JPS61240608A - 薄膜抵抗パタ−ンの生成方法 - Google Patents
薄膜抵抗パタ−ンの生成方法Info
- Publication number
- JPS61240608A JPS61240608A JP60082812A JP8281285A JPS61240608A JP S61240608 A JPS61240608 A JP S61240608A JP 60082812 A JP60082812 A JP 60082812A JP 8281285 A JP8281285 A JP 8281285A JP S61240608 A JPS61240608 A JP S61240608A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- resist
- resistor
- resistance pattern
- generation
- Prior art date
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- Pending
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、特に薄膜角板形チップ抵抗に適用して有効な
薄膜抵抗パターンの生成方法に関するものである。
薄膜抵抗パターンの生成方法に関するものである。
従来の技術
従来、この種の薄膜パターンの製造方法としては、第２
図ＩＬ−６に示されるような方法がとられていた。
図ＩＬ−６に示されるような方法がとられていた。
２ ・＼ ７
すなわち第２図ａに示されるように、基板１上に電極２
を形成し、次に第２図すのように薄膜抵抗体３を形成し
た後、第２図Ｃに示すように抵抗体として必要なパター
ン上にレジスト４を形成し、その後、第２図ｄに示すよ
うに不必要な抵抗体をエツチング液等により除いた後、
第２図ｄのレジスト４を除去して第２図６に示されるよ
うな薄膜抵抗パターンを生成する方法であった。
を形成し、次に第２図すのように薄膜抵抗体３を形成し
た後、第２図Ｃに示すように抵抗体として必要なパター
ン上にレジスト４を形成し、その後、第２図ｄに示すよ
うに不必要な抵抗体をエツチング液等により除いた後、
第２図ｄのレジスト４を除去して第２図６に示されるよ
うな薄膜抵抗パターンを生成する方法であった。
発明が解決しようとする問題点
このような従来の方法では、抵抗体の除去とレジストの
除去において２種類の薬品を使用しなければならなく、
抵抗体の除去時にエツチング液がレジストの境界部分よ
りレジスト丁の抵抗体部分に浸透して必要な抵抗体をも
エツチングする現象、すなわち、オーバーエツチング現
象を起こし易いという問題点があった。
除去において２種類の薬品を使用しなければならなく、
抵抗体の除去時にエツチング液がレジストの境界部分よ
りレジスト丁の抵抗体部分に浸透して必要な抵抗体をも
エツチングする現象、すなわち、オーバーエツチング現
象を起こし易いという問題点があった。
本発明はこのような問題点を解決するもので、レジスト
の除去と不必要部分の薄膜抵抗体の除去を１種類の薬品
で行うことと、オーバーエツチングを生じなくさせるこ
とを目的とするものである。
の除去と不必要部分の薄膜抵抗体の除去を１種類の薬品
で行うことと、オーバーエツチングを生じなくさせるこ
とを目的とするものである。
３、−
問題点を解決するための手段
この問題を解決するために本発明け、基板」−に電極ぺ
＝ストを印刷・焼結し、その印刷面にアルカリまたは有
機溶剤によって剥離し得るレジストを抵抗膜形成部外に
印刷・形成し、その印刷パターン上に金属薄膜を形成し
た後、前記レジスト及び前記レジスト上の金属薄膜をア
ルカリまたは有機溶剤によって除去することを特徴とし
た薄膜抵抗パターン生成の方法である。
＝ストを印刷・焼結し、その印刷面にアルカリまたは有
機溶剤によって剥離し得るレジストを抵抗膜形成部外に
印刷・形成し、その印刷パターン上に金属薄膜を形成し
た後、前記レジスト及び前記レジスト上の金属薄膜をア
ルカリまたは有機溶剤によって除去することを特徴とし
た薄膜抵抗パターン生成の方法である。
作用
この方法による作用は次のようになる。
すなわち、基板上のレジスト上に不必要な部分として形
成された薄膜抵抗体は、レジストを除去する際にレジス
トと同時に除去され、不必要部分の抵抗体の除去とレジ
ストの除去が１種類の薬品で行えることとなる。また、
レジストの除去剤は、抵抗体に対しては作用しないので
従来の方法で生じていたオーバーエツチングの現象は生
じなくなる。
成された薄膜抵抗体は、レジストを除去する際にレジス
トと同時に除去され、不必要部分の抵抗体の除去とレジ
ストの除去が１種類の薬品で行えることとなる。また、
レジストの除去剤は、抵抗体に対しては作用しないので
従来の方法で生じていたオーバーエツチングの現象は生
じなくなる。
実施例
以丁、本発明の一実施例を第１図ａ −６を使用して説
明する。
明する。
第１図１において、５はアルミナよりなるセラミック基
板で、この基板６−にに銀ペーストにより電極６をスク
リーン印刷により形成し、焼結する。
板で、この基板６−にに銀ペーストにより電極６をスク
リーン印刷により形成し、焼結する。
次に第１図すに示すように製品として不必要な部分にレ
ジスト了を印刷により形成した後、第１図Ｃに示すよう
に印刷面上にニッケル・クロムの薄膜抵抗体８を６μｎ
以■の膜厚で低温スパッタ法により形成する。このもの
を、３％の水酸化ナトリウム液中に浸漬し、レジスト７
とレジストＹ上の薄膜抵抗体８を除去し、洗浄・乾燥し
て第１図ｄトスる。この場合レジスト７け、アルカリに
よって溶解するものを使用したが、有機溶剤等によって
溶解するものでもよい。また、抵抗膜の形成には、低温
スパッタ法を用いたが、真空蒸着法やイオンビーム法な
どでもよい。
ジスト了を印刷により形成した後、第１図Ｃに示すよう
に印刷面上にニッケル・クロムの薄膜抵抗体８を６μｎ
以■の膜厚で低温スパッタ法により形成する。このもの
を、３％の水酸化ナトリウム液中に浸漬し、レジスト７
とレジストＹ上の薄膜抵抗体８を除去し、洗浄・乾燥し
て第１図ｄトスる。この場合レジスト７け、アルカリに
よって溶解するものを使用したが、有機溶剤等によって
溶解するものでもよい。また、抵抗膜の形成には、低温
スパッタ法を用いたが、真空蒸着法やイオンビーム法な
どでもよい。
発明の効用
以上のように本発明によれば、レジストの除去と不必要
部分の薄膜抵抗体の除去を同時に１種類の薬品で行うこ
とができ、オーバーエツチングも生じなく、かつ、工数
も削減でき、薄膜角板形チップ抵抗の薄膜抵抗パターン
の生成方法にきわめて有益な発明である。
部分の薄膜抵抗体の除去を同時に１種類の薬品で行うこ
とができ、オーバーエツチングも生じなく、かつ、工数
も削減でき、薄膜角板形チップ抵抗の薄膜抵抗パターン
の生成方法にきわめて有益な発明である。
第１図ａ −ｄけ本発明の一実施例による薄膜抵抗パタ
ーンの生成方法の工程を示す断面図、第２図ａ −ｅけ
従来の薄膜抵抗パターンの生成方法の工程を示す断面図
である。 ６・ 基板、６・・・電極、了・・・・・レジスト、８
・・・・薄膜抵抗体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
ーンの生成方法の工程を示す断面図、第２図ａ −ｅけ
従来の薄膜抵抗パターンの生成方法の工程を示す断面図
である。 ６・ 基板、６・・・電極、了・・・・・レジスト、８
・・・・薄膜抵抗体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
Claims (1)
- 基板上に電極ペーストを印刷・焼結し、その印刷面に
アルカリまたは有機溶剤によって剥離し得るレジストを
抵抗膜形成部外に印刷・形成し、その印刷パターン上に
金属薄膜を形成した後、前記レジスト及び前記レジスト
上の金属薄膜をアルカリまたは有機溶剤により除去して
なる薄膜抵抗パターンの生成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60082812A JPS61240608A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 薄膜抵抗パタ−ンの生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60082812A JPS61240608A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 薄膜抵抗パタ−ンの生成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61240608A true JPS61240608A (ja) | 1986-10-25 |
Family
ID=13784820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60082812A Pending JPS61240608A (ja) | 1985-04-18 | 1985-04-18 | 薄膜抵抗パタ−ンの生成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61240608A (ja) |
-
1985
- 1985-04-18 JP JP60082812A patent/JPS61240608A/ja active Pending
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