JPS61269221A - 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生方法 - Google Patents
垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生方法Info
- Publication number
- JPS61269221A JPS61269221A JP60112421A JP11242185A JPS61269221A JP S61269221 A JPS61269221 A JP S61269221A JP 60112421 A JP60112421 A JP 60112421A JP 11242185 A JP11242185 A JP 11242185A JP S61269221 A JPS61269221 A JP S61269221A
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- Japan
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- film
- perpendicular magnetic
- magnetic recording
- recording medium
- residual magnetization
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度記録特性の優れた垂直磁気記録媒体及び
それを用いた磁気記録再生方法に関する。
それを用いた磁気記録再生方法に関する。
従来の技術
短波長記録特性の優れた磁気記録方式として、垂直磁気
記録方式がある。この方式においては垂直磁気異方性を
有する磁性層が必要になる。このような磁性層に信号を
記録すると残留磁化は膜面に略垂直方向を向く。従って
信号が短波長になる程媒体内反磁界は減少し、大きな再
生出力が得られる。垂直磁気記録媒体は基板上に磁性層
とし毛Ｇｏ−ＣｒあるいはＧｏ−ＶあるいはＧｏ−Ｃｒ
−Ｒｈ等の垂直磁気異方性膜を、一般的にはスパッタリ
ング法によシ形成したものである。しかしスパッタリン
グ法は膜の堆積速度が遅く量産性が悪い。
記録方式がある。この方式においては垂直磁気異方性を
有する磁性層が必要になる。このような磁性層に信号を
記録すると残留磁化は膜面に略垂直方向を向く。従って
信号が短波長になる程媒体内反磁界は減少し、大きな再
生出力が得られる。垂直磁気記録媒体は基板上に磁性層
とし毛Ｇｏ−ＣｒあるいはＧｏ−ＶあるいはＧｏ−Ｃｒ
−Ｒｈ等の垂直磁気異方性膜を、一般的にはスパッタリ
ング法によシ形成したものである。しかしスパッタリン
グ法は膜の堆積速度が遅く量産性が悪い。
スパッタリング法に対し、真空蒸着法（イオンブレーテ
ィング法のように蒸発原子の一部をイオン化して蒸着す
る方法も含む）によれば、膜の堆積速度はスパッタリン
グ法に比べ２桁以上高い１μｍ／秒以上が可能であり、
量産性が優れていム本発明者らは、真空蒸着法にてもＣ
ｏ−０ｒ垂直磁気異方性膜が得られることを見い出した
。
ィング法のように蒸発原子の一部をイオン化して蒸着す
る方法も含む）によれば、膜の堆積速度はスパッタリン
グ法に比べ２桁以上高い１μｍ／秒以上が可能であり、
量産性が優れていム本発明者らは、真空蒸着法にてもＣ
ｏ−０ｒ垂直磁気異方性膜が得られることを見い出した
。
発明が解決しようとする問題点
上記のように、本発明者らは真空蒸着法によれば、非常
に量産性の優れた方法で垂直磁気異方性膜が得られるこ
とを明らかにしたが、この膜が優れた再生出力、特に短
波長領域における再生出力を有するだめの条件は見い出
されていなかった。
に量産性の優れた方法で垂直磁気異方性膜が得られるこ
とを明らかにしたが、この膜が優れた再生出力、特に短
波長領域における再生出力を有するだめの条件は見い出
されていなかった。
またスパッタリング法により作製した膜については、垂
直磁気異方性膜としてＭｒ土／Ｍｒ／〉１ なる条件を
満たすことが望ましく、特に非磁性基板上に直接垂直磁
気異方性膜が形成された、いわゆる単層膜媒体にとって
は、”土／Ｍｘ 、ｙ ） １なる条件が必要条件と考
えられていた。しかし、この条件を有する膜では、十分
な再生出力は得られていなかった。
直磁気異方性膜としてＭｒ土／Ｍｒ／〉１ なる条件を
満たすことが望ましく、特に非磁性基板上に直接垂直磁
気異方性膜が形成された、いわゆる単層膜媒体にとって
は、”土／Ｍｘ 、ｙ ） １なる条件が必要条件と考
えられていた。しかし、この条件を有する膜では、十分
な再生出力は得られていなかった。
問題点を解決するための手段
高分子基板上にＴｉ膜を介して、振動試料型磁力計で測
定したヒステリシス曲線における膜面に垂直方向の残留
磁化Ｍｒ土と膜面内の残留磁化Ｍｒ■の比Ｍｒ土／Ｍｒ
／／ が１よりも小さい垂直磁気異方性膜を形成する
。
定したヒステリシス曲線における膜面に垂直方向の残留
磁化Ｍｒ土と膜面内の残留磁化Ｍｒ■の比Ｍｒ土／Ｍｒ
／／ が１よりも小さい垂直磁気異方性膜を形成する
。
作 用
高い再生出力、特に短波長領域において高い再生出力を
有する垂直磁気記録媒体が得られる。
有する垂直磁気記録媒体が得られる。
実施例
図を用いて本発明の実施例について説明する。
図は振動試料型磁力計で測定した、垂直磁気異方性膜の
ヒステリシス曲線の第１及び第２象現０１例を示してお
シ、曲線１及び２はそれぞれ膜面に垂直方向及び膜面内
のものである。第１図の横軸は印加磁界、縦軸は磁化を
表わしている。垂直方向のヒステリシス曲線１は、反磁
場補正は行なわれていない。Ｍｒ上及びＭｒ／／はそれ
ぞれ膜面に垂直方向の残留磁化及び膜面内の残留磁化で
ある。
ヒステリシス曲線の第１及び第２象現０１例を示してお
シ、曲線１及び２はそれぞれ膜面に垂直方向及び膜面内
のものである。第１図の横軸は印加磁界、縦軸は磁化を
表わしている。垂直方向のヒステリシス曲線１は、反磁
場補正は行なわれていない。Ｍｒ上及びＭｒ／／はそれ
ぞれ膜面に垂直方向の残留磁化及び膜面内の残留磁化で
ある。
’ｒ土／Ｍｒ／／の異りるＣｏ−０ｒ垂直磁気異方性膜
を、高分子基板上に直接にあるいはＴｉ膜を介して真空
蒸着法によシ形成し、Ｍｎ−Ｚｎフェライトより成るリ
ング形磁気ヘッドで記録再生した場合の特性について次
に説明する。なおＴ１膜及びＧｏ−Ｃｒ膜の膜厚はそれ
ぞれ０．０２ ／Ｊ ｍ及び０．２ｔｔｍとし、リング
形磁気ヘッドのギャップ長は０．１３μｍとした。下表
に、４種類の媒体の低域再生出力及びＤ６゜を示す。４
種類の媒体の構造は■Ｔｉ膜がｉ、Ｍｒ土／Ｍｒ／がｏ
、５．■Ｔｉ膜があシ、Ｍｒ土／Ｍｒ／／ が２．２
．■Ｔｉ 膜がなく、Ｍｒ⊥／Ｍｒ■が０．５１ ＠
Ｔｉ膜がなく、Ｍｘ土／Ｍｒ／／が２．２となっている
。また、低域再生出力として１ＫＦＲＰ Ｉにおける出
力の相対値を示しておシ、Ｄ６゜とは再生出力値が１Ｋ
ＦＲＰＩ における出力の半分になる記録密度のことで
ある。ここでＩ ＮＦＡＰ Ｉ とは１インチ当だｐ
１０００回磁化反転のあるディジタル信号の記録状態で
ある。
を、高分子基板上に直接にあるいはＴｉ膜を介して真空
蒸着法によシ形成し、Ｍｎ−Ｚｎフェライトより成るリ
ング形磁気ヘッドで記録再生した場合の特性について次
に説明する。なおＴ１膜及びＧｏ−Ｃｒ膜の膜厚はそれ
ぞれ０．０２ ／Ｊ ｍ及び０．２ｔｔｍとし、リング
形磁気ヘッドのギャップ長は０．１３μｍとした。下表
に、４種類の媒体の低域再生出力及びＤ６゜を示す。４
種類の媒体の構造は■Ｔｉ膜がｉ、Ｍｒ土／Ｍｒ／がｏ
、５．■Ｔｉ膜があシ、Ｍｒ土／Ｍｒ／／ が２．２
．■Ｔｉ 膜がなく、Ｍｒ⊥／Ｍｒ■が０．５１ ＠
Ｔｉ膜がなく、Ｍｘ土／Ｍｒ／／が２．２となっている
。また、低域再生出力として１ＫＦＲＰ Ｉにおける出
力の相対値を示しておシ、Ｄ６゜とは再生出力値が１Ｋ
ＦＲＰＩ における出力の半分になる記録密度のことで
ある。ここでＩ ＮＦＡＰ Ｉ とは１インチ当だｐ
１０００回磁化反転のあるディジタル信号の記録状態で
ある。
表より構造■の媒体、すなわち高分子基板上にＴｉ膜を
介してＭｒ土／Ｍｒ／＝０．６なる垂直磁気異方性膜が
形成された媒体が、最も優れた低域再生出力及びＤ６゜
を有していることがわかる。なおＴｉ膜がある場合には
、Ｍｒ上／Ｍｒ ／ ＜’ を満足すれば、表の■と
ほぼ同程度の記録再生特性が得られた。ただしＭｒ上Ｍ
ｒ■／が０．２以下になると垂直磁気異方性がなくなっ
てしまうので、０．２よりも大きくする必要がある。
介してＭｒ土／Ｍｒ／＝０．６なる垂直磁気異方性膜が
形成された媒体が、最も優れた低域再生出力及びＤ６゜
を有していることがわかる。なおＴｉ膜がある場合には
、Ｍｒ上／Ｍｒ ／ ＜’ を満足すれば、表の■と
ほぼ同程度の記録再生特性が得られた。ただしＭｒ上Ｍ
ｒ■／が０．２以下になると垂直磁気異方性がなくなっ
てしまうので、０．２よりも大きくする必要がある。
これに対し、たとえＴｉ膜があっても、’ｒｌ’χｒ／
／が１を越える場合には表の■とほぼ同程度あるいはそ
れ以下の特性であシ、■の媒体に比べて低域再生出力は
約ｓｄＢ以上低く、Ｄ６゜は高々１６０ＫＦＲＰ Ｉで
ある。また、”土／Ｍｒ／＜ １ を満足していても、
Ｔｓ膜がない場合には表の■のように、特にＤ５ｏが大
幅に劣化してしまう。またＴｉ膜がなく、Ｍ、⊥／Ｍｒ
■、 が１を越える媒体は、表の■のように、表の■
、すなわちＴｉ膜があシ、Ｍｄイ鴇。
／が１を越える場合には表の■とほぼ同程度あるいはそ
れ以下の特性であシ、■の媒体に比べて低域再生出力は
約ｓｄＢ以上低く、Ｄ６゜は高々１６０ＫＦＲＰ Ｉで
ある。また、”土／Ｍｒ／＜ １ を満足していても、
Ｔｓ膜がない場合には表の■のように、特にＤ５ｏが大
幅に劣化してしまう。またＴｉ膜がなく、Ｍ、⊥／Ｍｒ
■、 が１を越える媒体は、表の■のように、表の■
、すなわちＴｉ膜があシ、Ｍｄイ鴇。
が１を越える媒体とほぼ同じ特性であシ、■の媒体より
も低域再生出力、Ｄ５゜ともに低い。すなわちＭｒ土／
Ｍｒ／／ が１を越える場合にはＴｉ膜の効果は見ら
れない。なおリング形磁気ヘッドとしてＭｎ−Ｚｎフェ
ライトではなく、アモルファスあるいはセンダスト等の
金属より成るものを用いても上記と同様の結果が得られ
た。
も低域再生出力、Ｄ５゜ともに低い。すなわちＭｒ土／
Ｍｒ／／ が１を越える場合にはＴｉ膜の効果は見ら
れない。なおリング形磁気ヘッドとしてＭｎ−Ｚｎフェ
ライトではなく、アモルファスあるいはセンダスト等の
金属より成るものを用いても上記と同様の結果が得られ
た。
以上述べたように、高分子基板上にＴｉ膜を介して、Ｍ
ｒ土／Ｍｒ／〈１なる垂直磁気異方性膜を形成すること
により、リング形磁気ヘッドを用いて記録再生を行なう
際に、大きな再生出力及び高いＤ６゜が得られる。この
ような結果は、垂直磁気異方性膜としてＭｒ土／ Ｍｒ
／ ＞ ’が望ましいとするこれまでの技術的常識をく
つがえして得られたものである。また、Ｍｒ土／ Ｍｒ
／ ＜ ’ なる条件を満たしても、特に高分子基板
を用いる場合には、Ｔｉ膜を介さないとＤ６゜は非常に
低い。この低いＤ５゜の原因として、基板表面の結晶状
態、蒸着時における基板からの脱ガスによる蒸着膜への
悪影響等が考えられる。従って、高分子基板の表面の結
晶状態をコントロールし、基板の脱ガス処理を完全に行
なえば、Ｔｉ膜がなくてもＭｒ土／Ｍｖ／く１を満たせ
ばＤ６゜が高くなることが期待出来る。ここで基板の脱
ガス処理とは、基板中に含まれている水分等を蒸着前に
除去することである。
ｒ土／Ｍｒ／〈１なる垂直磁気異方性膜を形成すること
により、リング形磁気ヘッドを用いて記録再生を行なう
際に、大きな再生出力及び高いＤ６゜が得られる。この
ような結果は、垂直磁気異方性膜としてＭｒ土／ Ｍｒ
／ ＞ ’が望ましいとするこれまでの技術的常識をく
つがえして得られたものである。また、Ｍｒ土／ Ｍｒ
／ ＜ ’ なる条件を満たしても、特に高分子基板
を用いる場合には、Ｔｉ膜を介さないとＤ６゜は非常に
低い。この低いＤ５゜の原因として、基板表面の結晶状
態、蒸着時における基板からの脱ガスによる蒸着膜への
悪影響等が考えられる。従って、高分子基板の表面の結
晶状態をコントロールし、基板の脱ガス処理を完全に行
なえば、Ｔｉ膜がなくてもＭｒ土／Ｍｖ／く１を満たせ
ばＤ６゜が高くなることが期待出来る。ここで基板の脱
ガス処理とは、基板中に含まれている水分等を蒸着前に
除去することである。
実際に高分子基板を真空中で２４時間２００″Ｃに保っ
た後に、この基板上に直接Ｍｒ土／Ｍｒ／／＜１なるＣ
ｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を蒸着し、記録再生特性を測
定すると、Ｄ６ｏがかなシ改善された。
た後に、この基板上に直接Ｍｒ土／Ｍｒ／／＜１なるＣ
ｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を蒸着し、記録再生特性を測
定すると、Ｄ６ｏがかなシ改善された。
しかし量産時に、このような脱ガス処理をして媒体を作
製することは生産性の大幅な低下につながる。また高分
子基板表面の結晶状態のコントロールも非常に微妙であ
り、安定性に欠ける。これに対し高分子基板上にまずＴ
ｉ膜を設け、その上にＭ、土／Ｍア７〈１ なる条件を
満足する垂直磁気異方性膜を形成すると、脱ガス処理が
完全でなく、かつ基板表面の結晶状態にばらつきがあっ
ても、再生出力及びＤ６゜の高い垂直磁気記録媒体が安
定に得られるので、量産時における本発明の効果は大き
い。
製することは生産性の大幅な低下につながる。また高分
子基板表面の結晶状態のコントロールも非常に微妙であ
り、安定性に欠ける。これに対し高分子基板上にまずＴ
ｉ膜を設け、その上にＭ、土／Ｍア７〈１ なる条件を
満足する垂直磁気異方性膜を形成すると、脱ガス処理が
完全でなく、かつ基板表面の結晶状態にばらつきがあっ
ても、再生出力及びＤ６゜の高い垂直磁気記録媒体が安
定に得られるので、量産時における本発明の効果は大き
い。
さらにＭｒ土／Ｍｒ／／〉１ を満足する垂直磁気異
方性膜よりも、Ｍｒ土／Ｍｒ／／＜１ を満足する垂
直磁気異方性膜の方が製膜条件がゆるく、高い生産性及
び歩留シを達成出来る。特に真空蒸着法でＣｏとＣｒ
を主成分とする垂直磁気異方性膜を作製する際に、Ｍ
ｒＬ／Ｍ、／／〉１ を満足するための製膜条件はき
びしいので、この場合に本発明の効果が大きい。
方性膜よりも、Ｍｒ土／Ｍｒ／／＜１ を満足する垂
直磁気異方性膜の方が製膜条件がゆるく、高い生産性及
び歩留シを達成出来る。特に真空蒸着法でＣｏとＣｒ
を主成分とする垂直磁気異方性膜を作製する際に、Ｍ
ｒＬ／Ｍ、／／〉１ を満足するための製膜条件はき
びしいので、この場合に本発明の効果が大きい。
発明の効果
本発明によれば再生出力、特に短波長領域における再生
出力の優れた垂直磁気記録媒体を高い量産性及び歩留り
で提供出来る。
出力の優れた垂直磁気記録媒体を高い量産性及び歩留り
で提供出来る。
図は振動試料型磁力計で測定した、垂直磁気異方性膜の
ヒステリシス曲線を示す図である。 １・・・・・・膜面に垂直な方向のヒステリシス曲線、
２・・・・・・膜面内のヒステリシス曲線。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名−２
Ｑ ２ ４ ６ 磁界（Ｋａｅ）
ヒステリシス曲線を示す図である。 １・・・・・・膜面に垂直な方向のヒステリシス曲線、
２・・・・・・膜面内のヒステリシス曲線。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名−２
Ｑ ２ ４ ６ 磁界（Ｋａｅ）
Claims (3)
- （１）高分子基板上にＴｉ膜を介して、振動試料型磁力
計で測定したヒステリシス曲線における膜面に垂直方向
の残留磁化Ｍ＿ｒ＿⊥と膜面内の残留磁化Ｍ＿ｒ＿■の
比Ｍ＿ｒ＿⊥／Ｍ＿ｒ＿■が１よりも小さい垂直磁気異
方性膜が形成された垂直磁気記録媒体。 - （２）垂直磁気異方性膜がＣｏとＣｒを主成分とする蒸
着膜である特許請求の範囲第１項記載の垂直磁気記録媒
体。 - （３）高分子基板上にＴｉ膜を介して、振動試料型磁力
計で測定したヒステリシス曲線における膜面に垂直方向
の残留磁化Ｍ＿ｒ＿⊥と膜面内の残留磁化Ｍ＿ｒ＿■の
比Ｍ＿ｒ＿⊥／Ｍ＿ｒ＿■が１よりも小さい垂直磁気異
方性膜が形成された垂直磁気記録媒体に対して、リング
形磁気ヘッドを用いて記録再生を行なう磁気記録再生方
法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60112421A JPS61269221A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生方法 |
| EP86104108A EP0196071B1 (en) | 1985-03-26 | 1986-03-25 | Perpendicular magnetic recording medium |
| DE8686104108T DE3672639D1 (de) | 1985-03-26 | 1986-03-25 | Aufzeichnungstraeger mit senkrechter magnetisierung. |
| US07/140,278 US4859501A (en) | 1985-03-26 | 1987-12-31 | Method for providing a perpendicular recording medium for use with a ring-shaped recording and reproducing head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60112421A JPS61269221A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61269221A true JPS61269221A (ja) | 1986-11-28 |
Family
ID=14586227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60112421A Pending JPS61269221A (ja) | 1985-03-26 | 1985-05-24 | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61269221A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58158029A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59157827A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-07 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59218626A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-08 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-05-24 JP JP60112421A patent/JPS61269221A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58158029A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59157827A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-07 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS59218626A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-08 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
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