JPS61254292A - 純水製造方法 - Google Patents

純水製造方法

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JPS61254292A
JPS61254292A JP60094121A JP9412185A JPS61254292A JP S61254292 A JPS61254292 A JP S61254292A JP 60094121 A JP60094121 A JP 60094121A JP 9412185 A JP9412185 A JP 9412185A JP S61254292 A JPS61254292 A JP S61254292A
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JP
Japan
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water
pure water
ion exchange
exchange resin
raw water
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JP60094121A
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JPH0142753B2 (ja
Inventor
Masabumi Imaizumi
今泉 正文
Takahito Motomura
敬人 本村
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Kurita Water Industries Ltd
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Kurita Water Industries Ltd
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  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、純水製造方法に係り、特にイオン交換m脂を
用いて純水を製造するにあたり、イオン交換樹脂の酸化
劣化を防止して、高純度の純水を安定して製造すること
ができる純水製造方法に関する。
[従来の技術] あるいは超純水を製造する場合、水道水中には塩素が残
留しているため、この残留塩素によりイオン交換樹脂が
酸化されて劣化し1時間の経過と共に処理水水質が低下
するという問題がある。
このため、従来、イオン交換樹脂を用いて純水あるいは
超純水を製造するシステムゆおいては、原水中の残留塩
素を還元剤により還元しイオン交換樹脂の酸化劣化を防
止している。しかして、この還元剤としてはNa2SO
3、NaH3O3゜Na2S205 、に25205等
の硫黄化合物系の還元剤が用いられている。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、従来用いられている硫黄化合物系還元剤
は、原水中の残留塩素の当量より過剰に添加した場合に
は、還元剤から生成するS Os、S 02等の硫黄化
合物が、イオン交換されることなく処理水中にリークし
、処理水純度を低下させるという問題があった。しかも
、処理水中にり一りしたこれらの硫黄化合物は、イオン
交換樹脂への吸着量が非常に小さい上、限外濾過(UF
)膜や逆浸透(RO)膜によっても除去することができ
ず、処理水を更にイオン交換あるいは膜分離処理に供し
ても、高純度の純水を得ることはできなかった。
[問題点を解決するための手段] 本発明は上記問題点を解決し、高純度の純水を安定して
得ることができる純水製造方法を提供するものであって
、残留塩素を含有する原水をイオン交換樹脂層に通水し
て純水を得る方法において、原水に窒素化合物を添加す
るものである。
以下に本発明につき詳細に説明する。
本発明においては、残留塩素を含有する原水をイオン交
換樹脂でイオン交換するに際し、原水に還元剤として窒
素化合物を添加する。
本発明で、還元剤として用いられる窒素化合物としては
、ヒドラジン(H2H4)が好適であるが、そのほかに
も、NaNO2,KNO2等が挙げられる。これらの窒
素化合物は、特に精製したものを用いることにより、得
られる純水の純度をより高いものとすることができる。
本発明の方法は、残留塩素を含有する原水からイオン交
換法により純水あるいは超純水を製造する全てのシステ
ムに適用可能であるが、このようなシステムとしては、 ■ 原水を濾過した後、イオン交換装置でイオン交換し
純水を製造するシステム、 あるいは、 ■ 原水を濾過した後、RO膜分離装置→混床式イオン
交換装置→紫外線酸化装置→カートリッジ純水器(非再
生型混床式純水器)→UF膜分離装置に順次送給し、超
純水を製造するシステム、 等が挙げられる。特に本発明の方法は、■の如き超純水
製造システムに採用した場合、極めて顕著な効果を奏す
る。
本発明において、原水への窒素化合物の添加は、原水が
イオン交換樹脂層に供給される以前であれば良いが、特
にその直前とするのが、他の装置への影響がないことか
ら好ましい。
窒素化合物の添加量は原水中の残留塩素の当量よりも少
し過剰になるようにするのが好適であり、特に原水中の
残留塩素の1.3〜2.0当量とするのが好ましい、な
お、本発明においては、従来の硫黄系化合物を還元剤と
して添加する方法とは異なり、窒素化合物を残留塩素の
当量のlθ倍程度の大過剰添加した場合においても、処
理水水質の低下の問題はない。
[作用] 窒素化合物としてヒドラジン(N2H4)を添加した場
合、ヒドラジンは、原水中の塩素を2CM2+N2H4
→N2 +4HC1なる反応で還元する。しかして、過
剰のN2H4及び還元反応において生成するHC!Lは
イオン交換樹脂に捕捉されるので処理水中にリークする
ことがなく、また、N2は不活性物質であるから処理水
水質は良好に維持される。しかも、N a HS O3
等の硫黄化合物は陽イオン及び陰イオンの負荷を有する
のに対し、ヒドラジンはイオン交換樹脂の陽イオンに対
する負荷のみであるため、陰イオンブレークの恐れは全
くない。
また、窒素化合物がN a N 02やK N O2の
場合も、HCl l!:N a N O3あるいはK 
N O3が生ずるが、これらはイオン交換樹脂で捕捉さ
れる。
このため、本発明によれば、原水中の残留塩素を還元す
ることにより、イオン交換樹脂の酸化劣化を防止し、長
期間にわたって安定したイオン交換処理を可能とし、し
かも還元剤の過剰分によりイオン交換処理水の水質を低
下させることもない。
[実施例] 以下に本発明を実施例及び比較例を挙げて更に具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
比較例1 横浜市水道水(塩素濃度0.3ppm、導電率120ル
s/cm)を、RO膜分離装置→混床式イオン交換装置
→カートリッジ純水器に順次通水して純水を製造するシ
ステムにおいて、温床式イオン交換装置への供給側にお
いて、原水にN a HS O3をlOppm添加して
、純水の製造を行った0通水は5V=33 (hr−’
) で行い。
用いた混床式イオン交換装置及びカートリッジ純水器の
仕様は下記の通りである。
イオン  ゛ カラム本体:50mmφX10X100O陽イオン交換
樹脂:ダイヤイオンPK228(三菱化成工業補装) 200m!;L 陰イオン交換樹脂:ダイヤイオンPA312(三菱化成
工業■製) 400m文 カ −  ト  リ  −  シ カラム本体:25mmφX 600 m m Hイオン
交換樹脂:ダイヤイオンSMN−UP(三菱化成工業補
装、 陽・陰イオン混合樹脂) カートリッジ純水器の出口側に設けられたCIA水質計
により、処理水の水質を調べたところ、頭初において比
抵抗16MΩ・Cmであったものが、1.5時間後には
IOMΩ・cmに低下し、処理水の純度が経時的に低下
することが判明した。
実施例1 N a HS O3(7)代りに、N 2 H4を10
ppm添加したこと以外は比較例1と同様にして純水の
製造を行い、カートリッジ純水器の出口側において処理
水の水質を調べた。
その結果、処理水の水質は17MΩ・cmで一定してお
り、24時間通水後においても水質が低下することはな
かった。
実施例1より、本発明の方法によれば、極めて高純度の
純水を長期間安定して製造することができることが明ら
かである。
[効果] 以上詳述した通り、本発明の純水製造装置は、原水中の
残留塩素の還元剤として窒素化合物を添加するものであ
り、 ■ 硫黄化合物を還元剤として添加する従来法に比し、
高純度の純水を製造し得る。
■ 還元剤の過剰添加によりイオン交換処理水の水質が
低下することがない。
■ このため還元剤の添加量の抑制等の煩雑な操作を必
要としない。
■ 窒素化合物は硫黄化合物に比し、大気中で安定で劣
化し難く、安定保存期間が長いことから、処理操作が簡
便である。
等の効果が奏される。
このため、本発明によれば極めて高純度の純水あるは超
純水を長期間安定して製造することができ、LSIや超
LSIの洗浄工程における超純水の製造等、各種分野に
おいて工業的に極めて有利である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)残留塩素を含有する原水をイオン交換樹脂層に通
    水して純水を得る方法において、原水に窒素化合物を添
    加することを特徴とする純水製造方法。
  2. (2)窒素化合物がヒドラジンであることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項に記載の純水製造方法。
JP60094121A 1985-05-01 1985-05-01 純水製造方法 Granted JPS61254292A (ja)

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JP60094121A JPS61254292A (ja) 1985-05-01 1985-05-01 純水製造方法

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JPS61254292A true JPS61254292A (ja) 1986-11-12
JPH0142753B2 JPH0142753B2 (ja) 1989-09-14

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01119345A (ja) * 1987-11-02 1989-05-11 Tokyo Organ Chem Ind Ltd 強塩基性陰イオン交換樹脂の溶出物の低減方法
JPH01119344A (ja) * 1987-11-02 1989-05-11 Tokyo Organ Chem Ind Ltd 強酸性陽イオン交換樹脂の溶出物の低減方法
JPH0299146A (ja) * 1988-10-05 1990-04-11 Tokyo Organ Chem Ind Ltd 混合樹脂床からの溶出物の低減方法
US4941897A (en) * 1987-11-05 1990-07-17 L & H Technologies, Inc. Microporous filter and method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5550481A (en) * 1978-10-03 1980-04-12 Asahi Denka Kogyo Kk Removing method of residual chlorine in salt water

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