JPS61261477A - 真空蒸着炉 - Google Patents
真空蒸着炉Info
- Publication number
- JPS61261477A JPS61261477A JP10159185A JP10159185A JPS61261477A JP S61261477 A JPS61261477 A JP S61261477A JP 10159185 A JP10159185 A JP 10159185A JP 10159185 A JP10159185 A JP 10159185A JP S61261477 A JPS61261477 A JP S61261477A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shutter
- vacuum deposition
- measuring device
- film thickness
- shutters
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- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、蒸着付着量分布を均一に制御することができ
る真空蒸着炉に関する。
る真空蒸着炉に関する。
（従来の真空蒸着炉）
鋼帯等に連続的にｚ！１．ム１等の金属皮膜を真空蒸着
させるための蒸発源として現在考えられている蒸着炉は
、第４図に示す如き構造である。
させるための蒸発源として現在考えられている蒸着炉は
、第４図に示す如き構造である。
第４図において、１は銅帯、２は蒸着室、３は蒸発槽、
４は加熱ヒータ、５はメッキ材（溶融金属）、６は蒸着
口、７は保温材、８はシャッター、９はスノーケル、１
０は溶解炉である。
４は加熱ヒータ、５はメッキ材（溶融金属）、６は蒸着
口、７は保温材、８はシャッター、９はスノーケル、１
０は溶解炉である。
蒸着室２内に設置された蒸発槽３はその内部にメッキ材
５を保有し、メッキ材５は加熱ヒータ４によって加熱蒸
発される。加熱されたメッキ材５はシャッター８をＭＫ
することによって蒸発し、蒸発口６よシその上方を走行
している鋼帯１に連続的にメッキされる。なお、メッキ
材５は、溶解炉１０内で予め溶解した後、圧力差によっ
てスノーケル９を経て蒸発槽３内に吸い上げられる。
５を保有し、メッキ材５は加熱ヒータ４によって加熱蒸
発される。加熱されたメッキ材５はシャッター８をＭＫ
することによって蒸発し、蒸発口６よシその上方を走行
している鋼帯１に連続的にメッキされる。なお、メッキ
材５は、溶解炉１０内で予め溶解した後、圧力差によっ
てスノーケル９を経て蒸発槽３内に吸い上げられる。
（従来の上記真空蒸着炉の欠点）
この真空蒸着炉において鋼帯にメッキされた金属皮膜の
幅方向の付着量分布について以下の問題が生じている。
幅方向の付着量分布について以下の問題が生じている。
（１） 製品としては均一な付着量分布が要求される
が、ｆ８５図（ａ）に示すように、蒸発量、圧力等によ
ってエツジアップになったシ、マた、第５図（１））
Ｉｃ示すように、エツジダウンになり仕様値からはずれ
る〇 （２） 付着量分布に及ぼす要因が複雑であるため制
御が困難である。
が、ｆ８５図（ａ）に示すように、蒸発量、圧力等によ
ってエツジアップになったシ、マた、第５図（１））
Ｉｃ示すように、エツジダウンになり仕様値からはずれ
る〇 （２） 付着量分布に及ぼす要因が複雑であるため制
御が困難である。
そこで、今日、製品の仕様を満足するために、付着量分
布を均一にする制御手段が強く要望されている。
布を均一にする制御手段が強く要望されている。
（本発明の目的）
本発明は、上記従来の真空蒸着炉の欠点を解消し、そし
て、上記要望にそう真空蒸着炉を提供することを目的と
する。
て、上記要望にそう真空蒸着炉を提供することを目的と
する。
（本発明の構成）
そして、本発明は、従来シャッター板が板幅方向に１枚
であったのを分割し、膜厚測定装置からの測定信号（ワ
ークサイド、センター及びドライブサイドの３点測定信
号）をフィードバックすること忙より、分割されたシャ
ッターの開度を調節するようにしたものである。すなわ
ち、本発明は、真空蒸着装置のシャッターを分割し、こ
の分割されたシャッターの開度を膜厚測定装置からの測
定信号によシ調節するようにしてなることを特徴とする
真空蒸着炉である。
であったのを分割し、膜厚測定装置からの測定信号（ワ
ークサイド、センター及びドライブサイドの３点測定信
号）をフィードバックすること忙より、分割されたシャ
ッターの開度を調節するようにしたものである。すなわ
ち、本発明は、真空蒸着装置のシャッターを分割し、こ
の分割されたシャッターの開度を膜厚測定装置からの測
定信号によシ調節するようにしてなることを特徴とする
真空蒸着炉である。
以下、第１図及び第２図に基づいて本発明の詳細な説明
する。第１図は本発明の実施例である真空蒸着炉であシ
、第２図は第１図ムーム断面図である。
する。第１図は本発明の実施例である真空蒸着炉であシ
、第２図は第１図ムーム断面図である。
第１図及び第２図において、前記した第４図に基づ〈従
来の真空蒸着炉と同一部分に同一符号が付与されており
、この同一部分の説明を割愛して、異なるところのみを
説明すると、１４はシャッターであり、このシャッター
１４は、第２図に示すように、３つに分刻し、ドライブ
サイド側シャッター１４ａ、センタ一部分シャッター１
４１）及びワークサイド側シャッター１４０から構成さ
れるものである。また、１１は膜厚測定装置、１２はコ
ントローラ、１３はシャッタ駆動装置である。
来の真空蒸着炉と同一部分に同一符号が付与されており
、この同一部分の説明を割愛して、異なるところのみを
説明すると、１４はシャッターであり、このシャッター
１４は、第２図に示すように、３つに分刻し、ドライブ
サイド側シャッター１４ａ、センタ一部分シャッター１
４１）及びワークサイド側シャッター１４０から構成さ
れるものである。また、１１は膜厚測定装置、１２はコ
ントローラ、１３はシャッタ駆動装置である。
第１図及び第２図に示す真空蒸着炉の作用を説明すると
、鋼帯１が蒸着口６を通過しメッキされる。膜厚測定装
置１１によシ膜厚がワークサイド、センター、ドライブ
サイドの３点で測定される。これらの信号がフィードバ
ックされ、コントローラ１２に入って、シャッタ駆動装
置１３に付着量分布を均一にするための開度調整を行な
うように信号を送る。シャッタ駆動装置１３け送られた
信号に基き、シャッター１４の開度を調整する。
、鋼帯１が蒸着口６を通過しメッキされる。膜厚測定装
置１１によシ膜厚がワークサイド、センター、ドライブ
サイドの３点で測定される。これらの信号がフィードバ
ックされ、コントローラ１２に入って、シャッタ駆動装
置１３に付着量分布を均一にするための開度調整を行な
うように信号を送る。シャッタ駆動装置１３け送られた
信号に基き、シャッター１４の開度を調整する。
このシャッター１４は、第２図に示すようにドライブサ
イド側シャッター１４ａ、センタ一部分シャッター１４
１）及びワークサイド側シャッター１４０の３つに分割
されており、膜厚測定装置１１からの上記した３点の測
定信号にょシ、それぞれ独立して調節される。この調節
結果を第３図（ａ）、 （１）ＥＣ示す。第３図（ａ）
、 （１））から明らかなように１従来のエツジダウン
〔第５図（ｂ）〕あるいはエツジアップ〔第５図（ａ）
〕が解消でき、仕様を満足するようになる〇 （本発明の効果） 本発明は、以上詳記したように、真空蒸着装置のシャッ
ターを分割し、この分割されたシャッターの開度を膜厚
測定装置からの測定信号により調節するようにしたもの
であるから、均一な蒸着付着量分布製品が得られ、エツ
ジアップあるいはエツジダウンが防止でき、仕様値範囲
のものが簡単な装置で容易忙得られる効果が生ずる。
イド側シャッター１４ａ、センタ一部分シャッター１４
１）及びワークサイド側シャッター１４０の３つに分割
されており、膜厚測定装置１１からの上記した３点の測
定信号にょシ、それぞれ独立して調節される。この調節
結果を第３図（ａ）、 （１）ＥＣ示す。第３図（ａ）
、 （１））から明らかなように１従来のエツジダウン
〔第５図（ｂ）〕あるいはエツジアップ〔第５図（ａ）
〕が解消でき、仕様を満足するようになる〇 （本発明の効果） 本発明は、以上詳記したように、真空蒸着装置のシャッ
ターを分割し、この分割されたシャッターの開度を膜厚
測定装置からの測定信号により調節するようにしたもの
であるから、均一な蒸着付着量分布製品が得られ、エツ
ジアップあるいはエツジダウンが防止でき、仕様値範囲
のものが簡単な装置で容易忙得られる効果が生ずる。
第１図は、本発明の実施例である真空蒸着炉であυ、第
２図は第１図ムーム断面図である。 第３図は本発明の実施例による効果を説明するための図
であって、（ａ）はエツジダウンに対する改良された付
着分布図及び分割されたシャッターの調節を示し、（ｂ
）はエツジアップに対する同様な図を示す。第４図は従
来の真空蒸着炉であり、＃Ｅ５図（ａ）は従来手段によ
るエツジアップをまた、第５図（１））は従来手段によ
るエツジダウンを説明するための図である。 １・・・鋼帯 ２・・・蒸着室 ３・・・蒸発槽 ４・自加熱ヒータ ５・・・メッキ材 ６・・・蒸着口 ア・・・保温材 ８・・・シャッター ９・・・スノーケル １０・・・溶解炉 １１・・・膜厚測定装置 １２・・・コントローラ １３・・・シャッタ駆動装置 １４・・・シャッター １４ａ・拳ドライブサイド側シャッター１４１）・・セ
ンタ一部分シャッター １４０・・ワークサイド側シャッター 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫 第１図 第３図 ＣＣＬ） （ｂ）第５図 （ｂ）（α） 手続補正書（方式） ％式％ １、事件の表示 、 昭和６０年特許願第１０１５２１号２・発明０名
称 真空蒸着炉 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の内二丁目５番１号（ほか
１名） ４、側曳理人 住 所 東京都港区虎ノ門−丁目１６番２号ｌ補正の対
象 （１） 図 面 ａ補正の内容 （１）図面を別紙のとおり訂正する。 第ろ図 （ｂ） （α） −一一服幅一一一
２図は第１図ムーム断面図である。 第３図は本発明の実施例による効果を説明するための図
であって、（ａ）はエツジダウンに対する改良された付
着分布図及び分割されたシャッターの調節を示し、（ｂ
）はエツジアップに対する同様な図を示す。第４図は従
来の真空蒸着炉であり、＃Ｅ５図（ａ）は従来手段によ
るエツジアップをまた、第５図（１））は従来手段によ
るエツジダウンを説明するための図である。 １・・・鋼帯 ２・・・蒸着室 ３・・・蒸発槽 ４・自加熱ヒータ ５・・・メッキ材 ６・・・蒸着口 ア・・・保温材 ８・・・シャッター ９・・・スノーケル １０・・・溶解炉 １１・・・膜厚測定装置 １２・・・コントローラ １３・・・シャッタ駆動装置 １４・・・シャッター １４ａ・拳ドライブサイド側シャッター１４１）・・セ
ンタ一部分シャッター １４０・・ワークサイド側シャッター 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫 第１図 第３図 ＣＣＬ） （ｂ）第５図 （ｂ）（α） 手続補正書（方式） ％式％ １、事件の表示 、 昭和６０年特許願第１０１５２１号２・発明０名
称 真空蒸着炉 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の内二丁目５番１号（ほか
１名） ４、側曳理人 住 所 東京都港区虎ノ門−丁目１６番２号ｌ補正の対
象 （１） 図 面 ａ補正の内容 （１）図面を別紙のとおり訂正する。 第ろ図 （ｂ） （α） −一一服幅一一一
Claims (1)
- 真空蒸着装置のシャッターを分割し、この分割されたシ
ャッターの開度を膜厚測定装置からの測定信号により調
節するようにしてなることを特徴とする真空蒸着炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10159185A JPS61261477A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 真空蒸着炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10159185A JPS61261477A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 真空蒸着炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61261477A true JPS61261477A (ja) | 1986-11-19 |
Family
ID=14304625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10159185A Pending JPS61261477A (ja) | 1985-05-15 | 1985-05-15 | 真空蒸着炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61261477A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225759A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| KR20140071109A (ko) * | 2012-12-03 | 2014-06-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원, 이를 포함한 증착 장치 및 증착 방법 |
-
1985
- 1985-05-15 JP JP10159185A patent/JPS61261477A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225759A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
| KR20140071109A (ko) * | 2012-12-03 | 2014-06-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원, 이를 포함한 증착 장치 및 증착 방법 |
| JP2014109072A (ja) * | 2012-12-03 | 2014-06-12 | Samsung Display Co Ltd | 蒸着源、これを含む蒸着装置および蒸着方法 |
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