JPS61247902A - パタ−ン検出装置 - Google Patents

パタ−ン検出装置

Info

Publication number
JPS61247902A
JPS61247902A JP60088504A JP8850485A JPS61247902A JP S61247902 A JPS61247902 A JP S61247902A JP 60088504 A JP60088504 A JP 60088504A JP 8850485 A JP8850485 A JP 8850485A JP S61247902 A JPS61247902 A JP S61247902A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
detection
pattern
detection device
pattern detection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60088504A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsuneo Terasawa
恒男 寺澤
Toshishige Kurosaki
利栄 黒崎
Yoshio Kawamura
河村 喜雄
Shinji Kuniyoshi
伸治 国吉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP60088504A priority Critical patent/JPS61247902A/ja
Publication of JPS61247902A publication Critical patent/JPS61247902A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路の製造工程の中で使用される
露光装置において、ウェーハまたはマスクなどの位置合
せのための精密位置計測に好適なパターン検出装置の改
良に関するものである、〔発明の背景〕 従来のパターン検出装置は、例えば特開昭59−721
34号に記載のように、試料からの反射光あるいは透過
光の強度t−電気的にとらえる検出信号取込み部と、該
検出信号から試料位置を算出するための信号処理部とか
ら構成されてい念。しかし、検出信号取込み部に設けで
ある検出光学系のMTFに依存する検出信号の劣化は考
慮されておらず、特に低コントラストの検出信号に対し
て検出精度の劣化は避けられなかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、低コントラストの検出信号に対しても
位置検出のための演算処理の信頼性を向上させるパター
ン検出装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
用いたMT F (Modulation Trans
ferpunction )補正を施してコントラス1
1向上させる手段を設けた。すなわち、重み関数を格納
しておくメモリと重み付き平均処理を実行する積和演算
部とを設け、重み付き平均処理を行なってコントラスト
を向上させた後に位置検出のための演算処理を行なうよ
うに構成した。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明する。
第1図は、本発明のパターン検出装置を搭載した縮小投
影露光装置の光学系の構成を示す。縮小投影露光装置は
、回路パターンの原画であるレティクル5上のパターン
を照明系6で照明し、縮小レンズ4全通してウェーハ1
上に転写する装置である。このとき、前工程でウェーハ
1上に形成されたパターンの位置に合せて新たなパター
ンを転写することが重要である。本発明では、ウェーハ
の位置金玉しく検出するために、検出信号取込み部16
と信号処理部23に加えて、検出信号の重み付き平均処
理を行なうことによりコントラストを向上させるための
鮮鋭処理部20を設けており、以下に述べる方法でウェ
ーハ1の位置を求めている。
ウェーハ1上に形成されている位置合せ用ターゲットパ
ターン2は照明光源8で照明される。その反射光は、縮
小レンズ4、レティクル5、ハーフミラ−7、および拡
大光学系9t−介してスリット面10上にターゲットパ
ターン2の拡大像を形成する。この像をスリット10で
走査しながらスリット通過光の明暗の変化を光電変換素
子12により電気信号に変換し、さらに、スリット10
の移動量を計測するリニアエンコーダ11が発生するパ
ルスを基準としてAD変換器14でデジタル信号に変換
してメモリ15に格納する。縦軸に光電変換出力を、横
動にスリット位置をとると、第2図の(A)に示すよう
な検出信号24が得られる。
ここで、縮小レンズ4と拡大光学系9とを含むパターン
検出光学系を通して結像するウェーハ上の点パターンの
像の強度分布をh (x) 、ウェーハ上のパターン自
身の明暗の変化を示す強度分布をf(x)、検出信号2
4の強度分布をg (x)とすると、g(x)=/’″
f (x−t ) h(t)d t  −−・・’(1
)が成立する。インコヒーレントな照明条件のパターン
検出光学系では、空間周波数の伝達特性を表わすMTF
が減少関数となるため、点像の強度分布h (x)はδ
関数とはならず、このことが検出像のコントラスト低下
の原因となる。そこで、あるフィルター関数t (X)
f:、用いてf (x)に近い関数f ’ (x)を求
めて検出信号を補正すれば、検出光学系のMTF特性に
依存するコントラスト低下分を回復させることができる
。そこで、有限の範囲で後述する手法によりt (x)
を計算してメモリ17に格納しておくこととした。メモ
リ15に格納された信号g (x)に対して積和演算部
18およびアドレス制御部19を用いて式(2)と同等
な なる重み付き平均を求めてメモリ21に格納すれば、第
2図の(B)に示すような鮮鋭化された検出信号25が
得られる。この信号からパターン位置を求めるためには
、演算部22を用いて、例えば特開昭59−72134
号に示すような、信号の重心位置を求める粗位置演算処
理と信号の対称性の最も良い位置?求める精位置演算処
理とを実行すればよい。
式(3)中のフィルター関数t (x)は以下の方法で
求めた。パターン検出光学系の点像強度分布h(x)2
6は、第3図(A)に示すように得られ、これを7−リ
エ変換するとMTF特性を示す曲線F(−が第3図(B
)のように求められる。光学系の臨界空間周波数音ω6
とすれば、1ω1≧1ω。1の領域ではF(→=Oであ
る。次に1ω1く1ω、1の範囲で第3図の(C)に示
すように逆関数1/H(→を求め、最後にこれをフーリ
エ逆変換すれば、フィルター関数t (x) 27が第
3図の(D)のように得られる。
検出信号24に高周波ノイズを多く含む場合は、逆関数
1/H((=1)のかわりに、例えばウィナフィルタ 音用いて、これをフーリエ逆変換してフィルター関数t
 (x)を求めてもよい。ここにΦ5.Φ、はそれぞれ
信号成分、ノイズのパワースペクトルである。
なお、ここでは縮小投影露光装置における適用例を示し
たが、本発明の内容は、等倍の露光装置等のパターン検
出装置に対してもそのまま応用できる。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明を実施するとと忙よシ、検出信号
取込み部で得られる信号のコントラストが低い場合でも
コントラストを約40%向上させて信号処理演算が実施
できるので、低コントラストの検出信号に対する位置検
出演算処理の信頼性が向上した。低コントラスト信号に
対する検出精度向上の効果の一例を第4図に示す。第4
図の(6)は従来のパターン検出装置の検出再現精度を
、同図の(B)は本発明のパターン検出装置の検出再現
精度を示しており、精度は約2倍に向上していることが
わかる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のパターン検出装置の構成を示す図、
第2図は取込み信号と鮮鋭化処理を施した信号の波形を
示す図、第3図は、検出光学系の点像強度分布、フーリ
エ変換およびその逆数、フィルター関数等の概念図、第
4図は本発明の一実施による効果を示す図である。 1・・・ウェーハ、2・・・位置合せ用ターゲットパタ
ーン、10・・・スリット、12・・・光電変換素子、
13・・・アンプ、14・・A/D変楔器、15・・・
メモリ、17・・・メモリ、18・・・積和演算部、1
9・・・アドレス制御部、27・・・重み関数。 冨 j  図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  試料を照明し、検出光学系を通して得られる試料から
    の反射光あるいは透過光の強度分布を光電変換して検出
    信号として取込む検出信号取込み部と、該取込み部で得
    られる信号から試料位置を計測するための信号処理を行
    なう演算処理部を備えたパターン検出装置において、重
    み関数をデジタル値で格納するメモリと、取込み信号の
    重み付き平均処理を行なう積和演算部とから構成される
    補正手段を設け、該手段により補正した信号に対して位
    置検出のための信号処理を行なうことを特徴とするパタ
    ーン検出装置。
JP60088504A 1985-04-26 1985-04-26 パタ−ン検出装置 Pending JPS61247902A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60088504A JPS61247902A (ja) 1985-04-26 1985-04-26 パタ−ン検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60088504A JPS61247902A (ja) 1985-04-26 1985-04-26 パタ−ン検出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61247902A true JPS61247902A (ja) 1986-11-05

Family

ID=13944652

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60088504A Pending JPS61247902A (ja) 1985-04-26 1985-04-26 パタ−ン検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61247902A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1265194A2 (en) Method, system and program for processing and storing radiation images
ES2080885T3 (es) Medicion pasiva de distancias y autoenfoque rapido
JP6431786B2 (ja) 線幅誤差取得方法、線幅誤差取得装置および検査システム
US4659936A (en) Line width measuring device and method
JPH11122539A5 (ja)
US5880844A (en) Hybrid confocal microscopy
JPH09264728A (ja) 欠陥または異物の検出の方法および装置、および欠陥または異物を検査された電子部品
JPS61247902A (ja) パタ−ン検出装置
JPS62232504A (ja) 位置検出装置
JPH11166813A (ja) 画像処理による寸法計測回路
JP3031577B2 (ja) 被測定物の表面測定方法及び表面測定装置
JPH0332910B2 (ja)
JPS61248426A (ja) パタ−ン検出装置
JPS6354680A (ja) 位置検出装置
JP2517570B2 (ja) パタ−ン検出方法
JPS624851B2 (ja)
JP2004294076A (ja) Mtf測定装置及び測定方法
CN113532473B (zh) 一种通过布置近场不动点的摄像测量误差抑制方法
JPH07112288A (ja) レーザ加工装置
JPH08247723A (ja) 寸法測定装置
JPH06103168B2 (ja) 微小寸法測定方法
JPS58193547A (ja) 縮小投影露光装置
JPH04107945A (ja) 自動外観検査装置
JPH06165050A (ja) 画像処理装置
JPS5984522A (ja) 画像信号2値化閾値設定方式