JPS626681Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は、半導体用ウエーハ試料を例えば化
学気相成長法により処理する場合に、ウエーハ試
料を配列して保持するウエーハ試料処理ボートに
関する。

ウエーハ試料を一般に化学気相成長法（CVD
法）により、シリコン酸化膜やポリシリコン膜
（多結晶シリコン膜）などを成長させる場合、ウ
エーハ試料を反応管の中心位置で保持しておくよ
うに、ウエーハ試料処理ボートが使用されてい
る。

従来、反応管の内径はウエーハ試料の直径によ
り、それに応じて決められていた。したがつて、
ある内径の反応管は、一種類の直径のウエーハ試
料の処理しか使用されず、多種類の反応管を必要
とし、利用率が低かつた。

従来のウエーハ試料処理ボートは、第１図及び
第２図に正面図及び側面図で示すようになつてい
た。１は両側１対の支持棒で、双方が平行に水平
方向に配置され両端を連結棒２で一体に溶着結合
されている。３は各支持棒１に一体に溶着結合さ
れた両側１対の保持部材で、図では板状をなし、
上部に水平方向に対し多数のスリツト３ａが配設
され、それぞれウエーハ試料４がはめ込まれ、多
数枚を一定間隔で配列保持する。なお、保持部材
として、多数本の棒材にして、それぞれ上部にス
リツトを設けたものにしたものもある。上記支持
棒１、連結棒２及び保持部材３は石英材からな
る。

上記処理ボートにウエーハ試料４を保持し、鎖
線で示す反応管５内に搬入し、処理を行なう。こ
の従来の処理ボートにより保持し、成長させたウ
エーハ試料を第３図に示す。ウエーハ試料４内で
の膜厚分布ｍは大きく乱れている。

また、ウエーハ試料４は支持棒１により反応ガ
スの流れの影響をうけ、支持棒１近傍の領域では
シリコン酸化膜及びポリシリコン膜などの膜厚が
薄くなる。さらに、ウエーハ試料４と反応管５と
の距離が最適距離でない場合にも反応ガスの流れ
の影響を受け、ウエーハ試料４内でシリコン酸化
膜及びポリシリコン膜などの膜厚分布に乱れを生
じ、チツプの品質に悪影響を及ぼしていた。

この考案は、両側１対の支持棒にそれぞれ上向
きに保持部材を固着し、多数枚のウエーハ試料を
はめ込むスリツトを配設し、これらのスリツトに
はめられたウエーハ試料の外周から所定の距離を
おいて同心に囲う円筒体を設け、この円筒体はウ
エーハ試料に対し上部及び両側部を囲う上側部
と、下部を囲う底部とに分割してあり、それぞれ
１対の支持棒に着脱可能に装着し、ウエーハ試料
が支持棒や反応管による影響を受けず、極めて安
定した膜が得られるウエーハ試料処理ボートを提
供ることを目的としている。

第４図及び第５図はこの考案の一実施例による
ウエーハ試料処理ボートの正面図及び側面図であ
り、２〜４，３ａは上記従来装置と同一のもので
ある。１０は石英材からなる１対の支持棒で、双
方が平行に水平方向に配置され、石英材からなる
連結棒２により一体に溶着結合されている。１１
は各支持棒１０に固着された引掛け片である。各
支持棒１０には、保持するウエーハ試料４の中心
に向けそれぞれ保持部材３が溶着結合されてい
る。１２は石英材からなる円筒体で、保持部材３
のスリツト３ａにはめ込まれたウエーハ試料３の
外周から所定の距離をおいて、同心に囲つてい
る。円筒体１２はウエーハ試料４の上部及び両側
を囲う上側部１３と、下部を囲う底部１４とに２
分割され、着脱を容易にしている。上側部１３は
支持棒１０の引掛け片１１に引掛られて保持さ
れ、底部１４は支持棒１０の上部にはめられて保
持される。

上記一実施例の処理ボートによりウエーハ試料
４を保持して処理するには、次のようにする。ま
ず、上側部１３を取外し、保持部材３の各スリツ
ト３ａにウエーハ試料４をそれぞれはめ込み配列
保持する。上側部１３をはめる。こうした処理ボ
ートを、鎖線で示す反応管１５内に搬入し、処理
を行なう。反応管１５の内径が一定のものでなく
ても、ウエーハ試料４は所定の距離をおいて円
筒体１２により同心に囲われており、反応管１５
の内径及び支持棒１０による影響を受けず、極め
て安定した膜及び分布が得られる。

第６図は上記一実施例の処理ボートにより成長
させたウエーハ試料４を示し、試料内での膜厚分
布ｍは極めて良好である。

第７図及び第８図はこの考案の他の実施例によ
る処理ボートの正面図及び側面図である。保持さ
れたウエーハ試料４の外周から所定の距離をお
いて同心に囲う円筒体１６は上側部１７と底部１
９とに２分割され、着脱を容易にしている。上側
部１６及び底部１８の両端にはそれぞれフランジ
１８及び２０が設けられ、反応管１５の内径との
すき間をふさいでいる。これにより、ウエーハ試
料４に成長されるシリコン酸化膜及びポリシリコ
ン膜などの成長速度を増大させることができる。

以上のように、この考案によれば、両側１対の
保持部材に設けられた多数のスリツトにはめ込み
保持されたウエーハ試料の外周を所定の距離をお
いて同心に囲う円筒体を設け、この円筒体は上側
部と底部とに分割し、両側１対の支持棒に着脱可
能に支持してあるので、ウエーハ試料が支持棒や
反応管による影響を受けず、極めて安定した膜が
得られる。また、ウエーハ試料の直径が異なつて
も、一種類の反応管を流用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は従来のウエーハ試料処理ボ
ートの正面図及び側面図、第３図は第１図の処理
ボートに保持され成長されたウエーハ試料の膜厚
分布を示す正面図、第４図及び第５図はこの考案
の一実施例によるウエーハ試料処理ボートの正面
図及び側面図、第６図は第４図の処理ボートに保
持され成長されたウエーハ試料の膜厚分布を示す
正面図、第７図及び第８図はこの考案の他の実施
例によるウエーハ試料処理ボートの正面図及び側
面図である。 ２……連結棒、３……保持部材、３ａ……スリ
ツト、４……ウエーハ試料、１０……支持棒、１
２……円筒体、１３……上側部、１４……底部、
１５……反応管、１６……円筒体、１７……上側
部、１８……フランジ、１９……底部、２０……
フランジ、なお、図中同一符号は同一又は相当部
分を示す。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 双方が両側に平行に水平方向に配置され、各
   両端部で１対の連結棒により固着結合された１
   対の支持棒と、これらの支持棒にそれぞれ上向
   きに固着結合され、上部に水平方向に対し多数
   のスリツトが配設された両側１対の保持部材
   と、この双方の保持部材にまたがり上記各スリ
   ツトにはめ込み保持されたウエーハ試料の外周
   を所定の距離をおいて囲つており、着脱可能に
   上側部と底部とに２分割され上記１対の支持棒
   に支持されて形成された円筒体とを備えたウエ
   ーハ試料処理ボート。 (2) 円筒体の上側部と底部の各両端部に外周方向
   のフランジがそれぞれ設けられ、反応管の内径
   とのすき間をふさぐようにしたことを特徴とす
   る実用新案登録請求の範囲第１項記載のウエー
   ハ試料処理ボート。