JPS61240437A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高分子材料より成る基板上に直接あるいは下地
層を介して金属ｗＩＷＡ磁性層を形成した磁気記録媒体
の製造方法に関する。

従来の技術 従来、磁気記録媒体としては非磁性基板上に磁性粉を塗
布した塗布形のものが使用されて来たが、より高い記録
密度を達成するために、非磁性基板上に金属Ｗ＠膜を真
空蒸着法で形成したＷｉＩ！ｌＩ形が実用化されつつあ
る。

高分子材料より成る基板上に真空蒸着法を用いて金属薄
膜磁性層を形成する方法としては、基板を円筒状キャン
の周面に沿わせて走行させつつ蒸着する方法が最も優れ
ている。第３図はこのような方法を用いた真空蒸着装置
の内部構造の概略を示す。高分子材料より成る基板１は
予備加熱ローラ３に沿って走行した後に昇温された円筒
状キャン２の周面に沿って矢印六方向に走行する。ここ
で円筒状キャン２を昇温する理由は磁性層の磁気特性の
向上にある。すなわち、面内記録用あるいは垂直磁気記
録用のいずれの金属薄膜形磁性層においても、一般に蒸
着時の基板温度が高い程、保磁力が増加し記録再生特性
が向上するためである。

例えば垂直磁気記録用のｃｏ−Ｑｒ合金膜を磁性層とし
て形成する際に、満足な記録再生特性を得るためには、
２００℃〜３００℃に円筒状キャン周面の温度を上げる
必要がある。また、予備加熱ローラ３は媒体のしわを防
止するために必要である。

すなわち、予備加熱ローラ３が無いと、室温にある基板
１が昇温された円筒状キャ゛ン２に接し始める際に、急
激な温度変化のためにしわが生じてしまう。予備加熱ロ
ーラ３で予備加熱した後に、昇温された円筒状キャン２
に接し始めると基板１はしわが無い状態で円筒状キャン
２に沿って走行し、蒸発源７によって磁性層が形成され
る。４．５はそれぞれ基板１の供給ロール及び巻取りロ
ール、６はフリーローラである。

発明が解決しようとする問題点 第３図のような真空蒸着装置にて高分子材料より成る基
板上に磁性層を形成すると、基板１の幅方向および長さ
方向に特性が変動して安定な膜を得ることが困難である
。このことを例をあげて説明すると、垂直磁気記録用媒
体としてよく知られているＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜
を、第３図の真空蒸着装置にて作製し、膜面に垂直方向
の保磁力の長さ方向の分布を測定すると、第４図のよう
に大幅な変化が見られた。幅方向でも第４図と同様に垂
直方向の保磁力が変化していた。この原因としては、基
板１のキャン２への密着が均一でなく、基板１にキャン
２と密着している部分とそうでない部分ができるために
生じる基板１の温度むらが考えられる。このように、磁
気特性が均一にならないこと以外に、蒸着部においてし
わが入り易く、磁気特性、形状ともに安定な媒体を作製
することは困難である。

本発明は磁気特性ならびに形状が安定な金属薄膜型磁気
記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

問題点を解決するための手段 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、高分子材料基板を
予備加熱ローラに沿って走行させた後に昇温された円筒
状キャンの周面に沿って走行させて前記円筒状キャン位
置で前記基板上に直接あるいは下地層を介して金Ｉｉｌ
薄！１１！ｌ性層を真空蒸着法によって形成する際に、
基板が前記予備加熱ローラに接し始める直前に基板にグ
ロー放電処理を施すことを特徴とする。

作用 この構成によれば、基板が予備加熱ローラに接し始める
直前（ここで言う直前とは接し始める部分を含んでいる
。）に基板をグロー放電処理するので、基板の表面状態
が均一になり、かつグロー放電による除電効果のために
基板の帯電が取り除かれて予備加熱Ｏ−ラおよびキャン
に一様に密着し、その結果、しわのない特性の均一な磁
気記録媒体が得られる。

実施例 以下、本発明の製造方法を具体的な一実施例に基づいて
説明する。

第１図は本発明の製造方法を実施する真空蒸着装置を示
し、第３図と同様の作用を成すものには同一符号が付け
られており、高分子材料基板１が予備加熱ローラ３に接
し始める直前にグロー放電用電極８によりグロー放電処
理が施される点だけが第３図とは異なる。グロー放電用
電極８に電力を供給し真空度を調整することにより電極
近傍にグロー放電が発生する。なお、グロー放電用電極
８は、グロー放電が基板１が予備加熱ローラ３に接し始
める部分にも及ぶように配置されている。

このグロー放電状態にある気体中を基板１が通過するこ
とにより、基板１の表面状態が均一になり、かつ基板１
の帯電が取り除かれる。その結果、キャン２への基板１
の貼り付きが一様になり、しわのない特性の均一な磁気
記録媒体が得られる。

グロー放電の形式としては、直流、交流、高周波、マグ
ネトロン形など、種々あるが、これらのいずれでも良い
。グロー放電を生じさせるために真空槽内に導入する気
体としては、Ａ「あるいはＮ２が安定性の点から好まし
い。

なお、グロー放電用電極を第５図に示すように、基板１
の予備加熱ローラ３への入口近傍から離して設置すると
、上述の効果は大幅に低下してしまう。これは、グロー
放電処理を受けた基板１が予備加熱Ｏ−ラ３に接し始め
るまでに、真空槽内の気体やフリーローラ９に接するの
で、グロー放電処理の効果が弱められてしまい、予備加
熱ローラ３への密着性が不均一になり、これが原因で円
筒状キャン２への密着性も不均一になるためだと考えら
れる。

また、グロー放電処理は基板１の片側だけに施してもか
なりの効果が認められるが、第１図に示す如く基板１の
両側に施すことが望ましい。さらに第２図に示す如く、
真空槽１１内を仕切り板１０によってグロー放電処理部
Ｂと蒸着膜形成部Ｃとに仕切り、蒸着膜形成部Ｃの真空
度をグロー放電処理部Ｂよりも高い真空度に保つことに
より、磁性層の磁気特性が向上する。第２図において、
１２は排気ポンプである。

また、磁性層とキャン２の周面との闇に電圧を印加する
ことにより、基板１のキャン２への密着性が向上し、よ
り安定な媒体が得られる。

なお、Ｇｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を真空蒸着法で作製
する際には、前述のようにキャン２の局面温度を昇温す
る必要があるので、本発明はこの場合に特に有効である
。

次に本発明のより具体的な実験例を説明する。

［実験例］ 第２図の真空蒸着装置にて、基板１として膜厚１０μ霧
のポリイミドフィルムを使用し、この上に磁性層として
膜厚３０００　ＡのＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を形成
した。グロー放電用電源としては１３、ｆＳＭＨｚの高
周波電源を用い、グロー放電用電極８をポリイミドフィ
ルムが予備加熱ローラ３に接し始める直前に設置した。

グロー放電を発生させるために、グロー放電用電極の近
傍からＡ「を導入し、グロー放電部近傍の真空度を０．
０１７ｏｒｒとした。この状態で蒸着膜形成部近傍の真
空度は１．２Ｘ　１Ｇ−’　Ｔ　Ｏｒｒであった。また
予備加熱ローラ３及びキャン２の周面の温度を、それぞ
れ１５０℃及び２６０℃とした。また、キャン２の周面
とＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜との間に１２０ボルトの
電圧を印加した。

このようにして形成された膜はしわが全くなく、長さ方
向及び幅方向に特性が均一であり、垂直磁気記録媒体と
して優れた特性を有していた。これに対し、グロー放電
処理を施さない場合には、長さ方向及び幅方向に均一な
特性の膜は得られなかった。なお、上記のように、ポリ
イミドフィルム上に直接ｃｏ−Ｃｒ膜を形成せずに、間
にＴ１あるいはＮｉ−Ｆｅ等の下地層を介してＣｏ　−
Ｏｒ膜を形成する場合にも同様の効果が認められた・。

発明の詳細 な説明のように本発明の磁気記録媒体の製造方法は、高
分子材料基板が予備加熱ローラに接し始める直前に、基
板にグロー放電処理を施し、円筒状キャン位置で高分子
材料基板上に直接にあるいは下地層を介して金ｌｉ！薄
膜磁性層を真空蒸着するため、基板が予備加熱ローラに
接し始める直前（ここで言う直前とは予備加熱ローラに
接し始める部分を含んでいる。）に基板をグロー放電処
理すると、基板の表面状態が均一になり、かつグロー放
電による除電効果のために基板の帯電が取り除かれて予
備加熱ローラおよびキャンに一様に密着し、完成した磁
気記録媒体は高分子材料基板上にしわがなく、長さ方向
及び幅方向に特性が均一な磁性層であった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造方法を実施する真空蒸着装置の一
実施例の構成図、第２図は第１図の他の実施例の構成図
、第３図は従来の真空蒸着装置の構成図、第４図は従来
の方法で磁性層を蒸着した場合の保磁力のむらを示す説
明図、第５図は第１図におけるグロー放電用電極の配設
位置説明図である。 １・・・高分子材ｎ基板、２・・・円筒状キャン、３・
・・予備加熱ローラ、４・・・供給ロール、５・・・巻
取りロール、７・・・蒸発源、８・・・グロー放電用電
極、１０・・・仕切り板、１１・・・真空槽、Ｂ・・・
グロー放電処理部、Ｃ・・・蒸着膜形成部 代理人　　　森　　本　　義　　弘 第１図 第３図 第４図 長２（−〕 第５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、高分子材料基板を予備加熱ローラに沿って走行させ
   た後に昇温された円筒状キャンの周面に沿って走行させ
   て前記円筒状キャン位置で前記基板上に直接あるいは下
   地層を介して金属薄膜磁性層を真空蒸着法によって形成
   する際に、基板が前記予備加熱ローラに接し始める直前
   に基板にグロー放電処理を施す磁気記録媒体の製造方法
   。 ２、グロー放電処理を、基板の両面に施すことを特徴と
   する特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方
   法。 ３、グロー放電処理と磁性層の蒸着とを真空槽内で両室
   間に差圧を有する別々の室で実施することを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。 ４、磁性層と円筒状キャンの周面の電位を異ならせるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒
   体の製造方法。 ５、グロー放電用のガスとして、ＡｒあるいはＮ＿２を
   用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁
   気記録媒体の製造方法。 ６、磁性層としてＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を用いる
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録
   媒体の製造方法。