JPS61276123A - 磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS61276123A JPS61276123A JP60107635A JP10763585A JPS61276123A JP S61276123 A JPS61276123 A JP S61276123A JP 60107635 A JP60107635 A JP 60107635A JP 10763585 A JP10763585 A JP 10763585A JP S61276123 A JPS61276123 A JP S61276123A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- magnetic field
- ferrite
- horizontal
- film
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
ディスク基板上にバリウム・フェライト塗料をスピンコ
ート法で塗布した後、低速で回転させながら水平磁界を
加えることにより水平配向させた磁気ディスク。
ート法で塗布した後、低速で回転させながら水平磁界を
加えることにより水平配向させた磁気ディスク。
本発明はバリウム・フェライト磁性塗料を用い記録密度
が太き（、またリングヘッドで記録・再生が可能な磁気
ディスクの製造方法に関する。
が太き（、またリングヘッドで記録・再生が可能な磁気
ディスクの製造方法に関する。
磁気ディスクはアルミニウム合金などの非磁性円板上に
磁性記録媒体がスピンコート法、真空蒸着法、スパッタ
法などの方法により薄膜化して形成されている。
磁性記録媒体がスピンコート法、真空蒸着法、スパッタ
法などの方法により薄膜化して形成されている。
すなわち記録媒体がフェライト（γ−Ｆｅｚ Ｏ３）や
バリウム・フェライト（Ｂａ０ ・６ Ｆｅｚ Ｏコ
）のような酸化物からなるものについてはスピンコート
法が主として用いられており、一方ニッケル・コバルト
・燐（Ｎｉ −Ｃｏ−Ｐ”）やコバルト・クローム（
ｃｏ−Ｃｒ）のような磁性合金膜を用いるものについて
は真空蒸着法やスパッタ法が用いられている。
バリウム・フェライト（Ｂａ０ ・６ Ｆｅｚ Ｏコ
）のような酸化物からなるものについてはスピンコート
法が主として用いられており、一方ニッケル・コバルト
・燐（Ｎｉ −Ｃｏ−Ｐ”）やコバルト・クローム（
ｃｏ−Ｃｒ）のような磁性合金膜を用いるものについて
は真空蒸着法やスパッタ法が用いられている。
ここでスピンコート法による塗膜と真空蒸着法などよる
蒸着膜とを比較すると、磁気特性では後者が優れるもの
の、機械的強度の点では酸化物を用いる前者が海かに優
れており、これらのことから酸化物磁性塗料をスピンコ
ートした磁気ディスりが一般的に使用されている。
蒸着膜とを比較すると、磁気特性では後者が優れるもの
の、機械的強度の点では酸化物を用いる前者が海かに優
れており、これらのことから酸化物磁性塗料をスピンコ
ートした磁気ディスりが一般的に使用されている。
さて、酸化物磁性材料としては先に記したようにγ−酸
化鉄とバリウム・フェライト（以下略してＢａフェライ
ト）が代表的であり、これを主成分として磁性塗料を作
り、非磁性基板（以下略して基板）に塗布して磁性膜が
作られているが、磁性膜中でγ−酸化鉄は水平配向して
おり、またＢａフェライトは垂直配向しているのが普通
である。
化鉄とバリウム・フェライト（以下略してＢａフェライ
ト）が代表的であり、これを主成分として磁性塗料を作
り、非磁性基板（以下略して基板）に塗布して磁性膜が
作られているが、磁性膜中でγ−酸化鉄は水平配向して
おり、またＢａフェライトは垂直配向しているのが普通
である。
すなわちγ−酸化鉄は針状の結晶であるためスピンコー
トの際に水平配向し易く、一方Ｂａフェライトは第３図
に示すような六角板状の形状をしており、磁化容易軸が
板面に直角方向にあるために垂直配向が起こりやすい。
トの際に水平配向し易く、一方Ｂａフェライトは第３図
に示すような六角板状の形状をしており、磁化容易軸が
板面に直角方向にあるために垂直配向が起こりやすい。
ここで両者の磁性材料を比較すると同じ粒径の材料を用
いてもＢａフェライト磁性膜の記録密度は５ｏｏｏｏ〜
６００００ ＢＰＩ 、一方γ−酸化鉄磁性膜は約２０
０００ ＢＰＩとＢａフェライト磁性膜の方が優れてい
る。
いてもＢａフェライト磁性膜の記録密度は５ｏｏｏｏ〜
６００００ ＢＰＩ 、一方γ−酸化鉄磁性膜は約２０
０００ ＢＰＩとＢａフェライト磁性膜の方が優れてい
る。
次ぎに磁気ディスクに情報の記録と再生を行う磁気ヘッ
ドには水平成分の磁束変化を検知するりングヘッドが広
く使用されている。
ドには水平成分の磁束変化を検知するりングヘッドが広
く使用されている。
Ｂａフェライト磁性膜は記録密度が高いが、垂直磁性膜
であるために記録された情報をリングヘッドで検出する
場合は磁束の水平成分と垂直成分とが合成された変形パ
ルスとなり、波形処理を行なわなければ装置での記録・
再生は困難である。
であるために記録された情報をリングヘッドで検出する
場合は磁束の水平成分と垂直成分とが合成された変形パ
ルスとなり、波形処理を行なわなければ装置での記録・
再生は困難である。
第４図はこの理由を説明するもので、磁化されている磁
性体の上をリングヘッドが通過する場合に磁性体が水平
方向に磁化していると、リングヘッドが切る磁束量は水
平成分のものが殆どであり、磁束密度は破線１で示すよ
うな正規分布をなして検出され、垂直成分は無視できる
ほど少ない。
性体の上をリングヘッドが通過する場合に磁性体が水平
方向に磁化していると、リングヘッドが切る磁束量は水
平成分のものが殆どであり、磁束密度は破線１で示すよ
うな正規分布をなして検出され、垂直成分は無視できる
ほど少ない。
一方、Ｂａフェライトのように垂直配向し易い磁性体の
場合は垂直成分が多く、垂直に配向した磁性体上をリン
グヘッドが通過する場合は一点破線２で示すような検出
波形となる。
場合は垂直成分が多く、垂直に配向した磁性体上をリン
グヘッドが通過する場合は一点破線２で示すような検出
波形となる。
また破ｗＡｌに示すような水平成分も存在するため両者
が合成されて実ｖＡ３に示すような波形が検出される。
が合成されて実ｖＡ３に示すような波形が検出される。
このように検出波形は変形していると共にピーク値が原
点よりずれて現れるので補正が必要であり、検出信号を
遅延回路や減衰器などからなる補正回路に通して波形処
理を行わなければ記録・再生を行うことは難しい。
点よりずれて現れるので補正が必要であり、検出信号を
遅延回路や減衰器などからなる補正回路に通して波形処
理を行わなければ記録・再生を行うことは難しい。
これらのことからＢａフェライトは高密度化には有効で
あることは判ってはいるが、実用化されるには到ってい
ない。
あることは判ってはいるが、実用化されるには到ってい
ない。
以上説明したようにＢａフェライトを主成分とする磁性
膜は記録密度の増大には有効であるが、垂直磁性膜であ
るためにリングヘッドを用いては簡単に信号を検出する
ことができない。
膜は記録密度の増大には有効であるが、垂直磁性膜であ
るためにリングヘッドを用いては簡単に信号を検出する
ことができない。
そこでＢａフェライトを水平配向させた磁性膜を作るこ
とができれば、従来のフェライトを主成分とする水平配
向膜と同様にリングヘッドを用いて容易に記録・再生を
行うことができるが、水平配向させる方法を見し）′だ
すことが問題である。
とができれば、従来のフェライトを主成分とする水平配
向膜と同様にリングヘッドを用いて容易に記録・再生を
行うことができるが、水平配向させる方法を見し）′だ
すことが問題である。
Ｃ問題点を解決するための手段〕
上記の問題はＢａフェライト磁性粉を主成分とする磁性
塗料を非磁性基板上にスピンコートした後、該基板を低
速で回転させながら垂直磁場と水平磁場とを交互に加え
て配向させた後、水平磁場を加えながら乾燥させること
により水平配向させることを特徴とする磁気ディスクの
製造方法により解決することができる。
塗料を非磁性基板上にスピンコートした後、該基板を低
速で回転させながら垂直磁場と水平磁場とを交互に加え
て配向させた後、水平磁場を加えながら乾燥させること
により水平配向させることを特徴とする磁気ディスクの
製造方法により解決することができる。
本発明はＢａフェライトは第３図に示すように六角板状
の結晶であり、スピンコート法によって容易に垂直配向
することからスピンコートを行う際にも磁性塗料の粘度
を低くして低速でコーティングするか、或いは粘度を高
くしてなるべく垂直に配向しないように努める。
の結晶であり、スピンコート法によって容易に垂直配向
することからスピンコートを行う際にも磁性塗料の粘度
を低くして低速でコーティングするか、或いは粘度を高
くしてなるべく垂直に配向しないように努める。
次ぎに塗布後、塗膜が未乾燥の状態で垂直磁場と水平磁
場とを交互に加えてＢａフェライト粒子が凝集するのを
防ぐと共に分散して動き易い状態とした上で水平磁場を
加えて均一に分散している粒子を水平配向させ、この状
態で乾燥させるものである。
場とを交互に加えてＢａフェライト粒子が凝集するのを
防ぐと共に分散して動き易い状態とした上で水平磁場を
加えて均一に分散している粒子を水平配向させ、この状
態で乾燥させるものである。
この方法を用いることによりＢａフェライトが水平方向
に配向した磁性膜を作ることができる。
に配向した磁性膜を作ることができる。
第１図は本発明の詳細な説明するタイムチャートで磁性
塗料の粘度の低い場合と高い場合について述べると次ぎ
のようになる。
塗料の粘度の低い場合と高い場合について述べると次ぎ
のようになる。
第１表は実施例に使用した磁性塗料の組成であ′る。
ここで粘度の調節は溶剤の量を加減して行っている。
実施例１ （粘度がｌボイズ以下の場合）処理基板に対
し垂直磁場と水平磁場が交互に加えられるように対称位
置に磁石を備えたスピンナを用い、第１図に示すように
スピンナの回転数を４０Ｏｒｐｍのような低速で回転さ
せた状態５で磁性塗料を滴下した後、回転数を７０Ｏｒ
ｐｍの状態６に上げて余分な塗料を振り切り、基板上に
均一な厚さの塗膜を形成する。
し垂直磁場と水平磁場が交互に加えられるように対称位
置に磁石を備えたスピンナを用い、第１図に示すように
スピンナの回転数を４０Ｏｒｐｍのような低速で回転さ
せた状態５で磁性塗料を滴下した後、回転数を７０Ｏｒ
ｐｍの状態６に上げて余分な塗料を振り切り、基板上に
均一な厚さの塗膜を形成する。
第１表
ここでスピンコートを二段階に行う理由はＢａフェライ
トの垂直配向を防ぐためで、なるべく低速で塗料を塗布
して垂直配向するのを防ぐが、その場合は基板の全域に
互って塗料が均一に行き渡らないので回転数を上げて余
分の塗料を振り切るのである。
トの垂直配向を防ぐためで、なるべく低速で塗料を塗布
して垂直配向するのを防ぐが、その場合は基板の全域に
互って塗料が均一に行き渡らないので回転数を上げて余
分の塗料を振り切るのである。
この塗膜形成の工程を通じて塗膜には第１図の下段に示
すように垂直磁場７が加えられており、塗膜中のＢａフ
ェライト磁性粉が遠心力により基板の周辺部に偏るのを
防いでいる。
すように垂直磁場７が加えられており、塗膜中のＢａフ
ェライト磁性粉が遠心力により基板の周辺部に偏るのを
防いでいる。
塗膜形成が終わった後は第１図に示すように回転数を５
ｒｐｍの状Ｌｉ８に下げると共に水平磁場９を加える
。
ｒｐｍの状Ｌｉ８に下げると共に水平磁場９を加える
。
すなわち基板は低速で一回転する際、対称位置に設けで
ある垂直磁場と水平磁場によりＢａフェライト粒子の配
向方向が垂直と水平方向に変動し、この運動により粒子
相互の凝集が避けられる。
ある垂直磁場と水平磁場によりＢａフェライト粒子の配
向方向が垂直と水平方向に変動し、この運動により粒子
相互の凝集が避けられる。
この状態を暫時続けた後、図に示すように垂直磁場７を
切り水平磁場９のみとする。
切り水平磁場９のみとする。
これによりＢａフェライト粒子は水平配向し、溶剤の蒸
発により粘度が上昇し、もはや配向が起こらない状態と
なる。
発により粘度が上昇し、もはや配向が起こらない状態と
なる。
この配向期間は３〜５分程度である。
次ぎにスピンナの回転数をこの実施例の場合は８５０ｒ
ｐｍの状態１０に上げて乾燥させるが、この際に本実施
例のように二段階に回転数を上げてもよく、また徐々に
上げてもよい。
ｐｍの状態１０に上げて乾燥させるが、この際に本実施
例のように二段階に回転数を上げてもよく、また徐々に
上げてもよい。
なお、この乾燥期間を通じて水平磁界９は印加されてい
る。
る。
このような塗膜形成を行うことにより水平配向膜を作る
ことができる。
ことができる。
実施例２（粘度が２ボイズの場合）
磁性塗料の粘度が高い場合はスピンコートの際にＢａフ
ェライトが自動的に垂直配向する程度が比較的少ないの
で回転数を少し上げても差支えないことが判った。
ェライトが自動的に垂直配向する程度が比較的少ないの
で回転数を少し上げても差支えないことが判った。
すなわち第１図において低速回転の状態５の回転数を７
０Ｏｒｐｍに上げ、また余分な塗料を振り切り均一に塗
布する状態６の回転数を１２００〜１５００に上げても
Ｂａフェライト粒子の偏在を生じない。
０Ｏｒｐｍに上げ、また余分な塗料を振り切り均一に塗
布する状態６の回転数を１２００〜１５００に上げても
Ｂａフェライト粒子の偏在を生じない。
以下粒子の凝集を防ぎながら水平配向させる配向状態８
および乾燥状態１０を形成する条件は実施例１と同様に
することにより水平配向膜を作ることができた。
および乾燥状態１０を形成する条件は実施例１と同様に
することにより水平配向膜を作ることができた。
次ぎに以上記した条件を外して磁性塗料の塗布を行った
場合は充分な水平配向膜が得られないことを実験結果を
基にして説明する。
場合は充分な水平配向膜が得られないことを実験結果を
基にして説明する。
溶剤の添加量を調節して粘度が０．９ボイズで第１表に
示す組成の磁性塗料を作り、実施例１に示した条件、す
なわち低速回転状態５が４０Ｏｒｐｍ、塗料の振り切り
状Ｂ６が７００ｒｐｍの条件とし、以下実施例１で記し
た条件で形成した磁気ディスクを試料Ａとし、一方低速
回転状態５が７０Ｏｒｐｍ、塗料の振り切り状態６が１
２０ｏｒｐｍと回転数を速くし、以下実施例１で記した
条件で形成した磁気ディスクを試料Ｂとして出力波形と
配向度とを比較した。
示す組成の磁性塗料を作り、実施例１に示した条件、す
なわち低速回転状態５が４０Ｏｒｐｍ、塗料の振り切り
状Ｂ６が７００ｒｐｍの条件とし、以下実施例１で記し
た条件で形成した磁気ディスクを試料Ａとし、一方低速
回転状態５が７０Ｏｒｐｍ、塗料の振り切り状態６が１
２０ｏｒｐｍと回転数を速くし、以下実施例１で記した
条件で形成した磁気ディスクを試料Ｂとして出力波形と
配向度とを比較した。
第２図はリングヘッドを用い、Ｉ ＭＨｚでの検出波形
で試料Ａは波形の歪がなく、水平配向していることを示
すが、試料ＢはＤｉｅ−パルスとなっており、かなりの
垂直成分が含まれていることを示している。
で試料Ａは波形の歪がなく、水平配向していることを示
すが、試料ＢはＤｉｅ−パルスとなっており、かなりの
垂直成分が含まれていることを示している。
次ぎにＶ ＳＭ （Ｖｉｂｒａｔｅｄ Ｓａｍｐｌｅ
Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｍａｔｅｒ）を用い、１０ＫＯｅ
の条件で配向度を、また記録・再生特性から記録密
度（Ｆｌｕｘ Ｒｅｖｅｒｓｅ ｐｅｒ １ｎｃｈ）を
測定すると第２表の結果が得られ、上記のように低速で
塗布する場合にのみ水平配向が行われることが証明され
た。
Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｍａｔｅｒ）を用い、１０ＫＯｅ
の条件で配向度を、また記録・再生特性から記録密
度（Ｆｌｕｘ Ｒｅｖｅｒｓｅ ｐｅｒ １ｎｃｈ）を
測定すると第２表の結果が得られ、上記のように低速で
塗布する場合にのみ水平配向が行われることが証明され
た。
第２表
このように試料Ａは水平方向に良く配向しており、また
記録密度も高い。
記録密度も高い。
以上記したように本発明の実施によりＢａフェライトを
水平配向させることが可能となり、リングヘッドを使用
して波形歪のない信号検出を行うことができる。
水平配向させることが可能となり、リングヘッドを使用
して波形歪のない信号検出を行うことができる。
第１図は本発明を実施するタイムチャート、第２図は磁
性膜のリングヘッド検出波形、第３図はＢａフェライト
の斜視図、 第４図は磁性膜のリングヘッド検出波形解析図、である
。 図において、 ７は垂直磁場、 ９は水平磁場、である。 ・ζ；ｌａｇの１ルプ＼・ンド４φミ゛由蝉υし蕃２回
性膜のリングヘッド検出波形、第３図はＢａフェライト
の斜視図、 第４図は磁性膜のリングヘッド検出波形解析図、である
。 図において、 ７は垂直磁場、 ９は水平磁場、である。 ・ζ；ｌａｇの１ルプ＼・ンド４φミ゛由蝉υし蕃２回
Claims (1)
- バリウム・フェライト磁性粉を主成分とする磁性塗料を
非磁性基板上にスピンコートした後、該基板を低速で回
転させながら垂直磁場と水平磁場とを交互に加えて配向
させた後、水平磁場を加えながら乾燥させることにより
水平配向させることを特徴とする磁気ディスクの製造方
法。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60107635A JPS61276123A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
| EP86401026A EP0203002B1 (en) | 1985-05-20 | 1986-05-13 | Longitudinal magnetic coated recording medium |
| DE8686401026T DE3683397D1 (de) | 1985-05-20 | 1986-05-13 | Aufzeichnungsmedium mit longitudinal ausgerichteter magnetischer schicht. |
| US06/863,039 US4746569A (en) | 1985-05-20 | 1986-05-14 | Longitudinal magnetic coated recording medium |
| CA000509384A CA1291677C (en) | 1985-05-20 | 1986-05-16 | Longitudinal magnetic coated recording medium |
| ES555094A ES8900099A1 (es) | 1985-05-20 | 1986-05-19 | Un medio de registro con recubrimiento magnetico orientado en direccion longitudinal. |
| KR8603883A KR900002990B1 (en) | 1985-05-20 | 1986-05-19 | Magnetic recording carrier and the method of manufacturing its same |
| AU57593/86A AU568978B2 (en) | 1985-05-20 | 1986-05-20 | Longitudinal magnetic-coated recording medium |
| US07/039,226 US4822634A (en) | 1985-05-20 | 1987-04-17 | Longitudinal magnetic coated recording medium |
| ES557721A ES8801459A1 (es) | 1985-05-20 | 1987-09-15 | Un procedimiento para fabricar un medio de registro con recubrimiento magnetico orientado en direccion longitudinal |
| AU81474/87A AU584531B2 (en) | 1985-05-20 | 1987-11-20 | A process for producing a longitudinal magnetic coated recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60107635A JPS61276123A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61276123A true JPS61276123A (ja) | 1986-12-06 |
Family
ID=14464186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60107635A Pending JPS61276123A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61276123A (ja) |
-
1985
- 1985-05-20 JP JP60107635A patent/JPS61276123A/ja active Pending
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