する0 まずゲートバルブ2Qが開放され、前真空室にある供給
第一アーム49及び供給第二アームがモーター47の回
転駆動によって一対の平歯車46から回転導入機46、
垂直軸44を伝達して駆動されゲートバルブ20を通過
して外部へ伸びて製品が保持される。次に前記供給第一
アーム、及び供給第二アームが前と逆の動作を行ない前
真空室19内に入シゲートバルプ20は閉じられ、前真
空室の真空度は大気圧から隣接する真空処理室の真空度
まで上げられる。次にゲートバルブ21が開放された後
供給第一アーム及び供給第二アームがさらに駆動されゲ
ートバルブ21を通過して真空処理室17内に内蔵され
た間欠回転円板23上に製品3oが置かれた後、前記供
給第一アームと供給第二アームが前真空室へ戻った後、
ゲートバルブ21は閉められる。次に前記間欠回転円板
23がモーター27の駆動で、一対の平歯車26、回転
導入機25、垂直軸24を伝達されてに回転して停止す
る。次に貯蔵室18に内蔵された処理剤が琢積み収納さ
れたマガジン32が円板33上に取附けられたまま下方
から突上げ部37が突上げ駆動部(図示せず)によって
−股上へ突上げられ、マガジン上方で処理剤が供給アー
ム40先端に取付けられたチャック39によって挾持さ
れる0続いて前記供給アーム4oがロータリーアクチェ
ータ42の駆動によって垂直軸を伝達されて揺動動作を
行ない常時開放のゲートバルブ22を通過して真空処理
室17内に設けられた処理機28内にチャック39に挾
持された処理剤が供給されたまま処理機28が作動して
上方に用意された製品30上に処理が施される。製品上
に一定の膜厚が形成されると処理機は停止して、供給ア
ーム4oは貯蔵室18内に戻り、使用済み処理剤の投入
箱52にチャックを開放して処理剤を投入した後、再び
マガジン32上でチャック39が待機する。間欠回転円
板23上で処理が完了した製品3oは間欠回転円板かに
回転して停止した後、別の取出し第一アーム64と取出
し第二アーム53がゲートバルブ21を通過して前真空
室から真空処理室に入シ処理が完了した間欠回転円板上
の製品を保持した後、取出し第一アームと取出し第二ア
ームが動作して前真空室に入り、ゲートバルブ21が閉
じられた後、前真空室が大気圧まで下げられた後、ゲー
トバルブ2oが開放されて取出し第一アーム54及び取
出し第二アーム53がゲートバルブ2゜を通過して外部
へ伸び、ここで製品が取りはずされる。
前記マガジン32内の処理剤が突き上げ部37によって
突上げられ上昇限まで到達し処理剤がなくなると突上げ
部37が最下点まで下降した後、円板33がモーター3
6の駆動によって%回転して停止し再び突上げ部37が
上昇し一段づつ処理剤を突上げ1いく。
突上げられ上昇限まで到達し処理剤がなくなると突上げ
部37が最下点まで下降した後、円板33がモーター3
6の駆動によって%回転して停止し再び突上げ部37が
上昇し一段づつ処理剤を突上げ1いく。
以上のように本発明は真空処理室には間欠回転円板を、
また貯蔵室には筒状のマガジンとマガジン切換え部と処
理剤の突上げ部とチャックを有して揺動動作する供給ア
ームを、また前真空室には外部または隣接する真空処理
室まで伸びて製品の供給取出しが可能な供給取出しアー
ムを設けることにより製品及び処理剤の供給取出しが真
空処理室の真空を下げて大気に戻さず常に真空を保った
まま連続して行うことができる。
また貯蔵室には筒状のマガジンとマガジン切換え部と処
理剤の突上げ部とチャックを有して揺動動作する供給ア
ームを、また前真空室には外部または隣接する真空処理
室まで伸びて製品の供給取出しが可能な供給取出しアー
ムを設けることにより製品及び処理剤の供給取出しが真
空処理室の真空を下げて大気に戻さず常に真空を保った
まま連続して行うことができる。
発明の効果
以上のように本発明では、回転円板上の製品に処理を施
す真空処理室と゛、処理剤を貯蔵する貯蔵室にあって筒
状のマガジンと、マガジン切換え部と突き上げ部と、先
端に処理剤を挾持するチャックを有し揺動する供給アー
ムと、真空処理室にゲートバルブを介して隣接した前処
理室にあって外部及び真空処理室まで伸びて製品を供給
取出しする供給取出しアームを設けることにより製品が
外部から前真空室を経由して真空処理室へ供給され、さ
らに処理が完了した製品は前真空室を経由して外部へと
連続的に行われ、また処理剤も貯蔵室から一個づつ供給
アーム先端のチャックに挾持されたまま供給されて処理
されるため真空処理室を常に一定の真空圧に保ったまま
連続して処理を施すことができ生産性の大幅な向上と製
品の処理時の品質維持に大きな効果を発揮することがで
きる。
す真空処理室と゛、処理剤を貯蔵する貯蔵室にあって筒
状のマガジンと、マガジン切換え部と突き上げ部と、先
端に処理剤を挾持するチャックを有し揺動する供給アー
ムと、真空処理室にゲートバルブを介して隣接した前処
理室にあって外部及び真空処理室まで伸びて製品を供給
取出しする供給取出しアームを設けることにより製品が
外部から前真空室を経由して真空処理室へ供給され、さ
らに処理が完了した製品は前真空室を経由して外部へと
連続的に行われ、また処理剤も貯蔵室から一個づつ供給
アーム先端のチャックに挾持されたまま供給されて処理
されるため真空処理室を常に一定の真空圧に保ったまま
連続して処理を施すことができ生産性の大幅な向上と製
品の処理時の品質維持に大きな効果を発揮することがで
きる。
第1図は本発明の一実施例における真空処理装置の平面
断面図、第2図は同正面断面図、第3図は従来の真空処
理装置の平面断面図、第4図は同正面断面図である。 17・・・・・・真空処理室、18・・・・・・貯蔵室
、32・・・・・・マガジン、38・・・・・・マガジ
ン切換え部、37・・・・・・突き上げ部、4o・・・
・・・供給アーム、19・・・・・・前真空室、43.
44・・・・・・供給アーム、53 ;54・・・・・
・取出しアーム。
断面図、第2図は同正面断面図、第3図は従来の真空処
理装置の平面断面図、第4図は同正面断面図である。 17・・・・・・真空処理室、18・・・・・・貯蔵室
、32・・・・・・マガジン、38・・・・・・マガジ
ン切換え部、37・・・・・・突き上げ部、4o・・・
・・・供給アーム、19・・・・・・前真空室、43.
44・・・・・・供給アーム、53 ;54・・・・・
・取出しアーム。
Claims (1)
- 処理機を内蔵し、間欠回転円板上の製品に処理を施す
真空処理室と、ゲートバルブを介して前記真空処理室に
隣接して処理剤を貯蔵する貯蔵室と、前記貯蔵室にあっ
て処理剤が収納された容器が垂直方向に整列して複数個
、段積された筒状のマガジンと、前記マガジンが複数個
、円板上の円周に一定間隔で取付けられ間欠回転するマ
ガジン切換え部と、前記筒状マガジン中の最下段の処理
剤に当接した棒が一段ずつ上昇、停止を繰り返す突き上
げ部と、前記貯蔵室に支点をもち、前記マガジン最上段
の処理剤を挾持するチャックを先端に有し、ゲートバル
ブを通過して揺動する供給アームと、前記真空処理室に
ゲートバルブを介して隣接した前真空室と、前真空室か
ら外部及び真空処理室へそれぞれ伸びて製品の供給取出
しが可能な供給取出しアームとを備えたことを特徴とす
る真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60029585A JPS61190068A (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60029585A JPS61190068A (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61190068A true JPS61190068A (ja) | 1986-08-23 |
Family
ID=12280150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60029585A Pending JPS61190068A (ja) | 1985-02-18 | 1985-02-18 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61190068A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5338362A (en) * | 1992-08-29 | 1994-08-16 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for processing semiconductor wafer comprising continuously rotating wafer table and plural chamber compartments |
-
1985
- 1985-02-18 JP JP60029585A patent/JPS61190068A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5338362A (en) * | 1992-08-29 | 1994-08-16 | Tokyo Electron Limited | Apparatus for processing semiconductor wafer comprising continuously rotating wafer table and plural chamber compartments |
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