JPS61228638A - プロ−ブ針とパツドの位置合わせ方法 - Google Patents

プロ−ブ針とパツドの位置合わせ方法

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JPS61228638A
JPS61228638A JP60069554A JP6955485A JPS61228638A JP S61228638 A JPS61228638 A JP S61228638A JP 60069554 A JP60069554 A JP 60069554A JP 6955485 A JP6955485 A JP 6955485A JP S61228638 A JPS61228638 A JP S61228638A
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Japan
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probe
pad
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probe needle
trace
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Masao Kubodera
久保寺 正男
Shinji Akaike
伸二 赤池
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Tokyo Electron Ltd
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    • H10P74/00Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices

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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体ウェハの製造過程において、半導体ウェ
ハ(以下ウェハという)のチップを測定する時のプロー
ブ針とチップパッドの位置合わせ方法に関する。
(従来の技術) ウェハに集積回路が数百個形成されている。前記集積回
路は、ウェハ形態で存在している時は通常チップを称さ
れている。
前記チップは全工程で製造され、次に測定して良品のみ
を選別してパッケージングされIC製品。
LSI製品となる。従来の測定技術は前記チップの測定
において、プローブ針を前記チップの各パッドに接触さ
せ、前記各チップを測定するのである。前記プローブ針
を前記チップの位置合わせは第3図に示すように、ウェ
ハカセットlaから矢印21方向にウェハが搬送され、
載置台2にウェハlを吸着しする。
次に矢印22方向に載置台が移動し、ウェハのアライメ
ント位置Bに搬送され、ウェハのアライメントも実行さ
れる。
次に、測定された位置Cにウェハが矢印23方向に移動
する。そこで、測定者が顕微鏡を用いて第4図に示すよ
うにパッドlOaの中心にプローブ針3aを位置合わせ
する。
同じく他のパッドtabとプローブ針3bも位置合わせ
をする。その時の位置合わせ方法は、第3図に示すよう
にサポートリング6の円穴にリングインサート5が挿入
されているものを、取手5aを周方向に回動させ、位置
合わせをする。その後、固定する。
XY方向のずれ量の補正はジョイステックと称される 
ずれ量自在の制御装置で移動されている。
(発明が解決しようとする問題点) ウェハの各チップを測定して良品のみを選択する工程に
おいては、測定誤差の極めて少ない測定方法及び自動化
が要求されている。すでに従来技術で述べたように、測
定者が顕微鏡を用いて!くラドとプローブ針の位置合わ
せを測定者の経験等で行なっているので、位置合わせに
各測定者による目視誤差が生じ、それが測定結果につな
がって、良品チップにおいても不良品と判断してしまう
また測定者の経験で、位置合わせを行っているので、自
動化ができない。
そこで、本発明は前記従来の欠点を除くために、測定者
が顕微鏡でパッドとプローブ針の位置合わせを目視判定
に相当するものとして、認識装置を用いて、位置合わせ
を行うので極めて正確な測定が可能に外ることを目的と
している。
また、従来技術で位置合わせを行い、ウニノ1の連続測
定中にプローブ針の被損が生じた場合、測定者はプロー
ブ針交換を行い再び顕微鏡でチップとプローブ針の位置
合わせを行なわなければならず、今まではウェハのチッ
プを測定するのに自動化には不向きであった。よって前
記チップとプローブ針の位置合わせを自動的に行うこと
が可能にすることを目的としている。
(問題点を解決するための手段) 上記の目的を達成するための本発明の構成を実施例に対
する第1図を用いて説明する。
第1図は本発明の基本概念図である。
・ウェハがXY方向に移動する方向とウニノ\のチ ゛
ツブ列方向と同一に位置合わせした。すなわち、   
 ・アライメントした後に、ウェハのチップにプローブ
針3を接触させて前記チップのパッドにプローブ針跡を
付加する機構103と、前記プローブ針跡を認識する手
段lOOとリングインサートを周回動する機構50とX
−Y駆動機構54と制御・演算回路101よりなってい
る。
・ウェハのチップのパッドにプローブ針を接触させて、
プローブ針跡を付加する機構は上部に前記プローブ針を
配設し、かつウェハを吸着した載置台は昇降装置に移動
させて、制御回路の信号によって上昇させて、ウェハ内
のチップのパッドに接触する一連の機構を形成している
・前記プローブ針跡を認識する手段は、前記チップのパ
ッドに付加した針跡をテレビカメラで撮像し、ビデオ信
号がスレシホールドで判別され、RAMの番地に記録さ
れて、前記チップのパッド面積に対する針跡を読取るこ
とにより針跡の位置を認識する認識手段。
・制御演算回路は、前記rtAMの番地に記録された情
報に基づいて、演算され、周回転方向及び、XY方向に
必要な駆動量を制御する回路。
・リングインサートを周回動する機構は、サポートリン
グの内円にリングインサートが挿入し、リングインサー
トの外周位置に取手を設けl(ルスモータ等に連動した
機構を形成している。
また、X−Y駆動機構は、従来のブローノ(に使用され
ている公知の機構を用いる。
(作  用) ウェハのチップ列方向を一定方向に位置合わせした後、
すなわちウェハをアライメントした後、ウェハ内の各チ
ップにおいて、パッドと対応しているプローブ針がリン
グインサートに取付けられて設けられている。またプロ
ーブ針の真下には載置台に吸着されているウニノーが配
設されて0る。
前記載置台は昇降機構に連動されているため、前記昇降
機構をCPUの指示で上昇することによりウェハのチッ
プのパッドと対応しているプローブ針が接触し再びウニ
ノ\を吸着している載置台を降下させる。以上の動作に
よりウニノ\チップの各lくラドにプローブ針跡が付加
されている。上記チップの各パッドにプローブ針跡が付
加され°たウニノ1は、次の認識手段で各パッドに対す
るプローブ針静位置を認識させる。
上記の方法は画像認識で認識する方法が一般的である。
パッド面積内におけるプローブ針跡位置を認識手段で認
識することにより、前記認識手段による情報を演算し、
制御してプローブ針が取付けられているリングインサー
トを周回動させ、かつX−Y方向に移動させて、パッド
の中心にプルーブ針が接触するように位置合わせをする
(実 施 例) 本発明の実施例を第2図に基づいて説明する。
プローブ針3はプローブカード4に取付けられ、かつサ
ポートリング6の内式に配設されている。
前記リングインサートとサポートリング6は自在に回動
可能になっており尚、前記リングインサートの外周部位
置に設けられている取手50aは、周回動機構と連動し
ている。
プローブ針跡を付加する初期チップ(始めにパッドとプ
ローブ針跡の位置を確認するチップをいう)は予め設定
したチップである。
前記初期チップは、昇降装置でプローブ針が接触するま
で上昇させた後、降下させる。前記の一連の動作後、プ
ローブ針跡を付加した初期チップは一定の距離りをX−
Y駆動手段で移動する。次に上部に配設されているテレ
ビカメラで初期チップの位置と、初期チップに付加した
プローブ針跡の関係を認識手段lOOで認識させる。
すなわち、初期チップに対する前記パッドに付加された
針跡の位置の認識は、第5図に示すように行と列を用い
て説明すると、第1行目より、矢印201のようにスキ
ャンして第2行目から最終行までサーチする。n行目に
1を確認した行番号を記録したのち算術平均値を計算す
る。よって−行目からn行目までの距離が検出できる。
これと同じく列側らサーチしてm列目までの距離を検出
する。以上で二値化した画像データにより前記針跡の外
形が把握できる。次に前記針跡の外形より前記針跡中心
を計算する。すなわち、例えば第6図で示すように前記
チップ内の2ケ所のパッドlOにおいて、前記パッドの
中心間距離OP及びチップの形状はすでに設定値である
。前記パッドIOCに付°加された針跡80Cと、他の
パッドIODに付加された針跡80Dの中心をそれぞれ
R1及びR2として、R1とR6を通る直線は前記パッ
ドの中心間距離のOPの直接と交差する。
前記2直線の交点をQとし、RtとR2のχ成分の距離
及びY成分の距離は認識手段により検出できるので当然
RIとR9の距離も検出できる。よって傾きθが計算さ
れる。プローブ針が固定されているリングインサートは
前記傾きθの情報量だけ円回動する。これにより、パッ
ドとプローブ針の傾きが生じなくなる。次にX−Y方向
に移動させる。
この時の、XY移動は計算により、検出した距離を移動
させる。
以上より位置合わせができる。
(発明の効果) 測定者が顕微鏡を用いてパッドとプローブ針の位置合わ
せを測定者の経験等で行なっていたことを認識手段に代
えて、位置合わせを行う、よって、測定者による経験等
で位置合わせを行なっていたように、目視誤差が生じな
い常にパッドの中心位置にプローブ針が接解するので測
定誤差が極めて少ない測定方法が可能である。
また、測定者が顕微鏡を用いてパッドとプローブ針の位
置合わせと測定者の経験等で行なっていた。
これを認識手段に代えたので機械的にパッドをプローブ
針の位置合わせを行うので測定者による位置合わせが不
用になり、よって、自動化が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図・・・この発明の基本概念図を示す。 第2図・・・この発明の実施例を示す図。 第3図・・・従来の技術の実施例を示す図。 第4図・・・第3図に示す図の矢視8の矢視図。 第5図・・・この発明の実施例による認識手段の説明図
。 第6図・・・この発明の実施例でパッドと針跡の説明拡
大図を示す図。 l:ウエハ、 2:載置台、 3ニブローブ針。 4: プローブカード、 5: リングインサート。 6:サポートリング、 7:顕微鏡、  8,9:矢視
10a、IOb: パッド、  51:CPU。 50:周回動機構、 52:テレビカメラ。 53:昇降機構、  54: x−y駆動機構。 55:ネジ、 56;モーフ。 57:スレーシホールド、  58:rtOM。 59:RAM、  100:認識手段。 101:演算・制御回路。 B:アライメント位置、 C:測定位置D:認識位置 第1図 第3図 第4図 第5図 第6図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  ウェハの各チップを測定する時にウェハのチップのパ
    ッドにプローブ針と位置合わせする方法において、パッ
    ドにプローブ針跡を付加する機構103と、認識手段1
    00と、リングインサートを周回動する機構50と、X
    −Y駆動機構54と、制御・演算回路101からなり、
    前記パッドにプローブ針跡を付加し、前記パッド面積に
    対する前記プローブ針跡位置を、認識手段により認識す
    るように構成したことを特徴とするプローブ針とパッド
    の位置合わせ方法。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63204153A (ja) * 1987-02-19 1988-08-23 Tokyo Electron Ltd プロ−ブ装置
JPH01140075A (ja) * 1987-11-26 1989-06-01 Tokyo Electron Ltd テープキャリヤの検査方法
JPH02137347A (ja) * 1988-11-18 1990-05-25 Tokyo Electron Ltd 位置合わせ方法
JPH02278745A (ja) * 1989-04-19 1990-11-15 Tokyo Electron Ltd アライメント装置
US5644245A (en) * 1993-11-24 1997-07-01 Tokyo Electron Limited Probe apparatus for inspecting electrical characteristics of a microelectronic element
JP2005308549A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Jsr Corp プローブ位置調整用フィルム
WO2007038199A1 (en) * 2005-09-23 2007-04-05 Delta Design, Inc. Single camera three-point vision alignment system for a device handler
US7842912B2 (en) 2008-05-23 2010-11-30 Delta Design, Inc. Camera based vision alignment with device group guiding for semiconductor device testing handlers
CN114913119A (zh) * 2022-03-02 2022-08-16 上海哥瑞利软件股份有限公司 一种半导体晶圆检测工艺中的自动探针状态识别方法
CN115760896A (zh) * 2022-11-14 2023-03-07 杭州长川科技股份有限公司 开尔文探针识别定位方法及装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010073359A1 (ja) 2008-12-26 2010-07-01 富士通セミコンダクター株式会社 プローバ、試験装置、及び半導体チップの検査方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5816992A (ja) * 1981-07-20 1983-01-31 Yamaha Motor Co Ltd 船舶推進機の跳ね上げ装置
JPS595641A (ja) * 1982-07-02 1984-01-12 Hitachi Ltd プロ−バ
JPS6024030A (ja) * 1983-07-19 1985-02-06 Telmec Co Ltd 半導体ウエハ測定方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5816992A (ja) * 1981-07-20 1983-01-31 Yamaha Motor Co Ltd 船舶推進機の跳ね上げ装置
JPS595641A (ja) * 1982-07-02 1984-01-12 Hitachi Ltd プロ−バ
JPS6024030A (ja) * 1983-07-19 1985-02-06 Telmec Co Ltd 半導体ウエハ測定方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63204153A (ja) * 1987-02-19 1988-08-23 Tokyo Electron Ltd プロ−ブ装置
JPH01140075A (ja) * 1987-11-26 1989-06-01 Tokyo Electron Ltd テープキャリヤの検査方法
JPH02137347A (ja) * 1988-11-18 1990-05-25 Tokyo Electron Ltd 位置合わせ方法
JPH02278745A (ja) * 1989-04-19 1990-11-15 Tokyo Electron Ltd アライメント装置
US5644245A (en) * 1993-11-24 1997-07-01 Tokyo Electron Limited Probe apparatus for inspecting electrical characteristics of a microelectronic element
JP2005308549A (ja) * 2004-04-21 2005-11-04 Jsr Corp プローブ位置調整用フィルム
WO2007038199A1 (en) * 2005-09-23 2007-04-05 Delta Design, Inc. Single camera three-point vision alignment system for a device handler
US7842912B2 (en) 2008-05-23 2010-11-30 Delta Design, Inc. Camera based vision alignment with device group guiding for semiconductor device testing handlers
CN114913119A (zh) * 2022-03-02 2022-08-16 上海哥瑞利软件股份有限公司 一种半导体晶圆检测工艺中的自动探针状态识别方法
CN114913119B (zh) * 2022-03-02 2024-03-22 上海哥瑞利软件股份有限公司 一种半导体晶圆检测工艺中的自动探针状态识别方法
CN115760896A (zh) * 2022-11-14 2023-03-07 杭州长川科技股份有限公司 开尔文探针识别定位方法及装置

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