JPS61196523U - - Google Patents

Info

Publication number
JPS61196523U
JPS61196523U JP7927385U JP7927385U JPS61196523U JP S61196523 U JPS61196523 U JP S61196523U JP 7927385 U JP7927385 U JP 7927385U JP 7927385 U JP7927385 U JP 7927385U JP S61196523 U JPS61196523 U JP S61196523U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
chemical vapor
chamber
reaction gas
inlet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7927385U
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP7927385U priority Critical patent/JPS61196523U/ja
Publication of JPS61196523U publication Critical patent/JPS61196523U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の横形化学蒸着式成膜装置の一
実施例における垂直断面図、第2図は従来の横形
化学蒸着式成膜装置の垂直断面図である。 1…化学蒸着式成膜装置(CVD)のチヤンバ
、2…盲蓋、3…サセプタ、4…反応ガス導入口
、5…排気、6…フランジ付き短管、7…円錐管
状キヤツプ、8…反応ガス流入管。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 水平に設置された筒状の化学蒸着チヤンバ内に
    サセプタを設けて、被処理物である半導体ウエハ
    を垂直姿勢に支承し、前記筒状化学蒸着チヤンバ
    の一端から反応ガスを送入しつつ他端から排気す
    る構造の横形化学蒸着式成膜装置において、前記
    筒状の化学蒸着チヤンバの反応ガス送入端に円錐
    筒状のキヤツプを装着すると共に、該円錐管状キ
    ヤツプの頂点部に、前記筒状チヤンバの中心線方
    向に反応ガスを送入するガス導入口を設け、この
    導入口からチヤンバ内に流入する反応ガスが前記
    円錐管状キヤツプに導かれて拡散するとともに、
    筒状の化学蒸着チヤンバの入口端付近において層
    流を形成するように構成したことを特徴とする横
    形化学蒸着式成膜装置。
JP7927385U 1985-05-29 1985-05-29 Pending JPS61196523U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7927385U JPS61196523U (ja) 1985-05-29 1985-05-29

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7927385U JPS61196523U (ja) 1985-05-29 1985-05-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61196523U true JPS61196523U (ja) 1986-12-08

Family

ID=30624032

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7927385U Pending JPS61196523U (ja) 1985-05-29 1985-05-29

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61196523U (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0766130A (ja) 化学的気相成長(cvd)装置
JPH0238468U (ja)
JPH0472620U (ja)
JPS6346837U (ja)
JPH01107124U (ja)
JPH0173930U (ja)
JPS5945926U (ja) 化学気相成長装置
JPH0220213Y2 (ja)
JPS61272918A (ja) ガス流分布を改良したcvd装置
JPS6169282U (ja)
JPS62126362U (ja)
JPS6186472U (ja)
JPS626681Y2 (ja)
JPS6194559U (ja)
JPS6361120U (ja)
JPS63170465U (ja)
JPH01133728U (ja)
JPS61147274U (ja)
JPH0265335U (ja)
JPS60119743U (ja) 化学的気相付着装置
JPS62163332A (ja) 半導体製造装置
JPS6444627U (ja)
JPH01123336U (ja)
JPH0555545U (ja) 縦型減圧cvd装置用ボート
JPH01145124U (ja)