JPS601627A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS601627A JPS601627A JP58109525A JP10952583A JPS601627A JP S601627 A JPS601627 A JP S601627A JP 58109525 A JP58109525 A JP 58109525A JP 10952583 A JP10952583 A JP 10952583A JP S601627 A JPS601627 A JP S601627A
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- JP
- Japan
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- lubricant
- thin film
- layer
- potential
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、耐久性の優れた金属薄膜型の磁気記録媒体の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
近年、磁気記録の高密度化の要望の高寸りと共に、強磁
性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の開発が各
方面で進められている。
性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の開発が各
方面で進められている。
磁気記録媒体の基本構成は第１図に断面図で示されるよ
うに、支持体１上に真空蒸着法、スパッタリング法等の
薄膜形成手段によ多形成された強磁性金属薄膜２と、強
磁性金属薄膜２の耐摩耗性向上等の目的で配される潤滑
剤塗布層３とから成り、必要に応じて、図示していない
が、非磁性薄膜、軟磁性薄膜、支持体１０強磁性金属薄
膜２を有する面と反対側の面に配される塗布層等が構成
要素として付加されるものであるＯ しかし、かかる磁気記録媒体は、用いられる強磁性金属
薄膜２の厚みが、０．３μｍ以下と薄いため支持体１の
表面粗さが、そのｉｔ強磁性金属薄膜２の表面粗さにな
るため極めて平滑な支持体１を用いなくてはならない。
うに、支持体１上に真空蒸着法、スパッタリング法等の
薄膜形成手段によ多形成された強磁性金属薄膜２と、強
磁性金属薄膜２の耐摩耗性向上等の目的で配される潤滑
剤塗布層３とから成り、必要に応じて、図示していない
が、非磁性薄膜、軟磁性薄膜、支持体１０強磁性金属薄
膜２を有する面と反対側の面に配される塗布層等が構成
要素として付加されるものであるＯ しかし、かかる磁気記録媒体は、用いられる強磁性金属
薄膜２の厚みが、０．３μｍ以下と薄いため支持体１の
表面粗さが、そのｉｔ強磁性金属薄膜２の表面粗さにな
るため極めて平滑な支持体１を用いなくてはならない。
従って、第１図の構成の磁気記録媒体は、回転シリンダ
、回転ヘッド等を構成要素とするヘリカル走査型のビデ
オチープレコーグ１１．下Ｖ、Ｔａａという）に於て利
用する時、大きな摩擦を受けるために潤滑剤を選んでも
、Ｖ、Ｔ、Ｒでのくり返し使用により走行が不安定にな
り再生信号が時間方向でゆらぐ、いわゆるジノターガ発
生し、再生画面がゆれたり曲ったりする不都合があった
。
、回転ヘッド等を構成要素とするヘリカル走査型のビデ
オチープレコーグ１１．下Ｖ、Ｔａａという）に於て利
用する時、大きな摩擦を受けるために潤滑剤を選んでも
、Ｖ、Ｔ、Ｒでのくり返し使用により走行が不安定にな
り再生信号が時間方向でゆらぐ、いわゆるジノターガ発
生し、再生画面がゆれたり曲ったりする不都合があった
。
特に前記現象は、磁気記録媒体の長手位置により強く現
れる個所と目視観察ではジッターを無視できる部分のあ
ることを追求した結果、塗布機を用いて潤滑剤を塗布す
る時、強磁性金属薄膜の表面が電位を有し且つその電位
が長手位置で変化する現象と強い相関があることを見出
した。
れる個所と目視観察ではジッターを無視できる部分のあ
ることを追求した結果、塗布機を用いて潤滑剤を塗布す
る時、強磁性金属薄膜の表面が電位を有し且つその電位
が長手位置で変化する現象と強い相関があることを見出
した。
発明の目的
本発明は耐久性の優れた金属薄膜型の磁気記録媒体の製
造方法を提供することを目的とする。
造方法を提供することを目的とする。
発明の構成
本発明は支持体上に形成した強磁性金属薄膜上に潤滑剤
溶液を塗布する際に、前記強磁性金属薄膜を一定の電位
に保持することを特徴とする。
溶液を塗布する際に、前記強磁性金属薄膜を一定の電位
に保持することを特徴とする。
強磁性金属薄膜を構成する結晶粒子は、１０八から２０
０人ぐらいの範囲の酸化層を通常有しているため潤滑剤
を塗布する時、巻回された状態から巻き戻される際大気
中で剥離帯電し、表面に電荷が残りその電荷量は一定し
ていない。
０人ぐらいの範囲の酸化層を通常有しているため潤滑剤
を塗布する時、巻回された状態から巻き戻される際大気
中で剥離帯電し、表面に電荷が残りその電荷量は一定し
ていない。
又磁気記録媒体は大量に生産されるものであるから連続
して処理、加工される単位は５．ｏｏｏ ｙｄ程の大き
な面積になるため、潤滑剤溶液も循環圧送される。
して処理、加工される単位は５．ｏｏｏ ｙｄ程の大き
な面積になるため、潤滑剤溶液も循環圧送される。
その際潤滑剤溶液も配管、ポンプ、容器壁、コーク−ヘ
ッド等の構成機材と摩擦帯電する。
ッド等の構成機材と摩擦帯電する。
塗布する相手側と塗布する潤滑剤溶液が両方共同じ極性
、同じ電位に帯電することは考えにくいことであり、こ
のため強磁性金属薄膜と潤滑剤溶液との間で塗布される
短時間の間に反撥現象が生じたり、放電現象が発生して
潤滑剤層の形成が不均一になる。
、同じ電位に帯電することは考えにくいことであり、こ
のため強磁性金属薄膜と潤滑剤溶液との間で塗布される
短時間の間に反撥現象が生じたり、放電現象が発生して
潤滑剤層の形成が不均一になる。
本発明はかかる問題解決のために、塗布機の構成を吟味
して確実に潤滑剤溶液を塗布する際の強磁性金属薄膜を
接地することで均一な潤滑剤層を得ることに成功したこ
とに基ずくものである。
して確実に潤滑剤溶液を塗布する際の強磁性金属薄膜を
接地することで均一な潤滑剤層を得ることに成功したこ
とに基ずくものである。
更に検討を加えた結果、接地によらなくても、一定の電
位に保持することで同様の効果が確認できた。
位に保持することで同様の効果が確認できた。
実施例の説明
第２図は本発明の実施に用いた塗布機の要部構成図であ
る。
る。
支持体１と強磁性金属薄膜２とから成る磁気記録媒体用
原波４（以下これを基板という）は矢印入方向に移動す
る。
原波４（以下これを基板という）は矢印入方向に移動す
る。
基板４の強磁性金属薄膜２を有する側の表面にアプリケ
−クロール５により運ばれる潤滑剤溶液６が塗布され、
潤滑層８が形成される。
−クロール５により運ばれる潤滑剤溶液６が塗布され、
潤滑層８が形成される。
この際均−な潤滑層８の厚みを得るために計量が行われ
、この場合は矢印Ｂ方向に回転するアプリケ−クロール
５と反対のＣ方向に回転するメタリングロール７とのす
き間で主として調節されるものである。
、この場合は矢印Ｂ方向に回転するアプリケ−クロール
５と反対のＣ方向に回転するメタリングロール７とのす
き間で主として調節されるものである。
一定のウェット厚みを有する潤滑層８を付与された基板
４は図示しない乾燥炉に進み、その後巻き取らｊ、る。
４は図示しない乾燥炉に進み、その後巻き取らｊ、る。
アプリケータロール６により過剰に運ばれた潤滑剤性液
６の一部はメタリングロール７に転写し、ドクターブレ
ード９によりかき落されて潤滑剤溶液６の容器１０に戻
る。
６の一部はメタリングロール７に転写し、ドクターブレ
ード９によりかき落されて潤滑剤溶液６の容器１０に戻
る。
１１は少なくとも表面が良導電性材料よりなる電位規制
ローラーであり、この電位規制ローラー１１はブラフ１
２により接地されている。
ローラーであり、この電位規制ローラー１１はブラフ１
２により接地されている。
１３はバックアップローラであり、バックアップローラ
１３は基板４を電位規制ローラー１１とではさんで強磁
性金層薄膜２の電位を一定に保持させる。バックアップ
ロール１３は、ゴムで構成するのが好ましい。
１３は基板４を電位規制ローラー１１とではさんで強磁
性金層薄膜２の電位を一定に保持させる。バックアップ
ロール１３は、ゴムで構成するのが好ましい。
１４はフリーローラーであり潤滑層８を形成する潤滑剤
溶液６が乾燥するまでは基板４の潤滑層８側と反対側の
面に接するものである。
溶液６が乾燥するまでは基板４の潤滑層８側と反対側の
面に接するものである。
電位規制ローラ１１は、潤滑剤溶液６が塗布される位置
に近くなるように構成するのが奸才しい。
に近くなるように構成するのが奸才しい。
また、電位規制ローラー１１の電位は接地によらず直流
電のにより一３００Ｖ〜＋３００Ｖの範囲で調整するこ
とができる。この範囲を越えると強磁性金属薄膜２にピ
ンホールが発生することがあるので好捷しくない。
電のにより一３００Ｖ〜＋３００Ｖの範囲で調整するこ
とができる。この範囲を越えると強磁性金属薄膜２にピ
ンホールが発生することがあるので好捷しくない。
尚、本発明は、上記実施例に示す塗布機以外の他の実布
機においても同様に実施可能であり、捷た潤滑剤溶液の
種類、支持体の種類１強磁性金属薄膜の種類について下
記の具体的な実施例についても全く同じ作用効果を有す
るものである。
機においても同様に実施可能であり、捷た潤滑剤溶液の
種類、支持体の種類１強磁性金属薄膜の種類について下
記の具体的な実施例についても全く同じ作用効果を有す
るものである。
本発明の実施と比較例の実施に用いた塗布機の寸法構成
等は次の通りである。
等は次の通りである。
アプリケータロール６の径は２０口、アプリケ−クロー
ル５と基板４が接する位置と径６Ｃｒｎの電位規制ロー
ラ１１との距離１ｄ １０ ａｎで、比較例は電位規制
ロール１１をはずし、その位置に静電電圧計を近ずけて
基板４の表面電位を計測した。
ル５と基板４が接する位置と径６Ｃｒｎの電位規制ロー
ラ１１との距離１ｄ １０ ａｎで、比較例は電位規制
ロール１１をはずし、その位置に静電電圧計を近ずけて
基板４の表面電位を計測した。
以下さらに具体的な実施例を示す。
（実施例 １）
厚さ９μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（以
下フィルム八と称す）を８０’Ｃの媒体を周囲に循環さ
せが筒状キャン（図示せず）の外周に沿ってフィルムＡ
を２２ ｎＬ／ ｍｍで移動させながら二元蒸発源を用
いて加熱電子ビームをそれぞれｃｏ に対して７０ Ｋ
Ｗ 、、Ｃｒに対して３６ ＫＶｉｌ投入するように制
御してＣｒが１９重量％になる強磁性金属薄膜０．１９
μｍの厚さで形成した基板を得た。
下フィルム八と称す）を８０’Ｃの媒体を周囲に循環さ
せが筒状キャン（図示せず）の外周に沿ってフィルムＡ
を２２ ｎＬ／ ｍｍで移動させながら二元蒸発源を用
いて加熱電子ビームをそれぞれｃｏ に対して７０ Ｋ
Ｗ 、、Ｃｒに対して３６ ＫＶｉｌ投入するように制
御してＣｒが１９重量％になる強磁性金属薄膜０．１９
μｍの厚さで形成した基板を得た。
前記蒸着時の真空度は８ Ｘ １０ ＴＯＲＲであり、
得られ、た強磁性金属薄膜は垂直磁化膜である。
得られ、た強磁性金属薄膜は垂直磁化膜である。
前記基板を大気中に取出し４時間後に潤滑剤溶液を乾燥
後の膜厚が夫々約５ｏ人になるように前述の塗布機を用
いて基板に塗布した。
後の膜厚が夫々約５ｏ人になるように前述の塗布機を用
いて基板に塗布した。
用いた潤滑剤溶液はｎ−へキサン中にミリスチン酸を溶
解させたもので塗布速度（ｒ：ｉ ６０ ｍ／ｍｊｎで
ある。
解させたもので塗布速度（ｒ：ｉ ６０ ｍ／ｍｊｎで
ある。
５、○００ ７７１長の基板を５等分して潤滑剤溶液の
塗布を１．○○○ｍ単位で行って、８鵡幅の磁気テープ
にしてＶ、Ｔ、Ｒてのくり返し走行を行った。
塗布を１．○○○ｍ単位で行って、８鵡幅の磁気テープ
にしてＶ、Ｔ、Ｒてのくり返し走行を行った。
比較例として電位規制ロール１１をはずし、その位置で
基板の表面電位を観測した。
基板の表面電位を観測した。
その１例を第３図に示した。このように比較例では表面
電位が不安定であったが実施例では接地電位で、この両
者の差はくり返し走行時のテープ長手位置での場所によ
る摩擦係数の増加現象として現われ、その結果再生画面
がゆらぐジッターとして現れたもので、長手に１００ｍ
を１巻として本発明品６０巻、比較例６０巻を２５°ｃ
、６ｏ％Ｒ，Ｈ’、３０″Ｃ’＋ ８５．％ Ｒ、Ｈ−
’ 、 （７Ｊ）環境テ調ヘタトコろ、それぞれ１００
回のくり返し使用で本発明品はジッターがはっきり画面
で判別できるものが皆無であったのに対して比較例では
２５°Ｃ２６０％Ｒ、Ｈ、テ３０ ％、３０°Ｃ、８５
％ Ｒ、Ｈｏｆ ６０ ％ （Ｄテープがジッター成分
としてはっきり認められた。
電位が不安定であったが実施例では接地電位で、この両
者の差はくり返し走行時のテープ長手位置での場所によ
る摩擦係数の増加現象として現われ、その結果再生画面
がゆらぐジッターとして現れたもので、長手に１００ｍ
を１巻として本発明品６０巻、比較例６０巻を２５°ｃ
、６ｏ％Ｒ，Ｈ’、３０″Ｃ’＋ ８５．％ Ｒ、Ｈ−
’ 、 （７Ｊ）環境テ調ヘタトコろ、それぞれ１００
回のくり返し使用で本発明品はジッターがはっきり画面
で判別できるものが皆無であったのに対して比較例では
２５°Ｃ２６０％Ｒ、Ｈ、テ３０ ％、３０°Ｃ、８５
％ Ｒ、Ｈｏｆ ６０ ％ （Ｄテープがジッター成分
としてはっきり認められた。
ジッター発生個所と表面電位の関係を追求したところ第
３図に示すように電位が急変している所、すなわち、矢
印り、Ｅ、Ｆのところに対応していることが明らかとな
った。
３図に示すように電位が急変している所、すなわち、矢
印り、Ｅ、Ｆのところに対応していることが明らかとな
った。
（実施例２）
厚さ７μｍの芳香族ポリアミドフィルム（以下フィルム
Ｂと称す）を２００°Ｃの媒体を周囲に循環させた円筒
状キャンを真空容器より絶縁保持し前記円筒状キャンの
外周に沿って前記フィルムＢを３０＠／ｍｍで移動させ
ながら二元蒸発源を用い加熱電子ビームをそれぞれｃｏ
に対して了ａ ＫＷ 。
Ｂと称す）を２００°Ｃの媒体を周囲に循環させた円筒
状キャンを真空容器より絶縁保持し前記円筒状キャンの
外周に沿って前記フィルムＢを３０＠／ｍｍで移動させ
ながら二元蒸発源を用い加熱電子ビームをそれぞれｃｏ
に対して了ａ ＫＷ 。
Ｃｒに対して４０ ＫＷ投入するように制御してＣｒが
２０重量％となる強磁性金属薄膜である垂直磁化膜を０
．２μｍの厚さで形成した基板を得た。
２０重量％となる強磁性金属薄膜である垂直磁化膜を０
．２μｍの厚さで形成した基板を得た。
蒸着に先立ち真空容器内部を２ Ｘ １０ ’ＴＯＲＲ
まで排気した後、酸素を導入して２ Ｘ １Ｏ−６ＴＯ
ＲＲで前記強磁性金属薄膜を形成したがその時に円筒状
キャンには１３．５６ 計の高周波電圧を印加した。
まで排気した後、酸素を導入して２ Ｘ １Ｏ−６ＴＯ
ＲＲで前記強磁性金属薄膜を形成したがその時に円筒状
キャンには１３．５６ 計の高周波電圧を印加した。
この高周波電圧は陽極電圧３．５ ＫＶで入射波５１５
０ ＣＷ〕反射波５０ ［Ｗ’：］の整合状態を保持し
た。
０ ＣＷ〕反射波５０ ［Ｗ’：］の整合状態を保持し
た。
前記基板を大気中に取出し、１日後に潤滑剤溶液を乾燥
後の膜厚が約５０八になるように前述の塗布機を用いて
基板に塗布した。
後の膜厚が約５０八になるように前述の塗布機を用いて
基板に塗布した。
塗布に用いた潤滑剤溶液は潤滑剤であるステアリン酸を
メチルエチルケトンに溶解させたものである。塗布速度
は、７６ ｍ／ｍＭで、比較例と共に各々５０００７７
Ｈの基板を夫々５等分して１０００ｍ単位で塗布をくり
返し、８１１１Ａ幅の磁気テ１プにしてＶ、Ｔ、Ｒでの
くり返し走行を行った。
メチルエチルケトンに溶解させたものである。塗布速度
は、７６ ｍ／ｍＭで、比較例と共に各々５０００７７
Ｈの基板を夫々５等分して１０００ｍ単位で塗布をくり
返し、８１１１Ａ幅の磁気テ１プにしてＶ、Ｔ、Ｒでの
くり返し走行を行った。
３０ ’Ｃ、９０％ Ｒ，Ｈ，ノ環境で夫々１７）テー
プを１００回くり返し使用してジッターが画面にはっき
り現れたテープ巻数は本発明品では皆無であったが、比
較例では６０巻中５０％であった。
プを１００回くり返し使用してジッターが画面にはっき
り現れたテープ巻数は本発明品では皆無であったが、比
較例では６０巻中５０％であった。
別の角度から耐久性を調べるためにＶ、Ｔ、Ｒをスチル
フレームモードで操作し、３０’Ｃ，９０％、ＲＨで各
テープの任意位置を１ｏ個所選んで再生出力が３ｄＢ下
がるまでの時間は全テープで測定点５００に対して、本
発明品は全て３０分以上であったのに対し比較例では５
分以下が３４点、５分から１０分が２１点、１０分から
３０分が１３１点とバラツキがあり、かつ耐久性も明ら
かに劣っていた。
フレームモードで操作し、３０’Ｃ，９０％、ＲＨで各
テープの任意位置を１ｏ個所選んで再生出力が３ｄＢ下
がるまでの時間は全テープで測定点５００に対して、本
発明品は全て３０分以上であったのに対し比較例では５
分以下が３４点、５分から１０分が２１点、１０分から
３０分が１３１点とバラツキがあり、かつ耐久性も明ら
かに劣っていた。
発明の効果
以上述へたように本発明の方法によれは既存の塗布機の
一部に例えば電位規制ローラーを配するだけで、従来面
」人件に難のあった金属薄膜型磁気記録媒体の順次性と
りわけ、Ｖ、Ｔ、Ｒでのくり返し使用による走行不安定
現象によるシック−発生に起因した画質の低下のない、
メチルライフの長い磁気テープを再現性良く大量に得る
ことができる０
一部に例えば電位規制ローラーを配するだけで、従来面
」人件に難のあった金属薄膜型磁気記録媒体の順次性と
りわけ、Ｖ、Ｔ、Ｒでのくり返し使用による走行不安定
現象によるシック−発生に起因した画質の低下のない、
メチルライフの長い磁気テープを再現性良く大量に得る
ことができる０
【図面の簡単な説明】
第１図は磁気記録媒体の断面図、第２図は本発明の実施
に用いた塗布機の一例の要部構成図、第３図は比較例の
基板の塗布時の表面電位の長手変化の一例を示す表面電
位特性図である。 １− 支持体、２−−−一強磁性金属薄膜、３・・・・
・潤滑剤塗布層、４ 基板、５ アプリケ−タロ−ノペ
６ 潤滑剤溶液、１１ ・電位規制ロール。
に用いた塗布機の一例の要部構成図、第３図は比較例の
基板の塗布時の表面電位の長手変化の一例を示す表面電
位特性図である。 １− 支持体、２−−−一強磁性金属薄膜、３・・・・
・潤滑剤塗布層、４ 基板、５ アプリケ−タロ−ノペ
６ 潤滑剤溶液、１１ ・電位規制ロール。
Claims (1)
- 支持体上に形成した強磁性金属薄膜上に潤滑剤溶液を塗
布する際に、前記強磁性金属薄膜を一定電位に保持する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58109525A JPS601627A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58109525A JPS601627A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS601627A true JPS601627A (ja) | 1985-01-07 |
| JPH0443323B2 JPH0443323B2 (ja) | 1992-07-16 |
Family
ID=14512462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58109525A Granted JPS601627A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS601627A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6436465B1 (en) * | 1992-09-17 | 2002-08-20 | Tdk Corporation | Extrusion coating method |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP58109525A patent/JPS601627A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6436465B1 (en) * | 1992-09-17 | 2002-08-20 | Tdk Corporation | Extrusion coating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0443323B2 (ja) | 1992-07-16 |
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