JPH0526866B2 - - Google Patents
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- JPH0526866B2 JPH0526866B2 JP24043184A JP24043184A JPH0526866B2 JP H0526866 B2 JPH0526866 B2 JP H0526866B2 JP 24043184 A JP24043184 A JP 24043184A JP 24043184 A JP24043184 A JP 24043184A JP H0526866 B2 JPH0526866 B2 JP H0526866B2
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- kcal
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 5
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空蒸着装置、特に走行する金属ス
トリツプにメツキ材を蒸着する連続式真空蒸発装
置における該ストリツプへの金属蒸気付着量の検
出方法に関する。
トリツプにメツキ材を蒸着する連続式真空蒸発装
置における該ストリツプへの金属蒸気付着量の検
出方法に関する。
たとえば、特願昭59−106396号明細書によれ
ば、第３図あるいは第４図のような連続式真空蒸
発装置の蒸発槽構成例が提案されている。第３図
において、金属の蒸発は、浴槽２の溶融金属１の
表面から起こる。蒸発した金属蒸気は、開口面積
を変えることのできる蒸気流通口１９、ダクト
（チヤンネル）６を通り、その開口部に接近して
通過するストリツプ（この場合は、薄鋼板）７に
付着する。溶融金属１への加熱は、ヒータ（図示
省略）により行なう。３９は付着量検出器、１５
はシヤツタで、付着量検出値が所定値になるよう
にヒータとシヤツタ１５の開度を操作して制御す
る。なお、１３はシヤツタ駆動用軸、１４はヒー
タ（蒸気付着防止用）である。
ば、第３図あるいは第４図のような連続式真空蒸
発装置の蒸発槽構成例が提案されている。第３図
において、金属の蒸発は、浴槽２の溶融金属１の
表面から起こる。蒸発した金属蒸気は、開口面積
を変えることのできる蒸気流通口１９、ダクト
（チヤンネル）６を通り、その開口部に接近して
通過するストリツプ（この場合は、薄鋼板）７に
付着する。溶融金属１への加熱は、ヒータ（図示
省略）により行なう。３９は付着量検出器、１５
はシヤツタで、付着量検出値が所定値になるよう
にヒータとシヤツタ１５の開度を操作して制御す
る。なお、１３はシヤツタ駆動用軸、１４はヒー
タ（蒸気付着防止用）である。
また、第４図は、連続式真空蒸発装置の蒸発槽
の別の構成例である。第４図において、ストリツ
プ７は、裏面の金属蒸気付着防止のため、シエル
部をヒータ（図示省略）で加熱された加熱ロール
３７にかけ回されており、ストリツプ７の他の片
面に金属蒸気を付着させる。３３はシヤツタ駆動
機、３５はシヤツタ、３８はシヤツタ駆動装置、
４０に排気ダクトである。
の別の構成例である。第４図において、ストリツ
プ７は、裏面の金属蒸気付着防止のため、シエル
部をヒータ（図示省略）で加熱された加熱ロール
３７にかけ回されており、ストリツプ７の他の片
面に金属蒸気を付着させる。３３はシヤツタ駆動
機、３５はシヤツタ、３８はシヤツタ駆動装置、
４０に排気ダクトである。
ところが、上記従来装置で用いられている付着
量検出器３９は、非常に高価であるという欠点を
有する。
量検出器３９は、非常に高価であるという欠点を
有する。
本発明の目的は、上記高価な付着量検出器を用
いなくても、安価でかつ十分な精度の付着量検出
が可能な検出方法を提供することである。
いなくても、安価でかつ十分な精度の付着量検出
が可能な検出方法を提供することである。
本発明は、(1)連続式真空蒸着装置の蒸気ダクト
前面を走行するストリツプに付着する金属付着量
を検出する方法において、蒸気ダクト前後の走行
ストリツプの温度を検出し、次式によりストリツ
プに付着する金属付着量を求めることを特徴とす
る検出方法、 Qd＝〔γs×ｄ×Cs ×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ 但し、上式において、 Qd：付着量 （Kg／m2） γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3） Cs：ストリツプ比熱 （Kcal／Kg℃） ｄ：板厚 （ｍ） Ts out：出口ストリツプ温度 （℃） Ts in：入口ストリツプ温度 （℃） Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg） 及び、(2)連続式真空蒸着装置の蒸気ダクト前面
に設けた加熱ロール上を走行するストリツプに付
着する金属付着量を検出する方法において、蒸気
ダクト前後の走行ストリツプの温度を検出し、次
式によりストリツプに付着する金属付着量を求め
ることを特徴とする検出方法である。
前面を走行するストリツプに付着する金属付着量
を検出する方法において、蒸気ダクト前後の走行
ストリツプの温度を検出し、次式によりストリツ
プに付着する金属付着量を求めることを特徴とす
る検出方法、 Qd＝〔γs×ｄ×Cs ×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ 但し、上式において、 Qd：付着量 （Kg／m2） γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3） Cs：ストリツプ比熱 （Kcal／Kg℃） ｄ：板厚 （ｍ） Ts out：出口ストリツプ温度 （℃） Ts in：入口ストリツプ温度 （℃） Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg） 及び、(2)連続式真空蒸着装置の蒸気ダクト前面
に設けた加熱ロール上を走行するストリツプに付
着する金属付着量を検出する方法において、蒸気
ダクト前後の走行ストリツプの温度を検出し、次
式によりストリツプに付着する金属付着量を求め
ることを特徴とする検出方法である。
Qd＝〔γs×ｄ×Cs×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ−
〔Aα（TR−Ts）〕／vwH 但し、上式において、 Qd：付着量 （Kg／m2） γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3） Cs：ストリツプ比熱 （Kcal／Kg℃） ｄ：板厚 （ｍ） Ts out：出口ストリツプ温度 （℃） Ts in：入口ストリツプ温度 （℃） Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg） Ａ：加熱ロールとストリツプの接触面積 （m2） α：ストリツプと加熱ロール間の熱伝達率 （Kcal／m2ｈ℃） TR：加熱ロールシエル温度 （℃） Ts：（Ts in＋Ts out）／２ （℃） ｖ：ストリツプ速度 （ｍ／ｈ） ｗ：板幅 （ｍ） 〔作用〕 以下に、本発明に係る金属蒸気付着量検出の原
理を説明する。
〔Aα（TR−Ts）〕／vwH 但し、上式において、 Qd：付着量 （Kg／m2） γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3） Cs：ストリツプ比熱 （Kcal／Kg℃） ｄ：板厚 （ｍ） Ts out：出口ストリツプ温度 （℃） Ts in：入口ストリツプ温度 （℃） Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg） Ａ：加熱ロールとストリツプの接触面積 （m2） α：ストリツプと加熱ロール間の熱伝達率 （Kcal／m2ｈ℃） TR：加熱ロールシエル温度 （℃） Ts：（Ts in＋Ts out）／２ （℃） ｖ：ストリツプ速度 （ｍ／ｈ） ｗ：板幅 （ｍ） 〔作用〕 以下に、本発明に係る金属蒸気付着量検出の原
理を説明する。
第３図に示すストリツプ７への金属蒸気付着部
（ダクト６の開口部）において、蒸気もれは非常
に少ないので、式(1)の熱バランス式が成り立つ。
（ダクト６の開口部）において、蒸気もれは非常
に少ないので、式(1)の熱バランス式が成り立つ。
γs×υ×ｄ×ｗ×Cs×（Ts out
−Ts in）＝Qd×υ×ｗ×Ｈ (1)
ここで、
υ：ストリツプ速度 ｍ／ｈ
ｄ：板厚 ｍ
ｗ：板幅 ｍ
Cs：ストリツプ比熱 Kcal／Kg℃
Ts in：入口ストリツプ温度 ℃
Ts out：出口ストリツプ温度 ℃
Qd：付着量 Kg／m2
Ｈ：蒸着潜熱 Kcal／Kg
γs：ストリツプ比重量 Kg／m3
式(1)において、左辺はストリツプの被加熱量
で、右辺は蒸着潜熱による加熱量である。なお、
式(1)で、付着量の単位は、Kg／m2で表わしたが、
付着量検出器の信号のように、膜厚（mm）で表わ
すには、金属の比重量で割ればよい。
で、右辺は蒸着潜熱による加熱量である。なお、
式(1)で、付着量の単位は、Kg／m2で表わしたが、
付着量検出器の信号のように、膜厚（mm）で表わ
すには、金属の比重量で割ればよい。
式(1)を書き直せば式(2)を得る。
Qd＝〔γs×ｄ×Cs
×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ (2)
すなわち、板厚ｄ、金属蒸気付着部の入口ａと
出口ｂのストリツプ温度Ts in、Ts outがわかれ
ば、式(2)を用いて付着量Qdを得ることができる。
ストリツプ温度検出器は付着部の入口ａと出口ｂ
に２台必要であるが、付着量検出器１台よりもは
るかに安価であるし、十分な精度を得ることがで
きる。
出口ｂのストリツプ温度Ts in、Ts outがわかれ
ば、式(2)を用いて付着量Qdを得ることができる。
ストリツプ温度検出器は付着部の入口ａと出口ｂ
に２台必要であるが、付着量検出器１台よりもは
るかに安価であるし、十分な精度を得ることがで
きる。
第１図のＡ，Ｂは、本発明の一実施態様であ
る。図中、４１，４２はストリツプ温度検出器、
４３は式(2)を演算する演算装置である。
る。図中、４１，４２はストリツプ温度検出器、
４３は式(2)を演算する演算装置である。
また、従来例の第４図の場合には、ストリツプ
７は、加熱ロール３７からも接触熱伝達によつて
加熱されるので、式(3)の熱バランス式が成り立
つ。
７は、加熱ロール３７からも接触熱伝達によつて
加熱されるので、式(3)の熱バランス式が成り立
つ。
γs×υ×ｄ×ｗ×Cs×（Ts out−Ts in）＝Qd×
υ×ｗ×Ｈ＋Ａ×α×（TR−Ts） (3) ここで、 Ts：（Ts in＋Ts out）／２ （℃） TR：加熱ロールシエル温度 （℃） α：ストリツプと加熱ロール間の熱伝達率 （Kcal／m2ｈ℃） Ａ：加熱ロールとストリツプの接触面積 （m2） 式(3)の右辺第２項は、加熱ロール３７による加
熱量である。式(3)を式(2)のように書き直せば式(4)
が得られる。
υ×ｗ×Ｈ＋Ａ×α×（TR−Ts） (3) ここで、 Ts：（Ts in＋Ts out）／２ （℃） TR：加熱ロールシエル温度 （℃） α：ストリツプと加熱ロール間の熱伝達率 （Kcal／m2ｈ℃） Ａ：加熱ロールとストリツプの接触面積 （m2） 式(3)の右辺第２項は、加熱ロール３７による加
熱量である。式(3)を式(2)のように書き直せば式(4)
が得られる。
Qd＝〔γs×ｄ×Cs×（Ts out
−Ts in）〕／Ｈ−〔Ａ×α×（TR
−Ts）〕／υ×ｗ×Ｈ (4)
式(4)は式(2)に加熱ロールに関する項を附加した
ものであり、加熱ロールを使用しない第１図の場
合は、Ａ＝０とすれば、式(4)が適用できる。した
がつて、式(4)を用いて、付着量Qdを求めればよ
い。
ものであり、加熱ロールを使用しない第１図の場
合は、Ａ＝０とすれば、式(4)が適用できる。した
がつて、式(4)を用いて、付着量Qdを求めればよ
い。
第２図のＡ，Ｂは、第４図のような構成例にお
ける本発明の他の実施態様である。第２図では、
上記式(3)の右辺第２項を求めるため、ロールシエ
ル温度検出器４５を設置している。演算装置４６
は、入口と出口のストリツプ温度検出器４１，４
２や、ロールシエル温度検出器４５からの信号
と、ストリツプの生産量（ストリツプ速度×板厚
×板幅）から式(3)を用いて、付着量Qdを演算す
る演算装置である。これは、たとえば簡単なマイ
コンで十分安価にて実現できる。
ける本発明の他の実施態様である。第２図では、
上記式(3)の右辺第２項を求めるため、ロールシエ
ル温度検出器４５を設置している。演算装置４６
は、入口と出口のストリツプ温度検出器４１，４
２や、ロールシエル温度検出器４５からの信号
と、ストリツプの生産量（ストリツプ速度×板厚
×板幅）から式(3)を用いて、付着量Qdを演算す
る演算装置である。これは、たとえば簡単なマイ
コンで十分安価にて実現できる。
本発明によれば、非常に高価な付着量検出器を
使うことなく安価で十分な精度を持つた金属蒸気
付着量の検出が可能である。
使うことなく安価で十分な精度を持つた金属蒸気
付着量の検出が可能である。
第１図は、本発明方法の付着量検出装置の構成
例、第２図は、従来の第４図の構成の蒸発槽に本
発明方法を適用した例を示す。第３図は、従来使
われている付着量検出器を用いた連続式真空蒸発
装置の蒸発槽の構成例、第４図は、従来使われて
いる付着量検出器を用いた連続式真空蒸発装置の
蒸発槽の別の構成例を示す。
例、第２図は、従来の第４図の構成の蒸発槽に本
発明方法を適用した例を示す。第３図は、従来使
われている付着量検出器を用いた連続式真空蒸発
装置の蒸発槽の構成例、第４図は、従来使われて
いる付着量検出器を用いた連続式真空蒸発装置の
蒸発槽の別の構成例を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 連続式真空蒸着装置の蒸気ダクト前面に走行
するストリツプに付着する金属付着量を検出する
方法において、蒸気ダクト前後の走行ストリツプ
の温度を検出し、次式によりストリツプに付着す
る金属付着量を求めることを特徴とする検出方
法。 Qd＝〔γs×ｄ×Cs ×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ 但し、上式において、 Qd：付着量 （Kg／m2） γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3） ｄ：板厚 （ｍ） Ts out：出口ストリツプ温度 （℃） Ts in：入口ストリツプ温度 （℃） Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg） ２ 連続式真空蒸着装置の蒸気ダクト前面に設け
た加熱ロール上を走行するストリツプに付着する
金属付着量を検出する方法において、蒸気ダクト
前後の走行ストリツプの温度を検出し、次式によ
りストリツプに付着する金属付着量を求めること
を特徴とする検出方法。 Qd＝〔γs×ｄ×Cs×（Ts out−Ts in）〕／Ｈ−
〔Ａ×α×（TR−Ts）〕／υ×ｗ×Ｈ 但し、上式において、 Qd：付着量 （Kg／m2） γs：ストリツプ比重量 （Kg／m3） Cs：ストリツプ比熱 （Kcal／Kg℃） ｄ：板厚 （ｍ） Ts out：出口ストリツプ温度 （℃） Ts in：入口ストリツプ温度 （℃） Ｈ：蒸着潜熱 （Kcal／Kg） Ａ：加熱ロールとストリツプの接触面積 （m2） α：ストリツプと加熱ロール間の熱伝達率 （Kcal／m2ｈ℃） TR：加熱ロールシエル温度 （℃） Ts：（Ts in＋Ts out）／２ （℃） υ：ストリツプ速度 （ｍ／ｈ） ｗ：板幅 （ｍ）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24043184A JPS61119671A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空蒸着装置の金属付着量検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24043184A JPS61119671A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空蒸着装置の金属付着量検出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61119671A JPS61119671A (ja) | 1986-06-06 |
| JPH0526866B2 true JPH0526866B2 (ja) | 1993-04-19 |
Family
ID=17059384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24043184A Granted JPS61119671A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空蒸着装置の金属付着量検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61119671A (ja) |
-
1984
- 1984-11-16 JP JP24043184A patent/JPS61119671A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61119671A (ja) | 1986-06-06 |
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