JPH0433124B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0433124B2 JPH0433124B2 JP23901784A JP23901784A JPH0433124B2 JP H0433124 B2 JPH0433124 B2 JP H0433124B2 JP 23901784 A JP23901784 A JP 23901784A JP 23901784 A JP23901784 A JP 23901784A JP H0433124 B2 JPH0433124 B2 JP H0433124B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- width
- substrate
- film
- auxiliary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成装
置に関するものである。
置に関するものである。
(従来技術とその問題点)
高密度記録媒体として近年各方面で研究、開発
がすすめられている垂直磁気記録媒体は、第1図
aにその一部断面図に示すように、フレキシブル
な基体1の最上面に垂直磁化膜2をスパツタリン
グ又はイオンプレーテイング又は蒸着により形成
したものである。第1図bに示すように、この最
上面の垂直磁化膜2と基体1の間に記録再生特性
を向上させる為、軟磁性膜3を重ね形成する場合
もある。
がすすめられている垂直磁気記録媒体は、第1図
aにその一部断面図に示すように、フレキシブル
な基体1の最上面に垂直磁化膜2をスパツタリン
グ又はイオンプレーテイング又は蒸着により形成
したものである。第1図bに示すように、この最
上面の垂直磁化膜2と基体1の間に記録再生特性
を向上させる為、軟磁性膜3を重ね形成する場合
もある。
垂直磁気記録媒体の特徴である高密度記録再生
特性を十分に生かす為には、ヘツドと媒体の間隔
いわゆるスペーシングは小さい程良い。この為に
は媒体の表面が平滑でなければならない。
特性を十分に生かす為には、ヘツドと媒体の間隔
いわゆるスペーシングは小さい程良い。この為に
は媒体の表面が平滑でなければならない。
従来の媒体形成法をスパツタリングで形成する
場合について第2図により説明すると、アルゴン
ガスをガス導入バルブ4より真空チエンバー5内
に導入し、強磁性体ターゲツト6にスパツタ電源
12を接続してグロー放電を起こし、強磁性体タ
ーゲツト6からスパツタ粒子を飛び出させる。ス
パツタ粒子は、加熱源7により40℃から300℃の
範囲の所定温度に加熱された回転ロール8に密着
しつゝ補助ロール9に案内されて走行する基体
(ポリエステルフイルム等)1の表面に付着し
こゝに磁性体薄膜が形成される。ただし、回転ロ
ール8及び補助ロール9としては平滑円筒面を有
するロールが用いられている。
場合について第2図により説明すると、アルゴン
ガスをガス導入バルブ4より真空チエンバー5内
に導入し、強磁性体ターゲツト6にスパツタ電源
12を接続してグロー放電を起こし、強磁性体タ
ーゲツト6からスパツタ粒子を飛び出させる。ス
パツタ粒子は、加熱源7により40℃から300℃の
範囲の所定温度に加熱された回転ロール8に密着
しつゝ補助ロール9に案内されて走行する基体
(ポリエステルフイルム等)1の表面に付着し
こゝに磁性体薄膜が形成される。ただし、回転ロ
ール8及び補助ロール9としては平滑円筒面を有
するロールが用いられている。
この従来の方法によると次の問題が生ずる。即
ち基体1が回転ロール8及び補助ロール9の全面
に密着して走行する為、回転ロール8及び補助ロ
ール9の表面に凹凸があると、その凹凸がその
まゝ基体1に刻印される。前述したように磁性体
膜に垂直磁気記録媒体としての特性を持たせる為
回転ロールは加熱されているので、基体1は軟化
し、凹凸は極めて刻印されやすい状態になつてい
る。さらにまた、基体1には熱による膨張、収縮
があるが、これらロールに密着する基体1は、走
行方向に直角な方向にに・げ・ることが困難なため、
とかく走行方向に平行なし・わ・が生じ易い。
ち基体1が回転ロール8及び補助ロール9の全面
に密着して走行する為、回転ロール8及び補助ロ
ール9の表面に凹凸があると、その凹凸がその
まゝ基体1に刻印される。前述したように磁性体
膜に垂直磁気記録媒体としての特性を持たせる為
回転ロールは加熱されているので、基体1は軟化
し、凹凸は極めて刻印されやすい状態になつてい
る。さらにまた、基体1には熱による膨張、収縮
があるが、これらロールに密着する基体1は、走
行方向に直角な方向にに・げ・ることが困難なため、
とかく走行方向に平行なし・わ・が生じ易い。
(発明の目的)
本発明な、上述の問題を解決し、回転ロール及
び補助ロールによつて生ずる媒体表面の凹凸や媒
体のし・わ・をなくするかまたは小さいものにした垂
直磁気記録媒体を形成することを可能にする新規
の装置を提供することを目的とする。
び補助ロールによつて生ずる媒体表面の凹凸や媒
体のし・わ・をなくするかまたは小さいものにした垂
直磁気記録媒体を形成することを可能にする新規
の装置を提供することを目的とする。
(発明の構成)
本発明は、フレキシブルな長尺の基体1を蒸発
源に対向配置された回転ロールに接しかつ補助ロ
ールに案内されて移動せしめ、該基体の表面上に
磁性体薄膜をスパツタリング、イオンプレーテイ
ング又は蒸着により形成する垂直磁化膜形成装置
に於て、前記回転ロール及び前記補助ロールの円
周方向に深さ50μm以上の溝部15、従つて突出
部13,14を形成することにより前記目的を達
成したものである。
源に対向配置された回転ロールに接しかつ補助ロ
ールに案内されて移動せしめ、該基体の表面上に
磁性体薄膜をスパツタリング、イオンプレーテイ
ング又は蒸着により形成する垂直磁化膜形成装置
に於て、前記回転ロール及び前記補助ロールの円
周方向に深さ50μm以上の溝部15、従つて突出
部13,14を形成することにより前記目的を達
成したものである。
(実施例)
以下、本発明を実施例により、図に基いて説明
する。
する。
直径が400φの回転ロール及び400φの補助ロー
ルの表面にその円周方向に、第3図に示すように
幅15mmの突出部13及び幅10mmの突出部14及び
幅150mmの溝部15を3mmの段差をつけて形成し
た。これらのロールを用い、基体1として厚さ
50μm幅500mmのポリエステルフイルムを用いこ
れを各ロールの突出部で支持し回転ロールの温度
を70℃にして走行させ表面上に厚さ0.5μmのコバ
ルト―クロム合金膜をアルゴンスパツタ圧力7×
10-3Torr、放電電流10A、放電電圧350V、フイ
ルムとターゲツト間距離60mmで形成した。そして
ロールの溝部15で形成さた媒体部分をプレスで
打ち抜き5″プロツピーデイスクとして表面を段差
計で測定したところポリエステルフイルムの表面
平均粗さ100Åとほぼ同じ表面平均粗さの垂直磁
気記録媒体が得られた。又レベルゲージにて、媒
体表面のしわの高さを測定して判定したがし・わ・は
観測されなかつた。
ルの表面にその円周方向に、第3図に示すように
幅15mmの突出部13及び幅10mmの突出部14及び
幅150mmの溝部15を3mmの段差をつけて形成し
た。これらのロールを用い、基体1として厚さ
50μm幅500mmのポリエステルフイルムを用いこ
れを各ロールの突出部で支持し回転ロールの温度
を70℃にして走行させ表面上に厚さ0.5μmのコバ
ルト―クロム合金膜をアルゴンスパツタ圧力7×
10-3Torr、放電電流10A、放電電圧350V、フイ
ルムとターゲツト間距離60mmで形成した。そして
ロールの溝部15で形成さた媒体部分をプレスで
打ち抜き5″プロツピーデイスクとして表面を段差
計で測定したところポリエステルフイルムの表面
平均粗さ100Åとほぼ同じ表面平均粗さの垂直磁
気記録媒体が得られた。又レベルゲージにて、媒
体表面のしわの高さを測定して判定したがし・わ・は
観測されなかつた。
これに対し、夫々の表面平均粗さが700〜600Å
で、直径が400φの回転ロールと40φの補助ロール
の、溝部、従つて突出部を持たない従来のロール
を70℃に加熱し、上記と同じスパツタ条件で厚さ
50μ幅500mmのポリエステルフイルム上にコバル
ト―クロム膜を0.5μ形成し、打抜いて5″フロツピ
ーデイスクにし、その平均表面粗さを測定したと
ころ、平均表面粗さはロールの粗さと同程度の
750Å〜600Åであつた。又高さ3mmのし・わ・が多数
観察された。
で、直径が400φの回転ロールと40φの補助ロール
の、溝部、従つて突出部を持たない従来のロール
を70℃に加熱し、上記と同じスパツタ条件で厚さ
50μ幅500mmのポリエステルフイルム上にコバル
ト―クロム膜を0.5μ形成し、打抜いて5″フロツピ
ーデイスクにし、その平均表面粗さを測定したと
ころ、平均表面粗さはロールの粗さと同程度の
750Å〜600Åであつた。又高さ3mmのし・わ・が多数
観察された。
上記の本発明の実施例におけるロールの溝部1
5、従つて突出部13,14の幅、深さ、数は本
実施例に限定されるものでなく、製造せんとする
フロツピーデイスクの径、等に応じて随意選択さ
れるものである。振動試料型磁束計によつて測定
された垂直磁気記録媒体の磁気特性は第4図に示
される通りであつて、溝部15で形成された媒体
の磁気特性(破線)は、従来の方法による媒体の
磁気特性(実線)に比べて垂直異方性及び保持力
が優れることを示している。なお、本発明の如く
ロールに溝部15及び突出部13,14を形成す
るときはロールの表面粗さを小さくする必要がな
くなり、ロールの製作費さらにはロールの保守費
用が大幅に低減されるという副次的効果がある。
さらに、媒体表面の平均粗さが小さく保たれる
為、一層の高密度記録が可能となり、さらにま
た、ヘツドによる媒体の摩耗が減少し、媒体の耐
久性が伸びる効果もある。
5、従つて突出部13,14の幅、深さ、数は本
実施例に限定されるものでなく、製造せんとする
フロツピーデイスクの径、等に応じて随意選択さ
れるものである。振動試料型磁束計によつて測定
された垂直磁気記録媒体の磁気特性は第4図に示
される通りであつて、溝部15で形成された媒体
の磁気特性(破線)は、従来の方法による媒体の
磁気特性(実線)に比べて垂直異方性及び保持力
が優れることを示している。なお、本発明の如く
ロールに溝部15及び突出部13,14を形成す
るときはロールの表面粗さを小さくする必要がな
くなり、ロールの製作費さらにはロールの保守費
用が大幅に低減されるという副次的効果がある。
さらに、媒体表面の平均粗さが小さく保たれる
為、一層の高密度記録が可能となり、さらにま
た、ヘツドによる媒体の摩耗が減少し、媒体の耐
久性が伸びる効果もある。
(発明の効果)
本発明の凹凸及びし・わ・をなくするか小さいもの
にした磁気記録媒体表面を製造するすぐれた効果
をもつ。
にした磁気記録媒体表面を製造するすぐれた効果
をもつ。
第1図a,bは垂直磁気記録媒体の部分的断面
図である。第2図はスパツタリングによる垂直磁
化膜形成装置の概念図。第3図は本発明の実施例
の回転ロール及び補助ロールの外観図。第4図は
本実施例及び従来の装置で作られた垂直磁気記録
媒体の磁気特性のグラフ。 1……基体、2……垂直磁化膜、3……軟磁性
膜、4……ガス導入バルブ、5……真空チエンバ
ー、6……強磁性体ターゲツト、7……加熱源、
8……回転ロール、9……補助ロール、10……
防着板、11……真空ポンプ、12……スパツタ
電源、13,14……回転ロール及び補助ロール
の突出部、15……回転ロール及び補助ロールの
溝部。
図である。第2図はスパツタリングによる垂直磁
化膜形成装置の概念図。第3図は本発明の実施例
の回転ロール及び補助ロールの外観図。第4図は
本実施例及び従来の装置で作られた垂直磁気記録
媒体の磁気特性のグラフ。 1……基体、2……垂直磁化膜、3……軟磁性
膜、4……ガス導入バルブ、5……真空チエンバ
ー、6……強磁性体ターゲツト、7……加熱源、
8……回転ロール、9……補助ロール、10……
防着板、11……真空ポンプ、12……スパツタ
電源、13,14……回転ロール及び補助ロール
の突出部、15……回転ロール及び補助ロールの
溝部。
Claims (1)
- 1 フレキシブルな長尺の基体を、蒸発源に対向
設置された回転ロールに接し、かつ、補助ロール
に案内させて移動せしめ、該基体の表面上に磁性
体薄膜をスパツタリング、イオンプレーテイング
又は蒸着により形成する垂直磁化膜形成装置に於
いて、前記回転ロール及び前記補助ロールの表面
に、円周方向に平行に溝部を形成し、該溝部の幅
を、該基体から打ち抜きされる垂直磁気記録体の
記録面の幅よりも広く構成したことを特徴とする
垂直磁化膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23901784A JPS61116812A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | 垂直磁化膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23901784A JPS61116812A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | 垂直磁化膜形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61116812A JPS61116812A (ja) | 1986-06-04 |
| JPH0433124B2 true JPH0433124B2 (ja) | 1992-06-02 |
Family
ID=17038651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23901784A Granted JPS61116812A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | 垂直磁化膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61116812A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006045593A (ja) * | 2004-08-02 | 2006-02-16 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
1984
- 1984-11-13 JP JP23901784A patent/JPS61116812A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61116812A (ja) | 1986-06-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |