JPS61230730A

JPS61230730A - 粉粒体処理装置

Info

Publication number: JPS61230730A
Application number: JP7232485A
Authority: JP
Inventors: Yoshiro Funakoshi; 舩越　嘉郎; Shimesu Motoyama; 本山　示; Taketsune Momiyama; 籾山　武經
Original assignee: FUROINTO SANGYO KK; Freund Corp
Current assignee: FUROINTO SANGYO KK; Freund Corp
Priority date: 1985-04-05
Filing date: 1985-04-05
Publication date: 1986-10-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔技術分野〕本発明は粉粒体の混合、造粒、コーチング、乾燥等に用
いて効果のある粉粒体処理装置に関する。

〔背景技術〕

一般に、たとえば医薬、食品、化成品等の各種分野にお
ける粉粒体の処理において、良質の製品を得るためには
、個々の粉粒体粒子について如何に均質な処理が万遍な
（、しかも確実に行われることが重要である。そのため
には、処理される粒子に働く力がどの部分に対してもで
きるだけ均一で、しかも粒子の働きが循環流をなすこと
が望ましい。

そこで、本発明者らが鋭意研究したところ、回転板によ
り粉粒体粒子に遠心流動作用を与える遠心流動型粉粒体
処理装置が粉粒体の精密な加工処理に適していることが
判明したものであり、この粉粒体処理装置は球形顆粒の
造粒、コーチング等に有効で、優れた作用効果を奏する
ものである（特開昭５８−２０２０２９号公報参照）。

ところで、回転板を用いて遠心流動作用を与える場合、
粉粒体に加わる力は回転面による作用で伝達される関係
上、処理される粉粒体の量は回転面の面積にほぼ比例す
る。

しかしながら、通常の粉粒体処理装置は回転面が一つし
かないので、この構造で大きな回転面面積を得るために
は装置の径を大きくする必要がある。その結果、設置ス
ペースが大となり、加工のコストや手間も多くなる等の
問題があり、大量処理には不向きである。

また、精密な粉粒体処理を行うためには、造粒、コーチ
ング、混合、乾燥等の必要な詩作用を単一の処理装置で
シーケンシャルに行うことが望ましい。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、小さい設置スペースのコンパクトな構
造で大きな回転面面積を得ることができ、粉粒体の大量
処理を精密に行うことのできる粉粒体処理技術を提供す
ることにある。

本発明の他の目的は、全体的にシーケンシャルな粉粒体
の処理を行うことのでき、る技術を提供することにある
。

Ｃ発明の概要〕本発明は、水平断面が実質的に円形状をなす容器内で回
転する第１の回転板と、この回転板から上方に所定間隔
だけ離隔した位置において前記容器内で回転可能に設け
られかつ少なくとも１個所に粉粒体上昇用開口を形成し
た第２の回転板とを多段に配設することにより、回転面
の面積を増大させ、かつ各回転面において順次所望の処
理を行わしめ、大きな回転面面積で大量の粉粒体を精密
に処理することができる。さらに、最下段の回転面から
順次処理されながら最上段の回転面に移動し、最上段の
回転面からオーバーフローさせて最下段の回転面に落下
させ、さらに最下段から最上段へと循環流を形成しなが
ら循環処理し、必要に応じてその循環流の所望の部位で
湿潤、粉末散布、転勤、あるいは混合、乾燥等の諸処理
を行い、全体としてシーケンシャルな粉粒体処理を行う
ことができるものである。

〔実施例１〕第１図は本発明による一実施例である粉粒体処理装置の
断面図、第２図（ａ）と山）はそれぞれ回転板の平面図
と同図（ａ）のＪＩＢ−ＩＩＢ線断面図、第３図は回転
板の他の実施例の平面図である。

第１図において、水平断面が略円筒形の処理容器１の底
部には、略皿状の下部回転板２（第１の回転板）が該処
理容器１の軸心に位置した回転軸３の上部に円錐台形部
材４および取付ボルト５で取り付けられ、該回転板２は
処理容器１の底面を形成している。下部回転板２の皿状
弯曲面は処理容器１の底部周囲の弯曲面と円滑に適合し
、環状のスリット６を介して滑らかな弯曲連続面を形成
している０回転軸３の回転はモータ７により行われ、該
回転軸３の回転と共に下部回転板２も一緒に回転される
。

前記処理容器ｌの下方には給気部８が取り付けられ、給
気源（図示せず）から供給される加熱空気等が該給気部
８を経て前記スリントロから処理容器ｌ内に送り込まれ
るよう構成されている。

また、処理容器ｌ内の略中間部には、第２図ｔａ＋に示
すように、前記回転板２上に設けた支柱９で支持された
ドーナツ状の上部回転板１０（第２の回転板）が設けら
れている。この上部回転板１０は前記下部回転板２と多
段回転面を形成するもので、両回転板２と１０は一緒に
回転する。

本実施例の上部回転板１０は下部回転板２とほぼ同じ弯
曲面形状を有している。上部回転板１０の中心部には粉
粒体落下用開口１１が形成され、またその１個所には粉
粒体上昇用開口１２（切欠き）が半径方向に切欠き形成
されている。粉粒体上昇用開口１２は下部回転板２上で
遠心転勤流動される下部粉粒体層１３の粉粒体を第２開
山）に破線矢印で示す如く上部回転板ｌＯ上に上昇させ
て該上部回転板１０上で遠心転勤流動する上部粉粒体層
１４を形成するためのものである。この上部粉粒体層１
４からオーバーフローした粉粒体は粉粒体落下用開口１
２から下部回転板２上に落下し、再び循環的に遠心転勤
流動された後、粉粒体上昇用開口１２から上部回転板１
０上に上昇されて遠心転勤流動される。

すなわち、本実施例では、処理容器ｌ内の粉粒体は下部
回転板２と上部回転板１０とよりなる２段の回転面すな
わち単一回転板構造に比して約２倍近い面積の回転面上
でそれぞれ循環的にシーケンシャルな遠心転勤流動作用
を受けながら効率良く処理される。

なお、粉粒体上昇用開口１２は第３図の如く３個所に設
けること等も可能であり、また図示しないが、円形また
は四角形の如き開口として部分的に形成してもよい、さ
らに、第２開山）に二点鎖線で示す如く、開口１２の回
転板回転方向前縁部１０ａが回転方向後側に向けて下方
に傾斜していてもよく、この場合には、開口１２による
粉粒体すくい上げ効果をより良好にすることができる。

処理容器ｌの底部側面には、処理済みの粉粒体を排出す
るための排出機構１５が設けられている。

一方、処理容器１の上部には、粉粒体原料を供給するた
めのホッパ１６、およびバインダ液等の供給用のスプレ
ーノズル１７が設けられている。

以下、本実施例１の作用について説明する。

まず、給気源（図示せず）から給気部８および環状のス
リット６を経て処理容器１内に加熱または冷却空気の如
き気体を吹き込みながら、ホッパ１６から処理容器１内
に粉粒体原料を供給すると共に、モータ７で回転軸３を
回転させて下部回転板２と上部回転板ｌＯをたとえば時
計方向に回転させる。

それにより、両回転板２と１０の上には、両回転板の回
転による遠心力と回転力で両回転板上を外周方向すなわ
ち容器内壁方向に遠心転勤流動し、かつ上部から容器中
心方向に降下するフローパターンで第１図の破線矢印の
如くそれぞれ遠心転勤流動される粉粒体層１３と１４が
形成される。しかも、その場合、処理容器１内に少なく
とも両回転板２と１０との間の距離以上の深さまでの量
の粉粒体を供給することにより、第１図に示す如（、下
部回転板２上の粉粒体層１３は上部回転板１０の下面に
接触する。それによって、粉粒体層１３の上部に遠心転
勤流動して来た粉粒体は、上部の回転板１０の粉粒体上
昇用間口１２を通って該上部回転板ｌＯの上にすくい上
げられ、該上部回転板１０上で遠心転勤流動する粉粒体
層１４を形成する。

一方、上部回転板１０上の粉粒体層１４からオーバーフ
ローした粉粒体は、粉粒体落下用開口１１を通って下部
回転板２の上に落下し、再び該下部回転板２の回転によ
る遠心力と回転力で粉粒体層１３の中に遠心転勤流動し
た後、粉粒体上昇用開口１２を通って上部回転板１０上
に上昇して遠心転勤流動する粉粒体層１４を形成しなが
ら処理され、さらにオーバーフローして粉粒体落下用開
口１１から下部回転板２上に落下する。

したがって、本実施例では、２段の回転板２゜１０上に
おける粉粒体は、単一回転板構造に比して約２倍近い面
積の回転面上で遠心転勤流動されながら、両回転板間で
遠心転勤流動、上昇、遠心転勤流動、落下の順序で処理
され、その間に造粒。

コーチング、混合、乾燥等の所望の処理をシーケンシャ
ルに効率良く施すことができる。たとえば、上段の粉粒
体層１４の粉粒体にノズル１７から液を供給し湿潤させ
かつホッパ１６から粉粒体原料を供給すると、その粉粒
体は下部回転板２上の粉粒体層１３の粉粒体よりも細か
い粒径のものが多くなる傾向にあるが、その細粒に選択
的にコーチングされることになるので、上段の粉粒体層
１４の粒径と下段の粉粒体層１３の粒径が均一化され、
粒度分布のシャープな造粒、コーチングが可能となる。

〔実施例２〕第４図は本発明による粉粒体処理装置の他の実施例を示
す断面図である。

本実施例２では、前記実施例１における上部回転板１０
に相当する回転板が１０３と１０ｂで示す如く２段に設
けられ、それぞれ支柱９ａ、９ｂで支持され、それぞれ
の上に粉粒体層１４ａ、１４ｂを独立に形成する。した
がって、下部回転板２と合わせて３段の回転面により単
一回転板構造に比して約３倍近い面積の回転面でさらに
効率的な粉粒体処理が可能となる。

なお、本実施例２においては、平板状の下部回転板２の
下方には処理容器１自体の底面が別途形成され、この底
面と下部回転板２との間には回転軸３に形成した給気路
１８を経てパージ等のための気体が噴出され、かつ処理
容器１の下部回転板２よりもやや上方の位置には給気管
１９が接続され、図示しない給気源から粉粒体層１３の
中に空気等の気体を供給するよう構成されている。また
、最下段の粉粒体層１３の湿度を自動的に感知するため
の湿度センサ２０が設けられているが、中段および最上
段の粉粒体層１４ａ、１４ｂにも湿度センサ２０を設け
てもよい。

〔実施例３〕第５図は本発明のさらに他の実施例を示す断面図である
。

本実施例３では、処理容器１の底面と下部回転板２との
間において撹拌部材２１が回転軸３に取り付けられてい
る。

したがって、この攪拌部材２１により粉粒体の攪拌を行
い、混合効果をさらに高めることができる。

〔実施例４〕第６図は本発明のさらに他の実施例を示す断面図である
。

この実施例４においては、回転軸３は処理容器１の上方
から軸心に垂下され、その下端に下部回転板２が取り付
けられている。

また、下部回転板２および処理容器ｌの底面には、それ
ぞれ通気孔２２．２３が形成され、周期部８からの気体
がこれらの通気孔２３．２２および環状のスリット６を
経て処理容器１内の処理室に送り込まれ、乾燥効果およ
び流動効果をさらに高めることができる。

なお、本発明は前記実施例に限定されるものではな（、
他の様々な変形が可能である。

たとえば、処理容器を円錐状、または逆円錐状のものと
したり、回転板を４段以上の多段にしたりすることもで
きる。

また、本発明は、たとえば錠剤、細粒剤、顆粒剤、カプ
セル剤等の医薬、チョコレート等の食品、粉末冶金触媒
、フェライト、セラミックス、洗剤、化粧品、染料、顔
料等に用いられる粉粒体の造粒、コーチング、乾燥、混
合等に広く適用できる。

〔効果〕

（１）、水平断面が実質的に円形状をなす容器内で回転
する第１の回転板と、この回転板から上方に所定間隔だ
け離隔した位置において前記容器内で回転可能に設けら
れかつ少なくとも一個所に粉粒体°上昇用開口を形成し
た第２の回転板とを多段に配設してなることにより、回
転面の面積が増大し、大量の粉粒体を効率良く、精密に
処理することができる。

（２）、また、前記（１１により、各回転面において順
次所望の処理を行うことができるので、最下段の回転面
から最上段の回転面に順次移動し、最上段の回転面から
オーバーフローさせて最下段の回転面に落下させ、さら
に最下段から最上段へと循環流を形成しながら循環処理
することができ、必要に応じてその循環流の所望の部位
で湿潤、粉末散布、転動、造粒、コーチング、混合、乾
燥等の諸処理を行い、全体としてシーケンシャルな粉粒
体処理を７つの処理装置で得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による一実施例である粉粒体処理装置の
断面図、第２図（ａｌと（ｂｌはそれぞれ回転板の平面
図と同図（ａｌのＩＩＢ−ＩＩＢ線断面図、第３図は回
転板の他の実施例の平面図、第４図は本発明による粉粒
体処理装置の他の実施例を示す断面図、第５図は本発明
のさらに他の実施例を示す断面図、第６図は本発明のさ
らに他の実施例を示す断面図である。１・・・処理容器、２・・・下部回転板（第１の回転板）、３・・・回転軸
、　　　４・・・円錐台形部材、５・・・取付ボルト、
　６・・・スリット、７・・・モータ、　　　８・・・
給気部、９．９ａ、９ｂ・・・支柱、１０・・・上部回転板（第２の回転板）、１０ａ、１０
ｂ−−・回転板、１１・・・粉粒体落下用開口、１２・・・粉粒体上昇用開口、１３・・・下部粉粒体層、１４・・・上部粉粒体層、１４ａ、　　１４ｂ−−・粉粒体層、１５・・・排出機構、　　１６・・・ホッパ、１７・・
・スプレーノズル、１８・・・給気路、　　　１９・・・給気管、２０・・
・湿度センサ、２１・・・攪拌部材、２２．２３・・・通気孔。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）、水平断面が実質的に円形状をなす容器内で回転
する第１の回転板と、この回転板から上方に所定間隔だ
け離隔した位置において前記容器内で回転可能に設けら
れかつ少なくとも１個所に粉粒体上昇用開口を形成した
第２の回転板とを多段に配設してなる粉粒体処理装置。
（２）、前記第２の回転板が、半径方向中心側に粉粒体
落下用開口を形成し、半径方向外周側に前記粉粒体上昇
用開口を形成した略ドーナツ状の円板であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の粉粒体処理装置。
（３）、前記第２の回転板が多段に形成されていること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の粉粒体処理装
置。
（４）、前記第２の回転板が前記第１の回転板の上に支
柱で支持されていることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の粉粒体処理装置。
（５）、前記第１の回転板と前記第２の回転板とが同一
の回転軸で回転されることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の粉粒体処理装置。
（６）、前記回転軸が前記容器の上方から該容器内に延
びていることを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の
粉粒体処理装置。
（７）、前記回転軸に、半径方向外側に延びる攪拌羽根
が略水平方向に取り付けられていることを特徴とする特
許請求の範囲第５項記載の粉粒体処理装置。
（８）、前記第１の回転板が前記容器の底面を構成して
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の粉粒
体処理装置。
（９）、前記第２の回転板の粉粒体上昇用開口が半径方
向に形成した切欠きであることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の粉粒体処理装置。
（１０）、前記第２の回転板の前記切欠きの回転板回転
方向前縁部が回転方向後側に向けて下方に傾斜している
ことを特徴とする特許請求の範囲第９項記載の粉粒体処
理装置。