JPS61221191A - クロロシラン化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野１ 本発明は、新規かつ有用なエチリデンノルボルニル基を
含有するクロロシラン化合物に関するものである。

［発明の技術的背景］ シランカップリング剤や、各種シラン化合物またはシロ
キサン化合物の中間体として用いられる炭素官能性クロ
ロシランとしては種々のものがあるが、縮合環式で不飽
和基を持ったクロロシランはいまだに知られていない。

［発明の目的１ そこで、本発明者らは、縮合環式で不飽和基を持ったり
０ロシランについて鋭意研究を行い、本発明を成すに至
った。

［発明の構成Ｊ すなわち、本発明は一般式 ％式％ （式中、Ｒ１は炭素数１〜８の置換または非置換の１価
の炭化水素基、 発 Ｃト１−Ｃト１３　　　　、 ａは１〜３の整数、ｂは０〜２の整数、ただしａ＋ｂは
１〜３の整数を示す） で表わされるエチリデンノルボルニル基含有クロロシラ
ン化合物である。

上記一般式に−おいて、Ｒ１の炭素数１〜８の置換また
は非置換の１価の炭化水素基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基：ビニル基
、アリル基などのアルケニル基：フェニル基、トリル基
などのアリール基；ベンジル基などのアラルキル基およ
びこれらの１価炭化水素基の炭素原子に結合した水素原
子が部分的に３．３，３．−トリフルオロプロピル基、
シアノ基、ハロゲン原子などで置換された基が例示され
る。

本発明のエチリデンノルボルニル基含有り０口シラン化
合物の代表的なものを以下に例示する。

ただし、Ｙは前述のとおりである。また、簡単のために
次の略号を用いる。

Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｈニアｚニル基 ＹＳｉＣｌｓ。

Ｙ　（Ｍｅ）Ｓ　ｉ　Ｃｆ１２゜ Ｙ　（Ｍｅ）　２　Ｓ　ｉ　Ｃｆｌ。

Ｙ（Ｍｅ）（Ｐｈ）ＳｉＣＩ ＹｚＳｉＣｌｚ。

Ｙ（Ｐｈ）ＳｉＣぶ２ このようなエチリデンノルボルニル基含有クロロシラン
化合物は、ケイ素原子に結合した水素原子を有するクロ
ロシランと５−エチリデンビシクロ（２，２，１）ヘプ
ト−２−エンとを出発原料として合成することができる
。反応はクロロシランの５ｔ−Ｈ結合のモル数に対して
、５−エチリデンビシクロ（２，２，１）ヘプト−２−
エンを、　好ましくは等モル以上使用し、触媒として塩
化白金酸などの白金化合物を用いて付加反応させること
により、目的物が得られる。

［発明の効果］ 本発明のエチリデンノルボルニル基含有クロロシラン化
合物は、シランカップリング剤として、またはアルコキ
シシランまたはシロキサン等の中閤体として、またはゴ
ム用配合充填材の表面処理剤として使用することができ
る。

［実施例］ 以下、実施例により本発明を説明する。なお、実施例中
、部はすべて重量部を示す。

実施例１ 滴下〇−トを付したフラスコに５−エチリデンビシクロ
（２，２，１）ヘプト−２−エン１００部と触媒として
塩化白金１０．０２部を仕込み、３０℃まで加熱した。

次に滴下ロートからメチルジクロロシラン９０部をゆっ
くり滴下し、系内を環流状態にし反応が進むにつれて液
温を徐々に上げ、最終的に８０℃に保ち、２０時間付加
反応を行なった。

７０℃で減圧（８ｎトＩＧ＞ストリップして未反応物を
除去した後、蒸溜して次式で表わされる化合物（ａ）お
よび（ｂ）を１：１．１の混合物として１５０部（収率
７９％）Ｉｔた。

Ｍｅ Ｙ−８ｉ　−ＣＪｌ Ｃぶ および ｅ Ｙ−８ｔ　−Ｃぶ Ｃぶ ＊ Ｃト１−ＣＨｓ ・沸点　　　　　　９８℃／８１ＩＩＨｇ・屈折率（ｎ
ｆ＞　　１．４９９ ・比重（２５℃）　　　１．１０７ ・分子１　　　　　２３５ （ガスマススペクトル分析） ・元素分析 実測値　　　　計測値 （Ｃｏｏ　ＨＩｅ　ＣＡ　２　Ｓ　ｉとして）Ｃ５１，
５５１，１ １−１７，２８，９ ＣＪ２　２９，８　　　　３０．１ Ｓｉ　　１１．５　　　　１１．９ ・赤外線吸収スペクトル　第１図 実施例２゜ 滴下ロートを付したフラスコに５−エチリデンビシクロ
（２，２，１）ヘプト−２−エン１００部と触媒として
塩化白金酸０．０２部を仕込み、３０℃まで加熱した。

次に滴下ロートからジメチルクロロシラン７５部をゆっ
くり滴下し、系内を環流状態にし反応が進むにつれて液
温を徐々に上げ、最終的に８０℃に保ち、２０時間付加
反応を行なった・ ７０℃で減圧（１０ｖＨＱ）ストリップして未反応物を
除去した後、蒸溜して次式で表わされる化合物（Ｃ）お
よび（ｄ）を１：１．１の混合物として１５０部（収率
８６％）得た。

、　　　Ｍｅ Ｙ−８ｉ　−Ｃβ ■ Ｍｅ および Ｍｅ Ｙ−８ｉ−Ｃぶ 暑 Ｍｅ ゞ；；ニー Ｈ−ＣＨ３ ・　沸点　　　　　　　　　　　　９７℃／１０冒ｓＨ
。

・屈折率（ｎＫ’）　　Ｉ’、　４９１・比重（２５℃
＞　　　０．９９２ ・分子量　　　　　２１４．５ （ガスマススペクトル分析） ・元素分析 実測値　　　　計測値 （Ｃｚ、ＨｔｑＯｌＳ　ｉとして） Ｃ６１，２６１，５ Ｈ９，２８，９ Ｃ１１６，３１６，５ Ｓｔ　　１３，３　　　　１３．１ ・赤外線吸収スペクトル　第２図 実施例３゜ 滴下ロートを付したフラスコに５−エチリデンビシクロ
（２，２，１）ヘプト−２−エン１００部と触媒として
塩化白金酸０．０２部を仕込み、８０℃まで加熱した。

次に滴下ロートから７工ニルジクロロシラン１４０部を
ゆっくり滴下し、系内を環流状態にし反応が進むにつれ
て液温を徐々に上げ、最終的に１４０℃に保ち、２０時
間付加反応を行なった。

１２０℃で減圧（８１１ト１ｇ）ストリップして未反応
物を除去した後、蒸溜して次式で表わされる化合物（ｅ
）および（１）を１：１．１の見合物として２００部（
収率８３％）得た。

ｓＨｓ Ｙ−８ｉ　−ＣＪ Ｃぶ Ｈ−ＣＨ２ および Ｃｓ　Ｈｓ Ｙ−８ｉ　−Ｃ１ ０ぶ ・沸点　　　　　　１６８℃／　６　＋ｕｅＨａ２ぢ ・屈折率（ｎｏ＞　　１．５５２ ・比重（２５℃＞　　　１．１５５ ・分子量　　　　　２９７ （ガスマススペクトル分析） ・元素分析 実測値　　　　計測値 （Ｃ＋５ＨｔｔＣＪ２Ｓｉとして） ０　　６Ｇ、４　　　　６０．６ ）−１６，４６，Ｉ Ｃ１２３，８２３，９ ３ｉ　　　９．４　　　　９．４ ・赤外線吸収スペクトル　第３図 実施例４゜ 滴下ロートを付したフラスコに５−エチリデンビシクロ
（２，２，１）ヘプト−２−エン１００部と触媒として
塩化白金酸０．０２部を仕込み、３０℃まで加熱した。

次に滴下ロートからトリクロロシラン１０５部をゆっく
り滴下し、系内を環流状態にし反応が進むにつれて液温
を徐々に上げ、最終的に８０℃に保ち、５０時間付加反
応を行なった。

７０℃で減圧（８１１ＨＱ）ストリップして未反応物を
除去した後、蒸溜して次式で表わされる化合物（Ｑ）お
よび（ｈ）を１：１．１の混合物として１００部（収率
４９％）得た。

Ｃぶ 雪 Ｙ−８ｉ　−Ｃぶ ｉ および Ｃ第 Ｙ−８ｉ−Ｃぶ 嘗 Ｊ ％ ＣＨ−ＣＨｓ ・沸点　　　　　　１４７℃／１０−■Ｈａ・屈折率（
ｎｏ）　　１．５０５ ・比重（２５℃）　　　１．２６６ ・分子量　　　　　２５５．５ （ガスマススペクトル分析） ・元素分析 実測値　　　　計測値 （ＣｓＨｌａＣぶｓｓｉとして） Ｃ４２，５４２，３ Ｈ４，７５，Ｉ Ｃぶ　４１．８　　　　４１．６ Ｓｉ　　１１．０　　　　１１．０

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図および第３図はそれぞれ実施例１、実施
例２および実施例３で得られた混合物の赤外線吸収スペ
クトルを示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 Ｙａ（Ｒ＾１）ｂＳｉ（Ｃｌ）＿４＿−＿ａ＿−＿ｂ（
   式中、Ｒ＾１は炭素数１〜８の置換または非置換の１価
   の炭化水素基、 Ｙは▲数式、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼、 ａは１〜３の整数、ｂは０〜２の整数、ただしａ＋ｂは
   １〜３の整数を示す） で表わされるエチリデンノルボルニル基含有クロロシラ
   ン化合物。