JPS61221390A - 被覆型二酸化鉛電極 - Google Patents
被覆型二酸化鉛電極Info
- Publication number
- JPS61221390A JPS61221390A JP60060982A JP6098285A JPS61221390A JP S61221390 A JPS61221390 A JP S61221390A JP 60060982 A JP60060982 A JP 60060982A JP 6098285 A JP6098285 A JP 6098285A JP S61221390 A JPS61221390 A JP S61221390A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead dioxide
- plate
- electrode
- blanked
- punched
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical compound O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 72
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 abstract description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 14
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- -1 platinum group metal compound Chemical class 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N lead nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Pb]O[N+]([O-])=O RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- MFEVGQHCNVXMER-UHFFFAOYSA-L 1,3,2$l^{2}-dioxaplumbetan-4-one Chemical compound [Pb+2].[O-]C([O-])=O MFEVGQHCNVXMER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical class [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000003 Lead carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940046892 lead acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021514 lead(II) hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N periodic acid Chemical class OI(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は塩素酸塩、過塩素酸塩、過沃素酸塩、過硫酸塩
などの電解製造用の陽極として、また、金属の電解採取
、廃液の電解処理、電気メツキ用、特にクロムメッキに
おけるケイフッ化浴用陽極として用いられる被覆型二酸
化鉛電極に関する。
などの電解製造用の陽極として、また、金属の電解採取
、廃液の電解処理、電気メツキ用、特にクロムメッキに
おけるケイフッ化浴用陽極として用いられる被覆型二酸
化鉛電極に関する。
工業電解に用いられる電極としては、その性能、耐久性
と共に電極形態および機械的強度、加工性、経済性など
が十分満足できるものでなくてはならない。近年、チタ
ンなどの基体上に白金族金属化合物を被覆した金属電極
が出現し、そのすぐれた性能と同時に強度、寸法安定性
のよいという利点の故に、食塩電解工業その他に著しい
進歩をもたらした。
と共に電極形態および機械的強度、加工性、経済性など
が十分満足できるものでなくてはならない。近年、チタ
ンなどの基体上に白金族金属化合物を被覆した金属電極
が出現し、そのすぐれた性能と同時に強度、寸法安定性
のよいという利点の故に、食塩電解工業その他に著しい
進歩をもたらした。
一方、従来から認められてきた二酸化鉛電極は白金につ
ぐ高酸素過電圧をもち、かつ特異な電極触媒能を有する
すぐれた安価な電極である。しかし、本格的な実用化に
至らないのは、この電極の機械的強さと加工性の不足、
寸法安定性の欠如などが原因となっている。
ぐ高酸素過電圧をもち、かつ特異な電極触媒能を有する
すぐれた安価な電極である。しかし、本格的な実用化に
至らないのは、この電極の機械的強さと加工性の不足、
寸法安定性の欠如などが原因となっている。
板状の二酸化鉛電極の製法としては、従来、硝酸鉛浴な
どから凹面陽極電着し、抜き取る方法によっているが、
内部歪が存在するため脆弱で大型化しに<<、形状も制
限された。そのため、黒鉛板、チタン板に直接二酸化鉛
を電着する試みがなされたが、クラックの発生、密着不
良などにより剥離、脱落をおこし成功していない。最近
では、チタン金網を芯材として電着する方法がある。し
かし、密着性は向上するが強度的に弱く曲がり易いので
クラックを生じ易く、電流もあまり流せず大型化は無理
であった。
どから凹面陽極電着し、抜き取る方法によっているが、
内部歪が存在するため脆弱で大型化しに<<、形状も制
限された。そのため、黒鉛板、チタン板に直接二酸化鉛
を電着する試みがなされたが、クラックの発生、密着不
良などにより剥離、脱落をおこし成功していない。最近
では、チタン金網を芯材として電着する方法がある。し
かし、密着性は向上するが強度的に弱く曲がり易いので
クラックを生じ易く、電流もあまり流せず大型化は無理
であった。
これらの欠点を改良すべく基体のチタン板上にチタンの
エキスノやンドメタル(vf公昭58−30957)や
パンチングメタル、金網(特公昭58−31396)を
押え板と共に溶接し、中間層を介して二酸化鉛を電着す
る方法が試みられた。この方法により密着性、機械的強
度、寸法安定性は著しく向上した。
エキスノやンドメタル(vf公昭58−30957)や
パンチングメタル、金網(特公昭58−31396)を
押え板と共に溶接し、中間層を介して二酸化鉛を電着す
る方法が試みられた。この方法により密着性、機械的強
度、寸法安定性は著しく向上した。
しかし、押え板や電極の周縁部分はチタンが露出してい
るため、チタン基体の耐食性がない電解液、たとえばク
ロムメッキのケイフッ化浴のような系では押え板や露出
部分が腐食され剥離、脱落が起きることがあった。また
、電極の製造工程が繁雑になって工数を要し、高価な電
極となる欠点があった・ 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明者らは、二酸化鉛電極の密着性、機械的強度、寸
法安定性を良好に保持しながら、かつ、基体金属が腐食
される電解液であっても使用でき、ある程度の大型化も
可能で製造も容易な電極を得るべく、種々検討を加えた
結果、ついにこれを完成したものである。
るため、チタン基体の耐食性がない電解液、たとえばク
ロムメッキのケイフッ化浴のような系では押え板や露出
部分が腐食され剥離、脱落が起きることがあった。また
、電極の製造工程が繁雑になって工数を要し、高価な電
極となる欠点があった・ 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明者らは、二酸化鉛電極の密着性、機械的強度、寸
法安定性を良好に保持しながら、かつ、基体金属が腐食
される電解液であっても使用でき、ある程度の大型化も
可能で製造も容易な電極を得るべく、種々検討を加えた
結果、ついにこれを完成したものである。
すなわち本発明は、打抜部最大径および隣接し丸打抜部
の最短間隔がそれぞれ1.5〜12mと1.5〜7.
Owmの範囲を有し、かつ板厚が1.0〜7.0喘の範
囲から成る打抜板と、前記打抜板上に被覆された中間層
と、前記中間層上に電着された二酸化鉛とから成る被覆
型二酸化鉛電極である。
の最短間隔がそれぞれ1.5〜12mと1.5〜7.
Owmの範囲を有し、かつ板厚が1.0〜7.0喘の範
囲から成る打抜板と、前記打抜板上に被覆された中間層
と、前記中間層上に電着された二酸化鉛とから成る被覆
型二酸化鉛電極である。
つぎに本発明を図面に基いて説明する。第1図および第
3図は本発明の電極の断面図であり、打抜板1、耐酸化
性で導電性の中間層2、二酸化鉛層3から成っている。
3図は本発明の電極の断面図であり、打抜板1、耐酸化
性で導電性の中間層2、二酸化鉛層3から成っている。
打抜板1をトリクレンなどの溶剤、またはアルカ1.I
Kより脱脂し、ついでフッ酸、あるいは熱シュウ酸に
よシエッチングし表面を粗面化したのち中間層2を介し
て二酸化鉛層3を陽極電着くよシ全面に形成させる。本
発明に使用する打抜板1の材質としては、鉄、鉄合金、
ニッケル、クロム、アルミニウム、チタン、タンタル、
ゾルコニウム、ニオブまたはこれらを主体とした合金で
あり、大きさは縦横1.000〜1.500■くらいま
で可能であシ、平板状のほか円筒状も適用できる。また
打抜部4の形状は丸型が一般的であるが、楕円型、四角
型、十字型、これらの混合型など多様であり任意の形状
のもので良い。
Kより脱脂し、ついでフッ酸、あるいは熱シュウ酸に
よシエッチングし表面を粗面化したのち中間層2を介し
て二酸化鉛層3を陽極電着くよシ全面に形成させる。本
発明に使用する打抜板1の材質としては、鉄、鉄合金、
ニッケル、クロム、アルミニウム、チタン、タンタル、
ゾルコニウム、ニオブまたはこれらを主体とした合金で
あり、大きさは縦横1.000〜1.500■くらいま
で可能であシ、平板状のほか円筒状も適用できる。また
打抜部4の形状は丸型が一般的であるが、楕円型、四角
型、十字型、これらの混合型など多様であり任意の形状
のもので良い。
次に打抜部4の形状として一般的な丸型を例に、第2図
によυ本発明の詳細な説明する。隣接した打抜部4の最
短間隔Llは1.5〜7.0■の範囲が好適である。1
.5mよシ小さいと板の強度が不足し、電極を取扱う際
々どにたわんで電着した二酸化鉛層にクラックが発生し
剥離する。また、7.0箇よシ大きいと平坦部が広くな
りすぎて二酸化鉛層の密着性が低下する。打抜部最大径
L2は1.5〜12露の範囲が良<、1.5■よシ小さ
いと二酸化鉛の電着の際に基体表面上に生ずる酸素気泡
が打抜部4に溜るためピンホールを含んだ二酸化鉛層が
形成される。このような電極をクロムメッキのケイフッ
化浴中で陽極として使用すると打抜部4の基体が腐食し
、二酸化鉛層が脱落する。また、12mより大きいと対
極の電流分布上好ましくない。板厚についても1.0鵡
〜7.Ofiの範囲が良く、1.0露より薄いと強度的
に弱く、大電流通電を行なう場合の発熱の問題が残り、
7+IIIIより厚いと電着の際に酸素気泡が取りきれ
ず、二酸化鉛層にピンホールが生じる。
によυ本発明の詳細な説明する。隣接した打抜部4の最
短間隔Llは1.5〜7.0■の範囲が好適である。1
.5mよシ小さいと板の強度が不足し、電極を取扱う際
々どにたわんで電着した二酸化鉛層にクラックが発生し
剥離する。また、7.0箇よシ大きいと平坦部が広くな
りすぎて二酸化鉛層の密着性が低下する。打抜部最大径
L2は1.5〜12露の範囲が良<、1.5■よシ小さ
いと二酸化鉛の電着の際に基体表面上に生ずる酸素気泡
が打抜部4に溜るためピンホールを含んだ二酸化鉛層が
形成される。このような電極をクロムメッキのケイフッ
化浴中で陽極として使用すると打抜部4の基体が腐食し
、二酸化鉛層が脱落する。また、12mより大きいと対
極の電流分布上好ましくない。板厚についても1.0鵡
〜7.Ofiの範囲が良く、1.0露より薄いと強度的
に弱く、大電流通電を行なう場合の発熱の問題が残り、
7+IIIIより厚いと電着の際に酸素気泡が取りきれ
ず、二酸化鉛層にピンホールが生じる。
中間層2は打抜板1の表面の酸化防止のために介在させ
るが、耐酸化性、導電性の白金族金属、それらの合金ま
たはそれらの酸化物、銀、二酸化マンガン、酸化コバル
ト、酸化モリブデンの少な゛くとも1種より成る。用い
る白金族金属としては白金、イリジウム、ロジウム、パ
ラジウム、ルテニウムなどで、電気メッキあるいはこれ
らの該尚金属の塩化物をアルコールに溶かし、打抜板上
に塗布したあと熱分解法によって被覆が調製される。
るが、耐酸化性、導電性の白金族金属、それらの合金ま
たはそれらの酸化物、銀、二酸化マンガン、酸化コバル
ト、酸化モリブデンの少な゛くとも1種より成る。用い
る白金族金属としては白金、イリジウム、ロジウム、パ
ラジウム、ルテニウムなどで、電気メッキあるいはこれ
らの該尚金属の塩化物をアルコールに溶かし、打抜板上
に塗布したあと熱分解法によって被覆が調製される。
銀、二酸化マンガン、酸化コバルト、酸化モリブデンは
これらの金属の硝酸塩を水、またはアルコールに溶かし
て同様に被覆を形成させる。打抜板として鉄、ステンレ
ス鋼などを用いる場合は、熱分解法によると白金族金属
の塩化物含有塗布液を熱分解する過程で塩酸が生成する
ため基体が腐食し、中間層の密着性が不足して二酸化鉛
の電着が良好でなくなるので、硫酸塩、硝酸塩または有
機金属塩を含有する塗布液によるか、電気メッキによる
被覆が望ましい。また、中間層の厚みは0.5〜5μ程
度で十分である。
これらの金属の硝酸塩を水、またはアルコールに溶かし
て同様に被覆を形成させる。打抜板として鉄、ステンレ
ス鋼などを用いる場合は、熱分解法によると白金族金属
の塩化物含有塗布液を熱分解する過程で塩酸が生成する
ため基体が腐食し、中間層の密着性が不足して二酸化鉛
の電着が良好でなくなるので、硫酸塩、硝酸塩または有
機金属塩を含有する塗布液によるか、電気メッキによる
被覆が望ましい。また、中間層の厚みは0.5〜5μ程
度で十分である。
本発明の二酸化鉛層は陽極電着により打抜板の表面に施
された中間層上に全面被覆されるが、電着液は鉛塩およ
び銅塩とから成り、鉛塩としては硝酸鉛、スルファミン
酸鉛、酢酸鉛などを使い、銅塩としてはおもに硝酸銅を
用いる。電着液中の鉛および銅としての濃度は、それぞ
れ100〜210g/l、4〜209/lであり、液温
度は60〜80℃、−は3.5〜4.5に保たれる。陽
極電流密度は1〜5A/dmで陰極としてはステンレス
鋼を用いて電解を行なう。この間液性をpH3,5〜4
.5に保つために、−酸化鉛、炭酸鉛、水酸化鉛などを
加えて調節する。これらの条件をはずれると島状電着や
こぶ状電着を生じやすくなり内部歪も増大し、被覆にク
ラックや電着物の剥離を起こしやすくなり好ましくない
。
された中間層上に全面被覆されるが、電着液は鉛塩およ
び銅塩とから成り、鉛塩としては硝酸鉛、スルファミン
酸鉛、酢酸鉛などを使い、銅塩としてはおもに硝酸銅を
用いる。電着液中の鉛および銅としての濃度は、それぞ
れ100〜210g/l、4〜209/lであり、液温
度は60〜80℃、−は3.5〜4.5に保たれる。陽
極電流密度は1〜5A/dmで陰極としてはステンレス
鋼を用いて電解を行なう。この間液性をpH3,5〜4
.5に保つために、−酸化鉛、炭酸鉛、水酸化鉛などを
加えて調節する。これらの条件をはずれると島状電着や
こぶ状電着を生じやすくなり内部歪も増大し、被覆にク
ラックや電着物の剥離を起こしやすくなり好ましくない
。
二酸化鉛の被覆の厚みは、必要に応じて0.3〜8聾と
するが、これは電着時間の長短により調整される。第3
図は二酸化鉛の被覆を打抜部4を埋めつくさないように
して製作した電極の一例である。このようにして電着は
終了するが、クラ、りやピンホールなどはできず、基体
表面に応じて均一な被覆が得られると共に、構造上、打
抜部を被覆した二酸化鉛ががルトのような役割をはだし
、かつ、内部歪を逃がすことにより良好な密着性が得ら
れる。
するが、これは電着時間の長短により調整される。第3
図は二酸化鉛の被覆を打抜部4を埋めつくさないように
して製作した電極の一例である。このようにして電着は
終了するが、クラ、りやピンホールなどはできず、基体
表面に応じて均一な被覆が得られると共に、構造上、打
抜部を被覆した二酸化鉛ががルトのような役割をはだし
、かつ、内部歪を逃がすことにより良好な密着性が得ら
れる。
つぎに本発明の態様を実施例で示すが、その主旨はこれ
らの例によって何ら制約されるものではない。
らの例によって何ら制約されるものではない。
実施例1
縦12011II11横50m、厚さ3+a+のチタン
板に穴径3m、打抜部間隔3mの丸型の打抜きを並列状
に行ない電極基体を作製した。この電極基体をトリクレ
ン洗浄によシ脱脂を行なったのち5チふっ酸溶液に浸漬
して表面処理を施した。次に塩化白金3重量部、塩化イ
リジウム1重量部、イソプロピルアルコール36重量部
から成る塗布液を塗布し、乾燥したのち500℃で加熱
処理し、0.7μの中間層を形成させた。この電極基体
を陽極とし、ステンレス鋼板を陰極として硝酸鉛と硝酸
鋼とから成る電着液中で30時間陽極電着し、約3.0
m厚の二酸化鉛の被覆を得た。このときの鉛および銅イ
オンの濃度は200 fi/lおよび6.5g/lでお
υ、陽極電流密度は2.5 A/dm2、平均の液温度
は65℃、液性はpH4,2前後に保った。二酸化鉛被
覆は全面にほぼ均一に電着され、表面にクラックはなく
平坦度もすぐれていた。
板に穴径3m、打抜部間隔3mの丸型の打抜きを並列状
に行ない電極基体を作製した。この電極基体をトリクレ
ン洗浄によシ脱脂を行なったのち5チふっ酸溶液に浸漬
して表面処理を施した。次に塩化白金3重量部、塩化イ
リジウム1重量部、イソプロピルアルコール36重量部
から成る塗布液を塗布し、乾燥したのち500℃で加熱
処理し、0.7μの中間層を形成させた。この電極基体
を陽極とし、ステンレス鋼板を陰極として硝酸鉛と硝酸
鋼とから成る電着液中で30時間陽極電着し、約3.0
m厚の二酸化鉛の被覆を得た。このときの鉛および銅イ
オンの濃度は200 fi/lおよび6.5g/lでお
υ、陽極電流密度は2.5 A/dm2、平均の液温度
は65℃、液性はpH4,2前後に保った。二酸化鉛被
覆は全面にほぼ均一に電着され、表面にクラックはなく
平坦度もすぐれていた。
実施例2
縦120燗、横50+w、厚さ3.2Wの鉄板に穴径5
m、打抜部間隔3fiの丸型の打抜きを千鳥(60度)
に行ない電極基体を製作した。この電極基体をトリクレ
ン洗浄によシ脱脂を行ない工業用35%塩酸中に1時間
浸漬して表面をエツチングした。次に0.5Mの硝酸銀
水溶液を塗布し、乾燥したのち450℃で30分間のく
り返し焼成を行ない2μの中間層を形成させ実施例1と
同様に12時間電着を行なりた。得られた二酸化鉛電極
の被覆厚みは1.0mで、打抜き部、平面部にtミぼ均
一に電着された。
m、打抜部間隔3fiの丸型の打抜きを千鳥(60度)
に行ない電極基体を製作した。この電極基体をトリクレ
ン洗浄によシ脱脂を行ない工業用35%塩酸中に1時間
浸漬して表面をエツチングした。次に0.5Mの硝酸銀
水溶液を塗布し、乾燥したのち450℃で30分間のく
り返し焼成を行ない2μの中間層を形成させ実施例1と
同様に12時間電着を行なりた。得られた二酸化鉛電極
の被覆厚みは1.0mで、打抜き部、平面部にtミぼ均
一に電着された。
比較例1
本発明の電極の効果を知るため、縦120m。
横50m厚さ3flのチタン板を基体とし、実施例1と
同じ条件で前処理、中間層被覆、そして二酸化鉛被覆を
行ない、被覆表面にガムテープを接着させ、ロールで加
圧したのちテープを引きはがし、密着性を観察した。結
果を第1表に示した。
同じ条件で前処理、中間層被覆、そして二酸化鉛被覆を
行ない、被覆表面にガムテープを接着させ、ロールで加
圧したのちテープを引きはがし、密着性を観察した。結
果を第1表に示した。
第 1 表
実施例3
実施例1で製作した電極を陽極とし、ステンレス鋼板を
陰極として、つぎに示した電解条件で過塩素酸塩の電解
製造を行なった。
陰極として、つぎに示した電解条件で過塩素酸塩の電解
製造を行なった。
電解条件
陽 極・・・・・・実施例1で製作した電極陰 極
・・・・・・ステンレス鋼板(50x130x3讃 2
枚) 電解液−−−−−−NNaC403soo/l、 Na
F 2ji/l極間距離・・・・・・ 5m 従来の二酸化鉛電極においては、15〜30闘の極間距
離が必要であったが、本電極では5電で摺電圧は02〜
0.5v低減し、平均電流効率88チにおいて所要電力
は5〜10チ節約された。本電極は6ケ月以上の長期に
わたり、安定した操業を続け、この間形状の変化、クラ
ックの発生、剥離など見られなかった。
・・・・・・ステンレス鋼板(50x130x3讃 2
枚) 電解液−−−−−−NNaC403soo/l、 Na
F 2ji/l極間距離・・・・・・ 5m 従来の二酸化鉛電極においては、15〜30闘の極間距
離が必要であったが、本電極では5電で摺電圧は02〜
0.5v低減し、平均電流効率88チにおいて所要電力
は5〜10チ節約された。本電極は6ケ月以上の長期に
わたり、安定した操業を続け、この間形状の変化、クラ
ックの発生、剥離など見られなかった。
実施例4
実施例1と同じ方法で製作した電極を陽極とし、ステン
レス鋼板を陰極として、下記条件で無電解メッキ廃液の
COD低減電解処理を行なった。
レス鋼板を陰極として、下記条件で無電解メッキ廃液の
COD低減電解処理を行なった。
電解条件
陽 極・・・・・・本発明の電極
陰 極・・・・・・ステンレス鋼板
電解液・・・・・・無電解メッキ廃液
COD −−−48,000ppm (スタート)電
流密度・・・・・・10 A / dm2温 度・
・・・・・ 60℃ 電解開始時に48,000 ppmあったCODは24
時間電解後約800 ppmまで低減することができた
。
流密度・・・・・・10 A / dm2温 度・
・・・・・ 60℃ 電解開始時に48,000 ppmあったCODは24
時間電解後約800 ppmまで低減することができた
。
同じ条件でパッチ電解処理を10回行なったが、安定し
た結果が得られた。電解後の電極は剥離もなく、形状の
変化も認められなかった。
た結果が得られた。電解後の電極は剥離もなく、形状の
変化も認められなかった。
実施例5
実施例2で製作した電極を陽極として軟鋼上にクロムめ
っきを行なった。めっき浴組成は下記のとおりであり、
電流密度50A/dm2、槽温度60℃でめっきを行な
った。また比較のため、チタン板上にエキスバンド板を
スポット溶接し、その周縁部に押え板をスポット溶接し
補強したのち、押え板を除いた部分のみ中間層を介して
二酸化鉛を被覆した電極(比較電極と略す)に関しても
同じ条件でめっきを行なった。
っきを行なった。めっき浴組成は下記のとおりであり、
電流密度50A/dm2、槽温度60℃でめっきを行な
った。また比較のため、チタン板上にエキスバンド板を
スポット溶接し、その周縁部に押え板をスポット溶接し
補強したのち、押え板を除いた部分のみ中間層を介して
二酸化鉛を被覆した電極(比較電極と略す)に関しても
同じ条件でめっきを行なった。
めっき液組成
無水クロム酸 250 g/lケイふり
化ナトリウム 10 g/l硫 酸
1 、!iI/1
4ケ月の電解中、本発明の電極は電圧上昇もなくまた形
状の変化、剥離もなく、表面状態も良好であり二酸化鉛
の特徴を十分発揮し、安定した性能を示した。しかし比
較電極は、1ケ月経過後には露出している押え板や基板
のチタンが腐食されてしまい、二酸化鉛の溶出は微少で
あるのにもがかわらず、電解不能となった。
化ナトリウム 10 g/l硫 酸
1 、!iI/1
4ケ月の電解中、本発明の電極は電圧上昇もなくまた形
状の変化、剥離もなく、表面状態も良好であり二酸化鉛
の特徴を十分発揮し、安定した性能を示した。しかし比
較電極は、1ケ月経過後には露出している押え板や基板
のチタンが腐食されてしまい、二酸化鉛の溶出は微少で
あるのにもがかわらず、電解不能となった。
本発明の被覆型二酸化鉛電極は強度のある打抜板を基体
とし、中間層を介して二酸化鉛を全面に被覆しており、
良好な密着性、強度、寸法安定性と通電容量の向上がは
かられるとともに、製造上、溶接工程が不要となった。
とし、中間層を介して二酸化鉛を全面に被覆しており、
良好な密着性、強度、寸法安定性と通電容量の向上がは
かられるとともに、製造上、溶接工程が不要となった。
また、腐食性電解液にも十分な耐久性が示された。
第1図、および第3図は本発明の電極の断面図、第2図
は打抜部の端部間隔を示す図である。 1・・・打抜板、2・・・中間層、3・・・二酸化鉛層
、4・・・打抜部、L!・・・隣接した打抜部の最短間
隔、C2・・・打抜部最大径。 特許出願人 旧本カーリット株式会社 第1(口 第2国 莞3)圓
は打抜部の端部間隔を示す図である。 1・・・打抜板、2・・・中間層、3・・・二酸化鉛層
、4・・・打抜部、L!・・・隣接した打抜部の最短間
隔、C2・・・打抜部最大径。 特許出願人 旧本カーリット株式会社 第1(口 第2国 莞3)圓
Claims (1)
- 1 打抜部最大径および隣接した打抜部の最短間隔がそ
れぞれ1.5〜12mmと1.5〜7.0mmの範囲を
有し、かつ板厚が1.0〜7.0mmの範囲から成る打
抜板と、前記打抜板上に被覆された中間層と、前記中間
層上に電着された二酸化鉛とから成ることを特徴とする
被覆型二酸化鉛電極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60060982A JPS61221390A (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | 被覆型二酸化鉛電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60060982A JPS61221390A (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | 被覆型二酸化鉛電極 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61221390A true JPS61221390A (ja) | 1986-10-01 |
| JPS6331559B2 JPS6331559B2 (ja) | 1988-06-24 |
Family
ID=13158142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60060982A Granted JPS61221390A (ja) | 1985-03-27 | 1985-03-27 | 被覆型二酸化鉛電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61221390A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011256431A (ja) * | 2010-06-09 | 2011-12-22 | Ihi Corp | 過塩素酸塩の製造装置 |
-
1985
- 1985-03-27 JP JP60060982A patent/JPS61221390A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011256431A (ja) * | 2010-06-09 | 2011-12-22 | Ihi Corp | 過塩素酸塩の製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6331559B2 (ja) | 1988-06-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6877650B2 (ja) | 電極触媒の製造方法 | |
| JPS5830957B2 (ja) | 二酸化鉛被覆電極 | |
| US4203810A (en) | Electrolytic process employing electrodes having coatings which comprise platinum | |
| JP4771130B2 (ja) | 酸素発生用電極 | |
| US3503799A (en) | Method of preparing an electrode coated with a platinum metal | |
| JPS61221390A (ja) | 被覆型二酸化鉛電極 | |
| US3763002A (en) | Method of forming protective coatings by electrolysis | |
| JPS63137193A (ja) | 電子部品用ステンレス接点材料およびその製造方法 | |
| JPH01275797A (ja) | クロムメッキ用二酸化鉛電極 | |
| JPS5831396B2 (ja) | 二酸化鉛被覆陽極 | |
| JP2002038291A (ja) | 金属箔製造用陽極 | |
| US5391280A (en) | Electrolytic electrode and method of production thereof | |
| JPH0885894A (ja) | 電 極 | |
| JP3537255B2 (ja) | 電解用電極 | |
| JPH02294494A (ja) | 酸素発生用陽極 | |
| US4177129A (en) | Plated metallic cathode | |
| JPH09279381A (ja) | 電解用電極 | |
| JPS6058312B2 (ja) | 電解用二酸化鉛被覆電極 | |
| JPS6045710B2 (ja) | 電解槽 | |
| JPH01100291A (ja) | クロムメッキ方法 | |
| JP2938164B2 (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JP2699701B2 (ja) | タングステン又はタングステン合金へのめっき方法 | |
| US3373092A (en) | Electrodeposition of platinum group metals on titanium | |
| JPH0260759B2 (ja) | ||
| JPH0417573Y2 (ja) |