JPS61229237A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS61229237A JPS61229237A JP6966885A JP6966885A JPS61229237A JP S61229237 A JPS61229237 A JP S61229237A JP 6966885 A JP6966885 A JP 6966885A JP 6966885 A JP6966885 A JP 6966885A JP S61229237 A JPS61229237 A JP S61229237A
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- JP
- Japan
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- film
- magnetic layer
- coating
- resin
- heating
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明はアルミニウム基板上に磁性層を被着し、その磁
性層表面を保護被膜で被覆する磁気記録媒体の製造方法
に関する。
性層表面を保護被膜で被覆する磁気記録媒体の製造方法
に関する。
コンタクト・スタート・ストップ方式の磁気ディスク装
置においては、磁気記録媒体の回転開始および停止時に
磁気ヘッドと磁気記録媒体とが接触し、互いの摩擦摩耗
を生じる。この磁気ヘッドと媒体との摩耗を防止するた
め、媒体表面に保護被膜を形成することが行われる。た
とえば磁性薄膜上にけい酸型合物を被覆すること（特開
昭５７−９４９３１号公報）、あるいはポリけい酸液膜
を形成しさらに潤滑剤を被覆すること （特開昭５２−
５５６０３号公報）などである。 通常ＳｉＯ＊被膜の形成は、テトラヒドロキシシラン溶
液を磁性層上に塗布し、加熱することによって行われる
。しかし、５１０８被膜は潤滑性に劣るため、ぶつそオ
イルあるいはふっそ樹脂の被膜を５ＩＯｓ被膜上に形成
して磁気ディスク記録媒体の使用寿命を高めることが行
われる。 ５ｌｏｆはかたい被膜を形成するため保護被
膜として適するが、テトラヒドロキシシラン溶液の塗布
被膜を加熱して５ｉｌｌ被膜を得る場合、５００℃以上
の高温加熱を必要とし、それ以下の温度での加熱では、
未反応部分が残存し、十分な硬度をもつＳ１０．被膜を
得ることができない、磁気ディスク記録媒体の基板とし
て用いられるアルマイト処理を施したアルミニウム合金
基板の耐熱温度は３００℃前後である。したがってアル
マイト処理を施したアルミニウム合金基板上に塗布した
テトラヒドロキシシランを加熱処理する温度は３００℃
程度が上限であり、十分な硬度をもつ３１０ｗ被膜の形
成は期待できない。 上記のようにアルミニウム合金にアルマイト処理を施し
た基板に磁性層を形成してなる磁気記録媒体上にテトラ
ヒドロキシシランを塗布して５１０８の保護被膜を形成
する場合は、その加熱処理温度が３００℃以下に限られ
るため、耐摩耗性のよい強固な保護被膜を得ることがで
きない欠点がある。
置においては、磁気記録媒体の回転開始および停止時に
磁気ヘッドと磁気記録媒体とが接触し、互いの摩擦摩耗
を生じる。この磁気ヘッドと媒体との摩耗を防止するた
め、媒体表面に保護被膜を形成することが行われる。た
とえば磁性薄膜上にけい酸型合物を被覆すること（特開
昭５７−９４９３１号公報）、あるいはポリけい酸液膜
を形成しさらに潤滑剤を被覆すること （特開昭５２−
５５６０３号公報）などである。 通常ＳｉＯ＊被膜の形成は、テトラヒドロキシシラン溶
液を磁性層上に塗布し、加熱することによって行われる
。しかし、５１０８被膜は潤滑性に劣るため、ぶつそオ
イルあるいはふっそ樹脂の被膜を５ＩＯｓ被膜上に形成
して磁気ディスク記録媒体の使用寿命を高めることが行
われる。 ５ｌｏｆはかたい被膜を形成するため保護被
膜として適するが、テトラヒドロキシシラン溶液の塗布
被膜を加熱して５ｉｌｌ被膜を得る場合、５００℃以上
の高温加熱を必要とし、それ以下の温度での加熱では、
未反応部分が残存し、十分な硬度をもつＳ１０．被膜を
得ることができない、磁気ディスク記録媒体の基板とし
て用いられるアルマイト処理を施したアルミニウム合金
基板の耐熱温度は３００℃前後である。したがってアル
マイト処理を施したアルミニウム合金基板上に塗布した
テトラヒドロキシシランを加熱処理する温度は３００℃
程度が上限であり、十分な硬度をもつ３１０ｗ被膜の形
成は期待できない。 上記のようにアルミニウム合金にアルマイト処理を施し
た基板に磁性層を形成してなる磁気記録媒体上にテトラ
ヒドロキシシランを塗布して５１０８の保護被膜を形成
する場合は、その加熱処理温度が３００℃以下に限られ
るため、耐摩耗性のよい強固な保護被膜を得ることがで
きない欠点がある。
本発明は、上述の欠点を除いてアルマイト処理アルミニ
ウム合金基板を用いた場合に、保護被膜の形成がアルマ
イト耐熱温度以上での加熱処理により可能な磁気記録媒
体の製造方法を提供することを目的とする。
ウム合金基板を用いた場合に、保護被膜の形成がアルマ
イト耐熱温度以上での加熱処理により可能な磁気記録媒
体の製造方法を提供することを目的とする。
【発明の要点】
本発明は、アルマイト処理を施したアルミニウム合金基
板上に磁性層を被着後、磁性層表面に熱硬化性樹脂に無
機酸化物微粒子を含むコロイド溶液を配合した塗布液を
塗布し、加熱硬化することにより保護被膜を形成するこ
とによって゛上記の目的を達し、強固な保護被膜を有す
る磁気記録媒体を得る。
板上に磁性層を被着後、磁性層表面に熱硬化性樹脂に無
機酸化物微粒子を含むコロイド溶液を配合した塗布液を
塗布し、加熱硬化することにより保護被膜を形成するこ
とによって゛上記の目的を達し、強固な保護被膜を有す
る磁気記録媒体を得る。
本発明を以下の実施例を引用して説明する。
実施例１
第１図において、アルマイト被膜２を有するアルミニウ
ム合金基板１の上にγ−Ｐｅｓｏｓからなる磁性薄膜３
を形成し、この磁性層上にエポキシ樹脂５％、シリカゾ
ル１％を含む溶液をスピンコード法により塗布した後、
２００℃で１時間加熱して樹脂被膜４を形成した。さら
にパーフロロアルキルエーテルの０．１％溶液を塗布し
、潤滑性被膜５を形成して磁気記録媒体を得た。 実施例２： アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上にコバ
ルト−ニッケルーリン合金からなる磁性薄膜を被覆した
。この磁性層上にシリコーン樹脂３％、シリカゾル１％
を含むエタノール溶液を塗布したのち、１５０℃で１時
間加熱して被膜を形成した。さらにパーフロロアルキル
ポリエーテルの０．１％液を塗布して磁気記録媒体を得
た。 実施例３： アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上にｒ−
Ｆｅ１０３からなる磁性薄膜を形成し、この磁性層上に
アクリル樹脂５％、シリカゾル０．５％。 アルミナゾル０．５％を含む塗布液をスピンコード法に
より塗布した。塗布面に波長２５０〜４ＧＯｎ−の紫外
線を１０秒間照射したのち、１５０℃にて３０分間加熱
して被膜を形成した。さらにパーフロロアルキルポリエ
ーテルの０．１％液を塗布して磁気記録媒体を得た。 比較例１： アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上にｒ−
ＦｅＨＯ２からなる磁性薄膜を形成した。この磁性層上
にテトラヒドロキシシラン３％を含むエタノール溶液を
塗布したのち、３００℃で１時間加熱してＳｉｎ、被膜
を形成し、さらにパーフロロアルキルポリエーテルの０
．１％液を塗布して磁気記録媒体を得た。 比較例２： アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上にｒ−
Ｗｅ＠０＠からなる薄膜を形成した。この磁性層上にエ
ポキシ樹脂５％を含む塗布液を塗布したのち、２００℃
で１時間加熱して被膜を形成し、さらにパーフロロアル
キルポリエーテルの０．１％溶液を塗布して磁気記録媒
体を得た。 上記実施例１．２．３および比較例１．２で作製した磁
気記録媒体を磁気ディスク装置に取りつけコンタクト・
スタート・ストップ（Ｃ３Ｓ）方式による記録再生動作
試験（耐Ｃ８Ｓ試験）を２００００回まで実施した。各
媒体の試験開始前の記録再生出力を基準とした場合のコ
ンタクト・スタート・ストップ５０００回、 １０００
０回、 １５０００回および２００００回実施時点での
記録再生出力の低下率を第２図に示す、線１１．１２．
１３でそれぞれ示す実施例１，２゜３の磁気記録媒体の
記録再生出力は、ＣＳ ３２００００回実施後において
試験開始前の値（初期値）よりの低下率が１０％以内で
あったのに対し、線２１．２２でそれぞれ示す比較例１
．２の磁気記録媒体では被膜の剥離が生じ、記録再生出
力の低下率が１０％以上であった。 以上のように、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂。 アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂にシリカゾル。 アルミナゾルなどの無機酸化物微粒子を含むコロイド溶
液を混合して塗布液とし、保護被膜を形成した磁気記録
媒体の耐ＣＳＳ試験結果は良好なものであった。一方、
テトラヒドロキシシラン溶液の塗布被膜を３００℃で加
熱処理して形成した保護被膜あるいは樹脂のみの保護被
膜を有する磁気記録媒体の耐Ｃ３Ｓ試験結果は不良であ
った。
ム合金基板１の上にγ−Ｐｅｓｏｓからなる磁性薄膜３
を形成し、この磁性層上にエポキシ樹脂５％、シリカゾ
ル１％を含む溶液をスピンコード法により塗布した後、
２００℃で１時間加熱して樹脂被膜４を形成した。さら
にパーフロロアルキルエーテルの０．１％溶液を塗布し
、潤滑性被膜５を形成して磁気記録媒体を得た。 実施例２： アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上にコバ
ルト−ニッケルーリン合金からなる磁性薄膜を被覆した
。この磁性層上にシリコーン樹脂３％、シリカゾル１％
を含むエタノール溶液を塗布したのち、１５０℃で１時
間加熱して被膜を形成した。さらにパーフロロアルキル
ポリエーテルの０．１％液を塗布して磁気記録媒体を得
た。 実施例３： アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上にｒ−
Ｆｅ１０３からなる磁性薄膜を形成し、この磁性層上に
アクリル樹脂５％、シリカゾル０．５％。 アルミナゾル０．５％を含む塗布液をスピンコード法に
より塗布した。塗布面に波長２５０〜４ＧＯｎ−の紫外
線を１０秒間照射したのち、１５０℃にて３０分間加熱
して被膜を形成した。さらにパーフロロアルキルポリエ
ーテルの０．１％液を塗布して磁気記録媒体を得た。 比較例１： アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上にｒ−
ＦｅＨＯ２からなる磁性薄膜を形成した。この磁性層上
にテトラヒドロキシシラン３％を含むエタノール溶液を
塗布したのち、３００℃で１時間加熱してＳｉｎ、被膜
を形成し、さらにパーフロロアルキルポリエーテルの０
．１％液を塗布して磁気記録媒体を得た。 比較例２： アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上にｒ−
Ｗｅ＠０＠からなる薄膜を形成した。この磁性層上にエ
ポキシ樹脂５％を含む塗布液を塗布したのち、２００℃
で１時間加熱して被膜を形成し、さらにパーフロロアル
キルポリエーテルの０．１％溶液を塗布して磁気記録媒
体を得た。 上記実施例１．２．３および比較例１．２で作製した磁
気記録媒体を磁気ディスク装置に取りつけコンタクト・
スタート・ストップ（Ｃ３Ｓ）方式による記録再生動作
試験（耐Ｃ８Ｓ試験）を２００００回まで実施した。各
媒体の試験開始前の記録再生出力を基準とした場合のコ
ンタクト・スタート・ストップ５０００回、 １０００
０回、 １５０００回および２００００回実施時点での
記録再生出力の低下率を第２図に示す、線１１．１２．
１３でそれぞれ示す実施例１，２゜３の磁気記録媒体の
記録再生出力は、ＣＳ ３２００００回実施後において
試験開始前の値（初期値）よりの低下率が１０％以内で
あったのに対し、線２１．２２でそれぞれ示す比較例１
．２の磁気記録媒体では被膜の剥離が生じ、記録再生出
力の低下率が１０％以上であった。 以上のように、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂。 アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂にシリカゾル。 アルミナゾルなどの無機酸化物微粒子を含むコロイド溶
液を混合して塗布液とし、保護被膜を形成した磁気記録
媒体の耐ＣＳＳ試験結果は良好なものであった。一方、
テトラヒドロキシシラン溶液の塗布被膜を３００℃で加
熱処理して形成した保護被膜あるいは樹脂のみの保護被
膜を有する磁気記録媒体の耐Ｃ３Ｓ試験結果は不良であ
った。
本発明では、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂にシリカ
ゾル、アルミナゾルなどのコロイド溶液を混合して保護
被膜形成用塗布液とする。シリカゾル、アルミナゾルは
、それぞれ粒子径が数十人から数百人のシリカ粒子、ア
ルミナ粒子のような無機酸化物微粒子がコロイド状に溶
媒に分散したものである。熱硬化性樹脂は、アルマイト
の耐熱限界温度である３００℃以下にて強固な被膜を形
成できる。この樹脂被膜は、テトラヒドロキシシラン溶
液を加熱して形成されるようなＳｉ０ｇ被膜と（らぺて
、被膜形成性および磁性層との密着性が良好であるが、
表面硬度が劣るためコロイド溶液の添加により無機酸化
物微粒子を樹脂に分散させて表面硬度を向上させ、耐摩
耗性の良好なものにする。従ってアルマイトの基板の耐
熱限界温度以下の加熱で５ｌｏｎ被膜と同等の表面硬度
を有する保護被膜を有する磁気記録媒体を得ることがで
きる。 また、コロイド溶液に含まれる微粒子が樹脂被膜表面に
表出して微細な凹凸を形成し、その面を表面あらさ５０
〜２００人程度の粗面とする効果がある。このため上層
の潤滑性被膜はその凹凸面に良く保持され、磁気ヘッド
の接触の際に潤滑性被膜の除去が起こりに＜＜、その潤
滑効果を長時間にわたり維持する別の効果も生ずる。
ゾル、アルミナゾルなどのコロイド溶液を混合して保護
被膜形成用塗布液とする。シリカゾル、アルミナゾルは
、それぞれ粒子径が数十人から数百人のシリカ粒子、ア
ルミナ粒子のような無機酸化物微粒子がコロイド状に溶
媒に分散したものである。熱硬化性樹脂は、アルマイト
の耐熱限界温度である３００℃以下にて強固な被膜を形
成できる。この樹脂被膜は、テトラヒドロキシシラン溶
液を加熱して形成されるようなＳｉ０ｇ被膜と（らぺて
、被膜形成性および磁性層との密着性が良好であるが、
表面硬度が劣るためコロイド溶液の添加により無機酸化
物微粒子を樹脂に分散させて表面硬度を向上させ、耐摩
耗性の良好なものにする。従ってアルマイトの基板の耐
熱限界温度以下の加熱で５ｌｏｎ被膜と同等の表面硬度
を有する保護被膜を有する磁気記録媒体を得ることがで
きる。 また、コロイド溶液に含まれる微粒子が樹脂被膜表面に
表出して微細な凹凸を形成し、その面を表面あらさ５０
〜２００人程度の粗面とする効果がある。このため上層
の潤滑性被膜はその凹凸面に良く保持され、磁気ヘッド
の接触の際に潤滑性被膜の除去が起こりに＜＜、その潤
滑効果を長時間にわたり維持する別の効果も生ずる。
第１Ｅｉ！Ｉは本発明の一実施例の構造を示す断面図、
第２図は実施例および比較例の耐Ｃ８Ｓ試験における再
生出力の変化Ｍ図である。 １ニアルミニウム合金基板、２：アルマイト被膜、３：
磁性薄膜、４：樹脂被膜、５：潤滑性波ＣＳＳ口毅 第２図
第２図は実施例および比較例の耐Ｃ８Ｓ試験における再
生出力の変化Ｍ図である。 １ニアルミニウム合金基板、２：アルマイト被膜、３：
磁性薄膜、４：樹脂被膜、５：潤滑性波ＣＳＳ口毅 第２図
Claims (1)
- １）アルマイト処理を施したアルミニウム合金基板上に
磁性層を被着後、該磁性層表面に熱硬化性樹脂に無機酸
化物微粒子を含むコロイド溶液を配合した塗布液を塗布
し、加熱硬化することにより保護被膜を形成することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6966885A JPS61229237A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6966885A JPS61229237A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61229237A true JPS61229237A (ja) | 1986-10-13 |
Family
ID=13409444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6966885A Pending JPS61229237A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61229237A (ja) |
-
1985
- 1985-04-02 JP JP6966885A patent/JPS61229237A/ja active Pending
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