JPS61270645A - 誘導結合プラズマ発光分析装置 - Google Patents
誘導結合プラズマ発光分析装置Info
- Publication number
- JPS61270645A JPS61270645A JP11044385A JP11044385A JPS61270645A JP S61270645 A JPS61270645 A JP S61270645A JP 11044385 A JP11044385 A JP 11044385A JP 11044385 A JP11044385 A JP 11044385A JP S61270645 A JPS61270645 A JP S61270645A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coupled plasma
- plasma emission
- spectrum
- sample
- analyzing instrument
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は誘導結合プラズマ発光分光分析法に係り、特に
精度の高い分析値を能率的に得るためのバックグランド
補正法に関する。
精度の高い分析値を能率的に得るためのバックグランド
補正法に関する。
誘導結合プラズマ発光分光分析法は、不活性ガスに高周
波を印加して高温度のプラズマを生ぜしめ、この中に導
入された試料が発するスペクトル強度を測定するという
ものである。本分析法は原則的に溶液状態の試料を対象
とし、試料を霧状にしてプラズマ中に導入される。高温
度のプラズマに導入された試料の霧は、分解励起が行な
われて、元素の発光を生ずる。その発光した光を、分光
器に取り入れ、各々のスペクトル強度を計測することに
より、各元素の定性、定量分析が可能となる。
波を印加して高温度のプラズマを生ぜしめ、この中に導
入された試料が発するスペクトル強度を測定するという
ものである。本分析法は原則的に溶液状態の試料を対象
とし、試料を霧状にしてプラズマ中に導入される。高温
度のプラズマに導入された試料の霧は、分解励起が行な
われて、元素の発光を生ずる。その発光した光を、分光
器に取り入れ、各々のスペクトル強度を計測することに
より、各元素の定性、定量分析が可能となる。
しかし、ここで、複合した混合成分があり、発生した元
素のスペクトルは、複合する元素の数が多いほど複雑に
なり、分析するために選択する線をさがすのにむずかし
い。そのため、スペクトルのすその位置を決定し、その
位置から元来のピーク高さを決定し濃度等を知る方法を
取るが、すその位Ｗ（以降バックグランド補正位置とよ
ぶ）を決定する場合はあらかじめ、試料を吸入させ、計
測し、スペクトル書き、バックグランド補正位置を入力
し演算させる必要がある。そのためには、試料が複数測
定できる量が必要であり、少量試料には応用しにくい。
素のスペクトルは、複合する元素の数が多いほど複雑に
なり、分析するために選択する線をさがすのにむずかし
い。そのため、スペクトルのすその位置を決定し、その
位置から元来のピーク高さを決定し濃度等を知る方法を
取るが、すその位Ｗ（以降バックグランド補正位置とよ
ぶ）を決定する場合はあらかじめ、試料を吸入させ、計
測し、スペクトル書き、バックグランド補正位置を入力
し演算させる必要がある。そのためには、試料が複数測
定できる量が必要であり、少量試料には応用しにくい。
また、シュミレータ−により各元素の濃度波長等を入力
し、スペクトルパターンを知り得ることは可能であるが
、それを利用し、バックグランド補正位置等に対する演
算には適応されてない。
し、スペクトルパターンを知り得ることは可能であるが
、それを利用し、バックグランド補正位置等に対する演
算には適応されてない。
表示装置における方法としては単一の画面のみで、計測
したスペクトルの表示または、複数本のスペクトルの表
示、また指定された、波長位置や、強度が縮小、拡大さ
れるが、元の形が１一度ごとに外部プリンタに出力する
ことに保存される方法をとり、その出力された、ペーパ
を比較することにより判続していた。すなわち別々の手
続を同時に利用することや、拡大、縮小した部分と、元
の形を同時に表示することができないし複数の表示画面
を持てない。
したスペクトルの表示または、複数本のスペクトルの表
示、また指定された、波長位置や、強度が縮小、拡大さ
れるが、元の形が１一度ごとに外部プリンタに出力する
ことに保存される方法をとり、その出力された、ペーパ
を比較することにより判続していた。すなわち別々の手
続を同時に利用することや、拡大、縮小した部分と、元
の形を同時に表示することができないし複数の表示画面
を持てない。
本発明は誘導結合プラズマ発光分光分析法におけるバッ
クグランド補正を、シミュレーターと実測データとの組
合により、能率よくしかも高精度分析を行なう手段を供
することにある。
クグランド補正を、シミュレーターと実測データとの組
合により、能率よくしかも高精度分析を行なう手段を供
することにある。
〔発明の概要〕
本発明は、シミュレーターにより元素、波長。
濃度等を指示し、できたスペク１−ルから、正確なバッ
クグランド位置を指定し補正するものである。
クグランド位置を指定し補正するものである。
本発明の一実施例を第１図に示す。バックグランド補正
をする場合に、どのようなスベク１へルパターンかを知
る必要がある。たとえば鋼中のリンの分析を例にとって
説明する、銅の溶液１１００ｐｐの中にリン１．ｐｐｍ
含まれるように試料を調整しておき、試料導入部］によ
り誘導プラズマ発光部２に導入すると試料中の各成分は
、励起されてその成分特有の波長スペクトルを放射する
。分光器３により波長を走査し、各波長のスペクトル関
係が記憶装置４に記憶される。あらかじめ、情報入力器
５により、銅の濃度、リンの濃度および分析するための
波長を入力して、シュミレータ−装置６により記憶しで
ある、線情報から表示部Ａ９゜表示部Ｂのいずれかに、
スペクｌ−ルを表わしておき、必要なバックグランド位
置を情報入力器５より、波長設定を行なう。方法は、表
示部内に波長が指定できるカーソル１２があり、その位
置が情報入力器から変えられるようになっている。設定
位置を決定した状態を第２図に示す。カーソル１２−１
．．１２−２と１２−２．１２−３との接線、また第３
図における、銅の濃度が５００ｐｐｍの場合を示す。同
様に１２−４．１２−６と１２−５．１．２−６との各
接線での、リンの発光強度を求めるとそれぞれ差がでて
しまう。本来ならば、個々のバックグランド補正位置で
も発光強度は同一にならなければ、求められる濃度に差
がでてしまう。そこで、第４図に示されるように、シュ
ミレーションから得たスペクトルパターンによりバック
グランド位置に決定する。なお、第５図に示すように、
一般的に行なわれている、バンクグランド補正は、Ａ、
Ｂ両接点を結んだ線をリンのピーク位置との強度Ｓ□で
求められる。しかし、実際のリン強度は、Ｓ １＋ ８
２であり、８２分、誤差を生ずる。また同様に、Ｂの水
平線上と、リンのピークとの強度Ｓ、＋Ｓ２＋Ｓ３も誤
差を生ずる。ここで、あらかじめ、シュミレータ−によ
り、各スペクトルを第４図のように表示しておき、関数
計算器により、どのように重なりあうかがわかり、バッ
クグランドの位置を決定する曲線を捜し、指定する。実
際の試料の測定は、これらの情報から測定された強度か
ら濃度を求める。
をする場合に、どのようなスベク１へルパターンかを知
る必要がある。たとえば鋼中のリンの分析を例にとって
説明する、銅の溶液１１００ｐｐの中にリン１．ｐｐｍ
含まれるように試料を調整しておき、試料導入部］によ
り誘導プラズマ発光部２に導入すると試料中の各成分は
、励起されてその成分特有の波長スペクトルを放射する
。分光器３により波長を走査し、各波長のスペクトル関
係が記憶装置４に記憶される。あらかじめ、情報入力器
５により、銅の濃度、リンの濃度および分析するための
波長を入力して、シュミレータ−装置６により記憶しで
ある、線情報から表示部Ａ９゜表示部Ｂのいずれかに、
スペクｌ−ルを表わしておき、必要なバックグランド位
置を情報入力器５より、波長設定を行なう。方法は、表
示部内に波長が指定できるカーソル１２があり、その位
置が情報入力器から変えられるようになっている。設定
位置を決定した状態を第２図に示す。カーソル１２−１
．．１２−２と１２−２．１２−３との接線、また第３
図における、銅の濃度が５００ｐｐｍの場合を示す。同
様に１２−４．１２−６と１２−５．１．２−６との各
接線での、リンの発光強度を求めるとそれぞれ差がでて
しまう。本来ならば、個々のバックグランド補正位置で
も発光強度は同一にならなければ、求められる濃度に差
がでてしまう。そこで、第４図に示されるように、シュ
ミレーションから得たスペクトルパターンによりバック
グランド位置に決定する。なお、第５図に示すように、
一般的に行なわれている、バンクグランド補正は、Ａ、
Ｂ両接点を結んだ線をリンのピーク位置との強度Ｓ□で
求められる。しかし、実際のリン強度は、Ｓ １＋ ８
２であり、８２分、誤差を生ずる。また同様に、Ｂの水
平線上と、リンのピークとの強度Ｓ、＋Ｓ２＋Ｓ３も誤
差を生ずる。ここで、あらかじめ、シュミレータ−によ
り、各スペクトルを第４図のように表示しておき、関数
計算器により、どのように重なりあうかがわかり、バッ
クグランドの位置を決定する曲線を捜し、指定する。実
際の試料の測定は、これらの情報から測定された強度か
ら濃度を求める。
ここで表示部Ａ、Ｂの２つの画面はシュミレーションに
おけるスペク１−ルと、実際に測定したスペクトルを各
々に表示または片側に重ね合わせて表示することにより
、比較ができ確認ができる。
おけるスペク１−ルと、実際に測定したスペクトルを各
々に表示または片側に重ね合わせて表示することにより
、比較ができ確認ができる。
このように、通常分析する手段としては、少量試料の場
合や、貴重な試料などは、多量に、チェックのために消
費することができない。あらかし吟Ｉ／ め、シュミレーションで確認および指定することにより
、少量試料ですむし、迅速分析が出来る。
合や、貴重な試料などは、多量に、チェックのために消
費することができない。あらかし吟Ｉ／ め、シュミレーションで確認および指定することにより
、少量試料ですむし、迅速分析が出来る。
第１図は本発明の詳細な説明図、第２図、第３図は鋼中
のリンの実施例を示す図、第４図はシュミレーションし
た銅とリンのスペクトルパターンを示す図、第５図は銅
とリンのスペクトルパターンでバックグランド補正の方
法を示す図である。 １・・・試料導入部、２・・・誘導結合プラズマ発光部
、３・・・分光器部、４・・・記憶装置、５・・・情報
入力器、６・・・シュミレータ装置、７・・・演算器、
８・・・表示部Ａ、９・・表示部Ｂ、１０・・・記録器
、１２−１〜６・カーソル位置（バックグランド補正位
置）。
のリンの実施例を示す図、第４図はシュミレーションし
た銅とリンのスペクトルパターンを示す図、第５図は銅
とリンのスペクトルパターンでバックグランド補正の方
法を示す図である。 １・・・試料導入部、２・・・誘導結合プラズマ発光部
、３・・・分光器部、４・・・記憶装置、５・・・情報
入力器、６・・・シュミレータ装置、７・・・演算器、
８・・・表示部Ａ、９・・表示部Ｂ、１０・・・記録器
、１２−１〜６・カーソル位置（バックグランド補正位
置）。
Claims (1)
- １、複数の表示画面を持ち、シユミレシヨンしたスペク
トルおよび実測したスペクトルを同時に表示し、個々の
拡大縮小、それらの重ね合せができ、なおかつその部分
がどこであるかを表示することを特徴とする誘導結合プ
ラズマ発光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11044385A JPS61270645A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 誘導結合プラズマ発光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11044385A JPS61270645A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 誘導結合プラズマ発光分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270645A true JPS61270645A (ja) | 1986-11-29 |
Family
ID=14535848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11044385A Pending JPS61270645A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 誘導結合プラズマ発光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61270645A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6412233A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-17 | Shimadzu Corp | Spectrofluorescent photometer |
| JPH0242341A (ja) * | 1988-04-09 | 1990-02-13 | Bodenseewerk Perkin Elmer & Co Gmbh | 試料内の元素の多元素測定を行う原子発光分光分析装置及び原子発光分光分析法 |
| JPH02203256A (ja) * | 1988-04-09 | 1990-08-13 | Bodenseewerk Perkin Elmer & Co Gmbh | 原子発光分光計 |
| JP2006258633A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Shimadzu Corp | 分析装置 |
-
1985
- 1985-05-24 JP JP11044385A patent/JPS61270645A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6412233A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-17 | Shimadzu Corp | Spectrofluorescent photometer |
| JPH0242341A (ja) * | 1988-04-09 | 1990-02-13 | Bodenseewerk Perkin Elmer & Co Gmbh | 試料内の元素の多元素測定を行う原子発光分光分析装置及び原子発光分光分析法 |
| JPH02203256A (ja) * | 1988-04-09 | 1990-08-13 | Bodenseewerk Perkin Elmer & Co Gmbh | 原子発光分光計 |
| JP2006258633A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Shimadzu Corp | 分析装置 |
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