JPS6128027B2 - - Google Patents
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- JPS6128027B2 JPS6128027B2 JP54113100A JP11310079A JPS6128027B2 JP S6128027 B2 JPS6128027 B2 JP S6128027B2 JP 54113100 A JP54113100 A JP 54113100A JP 11310079 A JP11310079 A JP 11310079A JP S6128027 B2 JPS6128027 B2 JP S6128027B2
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- JP
- Japan
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- vapor deposition
- aluminum oxide
- titanium oxide
- film
- electron gun
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/081—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸着用酸化アルミニウム組成物に関す
る。近年、光学系の高性能化にともない、レンズ
等の光学系に対して従来から用いられてきた弗化
マグネシウムの単層反射防止膜を施した程度では
満足できず、レンズ表面の反射を殆んど零にする
ような高性能な多層反射防止膜を施す事が要求さ
れてきた。高性能多層反射防止膜を実現する方法
として例えば基板上に中間屈折率物質を光学的膜
厚（幾何学的膜厚×屈折率）で中心波長λ０の1/
４、さらに高屈折率物質を1/2λ０、さらに低屈折
率物質を1/4λ０蒸着した、いわゆる３層整数反
射防止膜が広く用いられている。これらの膜構成
において、中間屈折率物質として屈折率1.62を持
つ、酸化アルミニウムが広く用いられる。
る。近年、光学系の高性能化にともない、レンズ
等の光学系に対して従来から用いられてきた弗化
マグネシウムの単層反射防止膜を施した程度では
満足できず、レンズ表面の反射を殆んど零にする
ような高性能な多層反射防止膜を施す事が要求さ
れてきた。高性能多層反射防止膜を実現する方法
として例えば基板上に中間屈折率物質を光学的膜
厚（幾何学的膜厚×屈折率）で中心波長λ０の1/
４、さらに高屈折率物質を1/2λ０、さらに低屈折
率物質を1/4λ０蒸着した、いわゆる３層整数反
射防止膜が広く用いられている。これらの膜構成
において、中間屈折率物質として屈折率1.62を持
つ、酸化アルミニウムが広く用いられる。
酸化アルミニウムは蒸気圧が低く、2000℃以上
に加熱しなければ蒸着できず、タングステン、タ
ンタル等の高温用の金属材料での抵抗加熱では金
属と反応を起こし、金属が容易に溶断してしま
う。したがつて、酸化アルミニウムの蒸着は電子
を蒸着物質に衝突させて加熱（以下電子銃加熱と
呼ぶ）する方法が用いられる。しかし、通常の条
件で焼結した酸化アルミニウムは電子銃で加熱す
る際、タブレツトの溶解過程で、加熱速度（衝突
電子の数）を少しでも上げすぎると、タブレツト
が容易に破裂飛散し、蒸着が出来なくなることが
多い。
に加熱しなければ蒸着できず、タングステン、タ
ンタル等の高温用の金属材料での抵抗加熱では金
属と反応を起こし、金属が容易に溶断してしま
う。したがつて、酸化アルミニウムの蒸着は電子
を蒸着物質に衝突させて加熱（以下電子銃加熱と
呼ぶ）する方法が用いられる。しかし、通常の条
件で焼結した酸化アルミニウムは電子銃で加熱す
る際、タブレツトの溶解過程で、加熱速度（衝突
電子の数）を少しでも上げすぎると、タブレツト
が容易に破裂飛散し、蒸着が出来なくなることが
多い。
本発明の目的はこれらの欠点を改良した蒸着用
酸化アルミニウム組成物を提供することである。
さらに他の目的は、酸化アルミニウム組成物の焼
結タブレツトを電子銃で加熱蒸着するときに、タ
ブレツトが破裂飛散することなく容易に溶解する
材料を提供することである。さらに他の目的は、
化学的に安定で耐久性に富み、反射防止性能の優
れたコーテイング膜を製造する方法と材料を提供
することである。さらに他の目的は、連続自動蒸
着装置に適用できる蒸着用酸化アルミニウム組成
物を提供することである。
酸化アルミニウム組成物を提供することである。
さらに他の目的は、酸化アルミニウム組成物の焼
結タブレツトを電子銃で加熱蒸着するときに、タ
ブレツトが破裂飛散することなく容易に溶解する
材料を提供することである。さらに他の目的は、
化学的に安定で耐久性に富み、反射防止性能の優
れたコーテイング膜を製造する方法と材料を提供
することである。さらに他の目的は、連続自動蒸
着装置に適用できる蒸着用酸化アルミニウム組成
物を提供することである。
その特徴とするところは、酸化チタンを含有す
る蒸着用酸化アルミニウム組成物にある。さらに
は、酸化アルミニウムと酸化チタンとを混合した
タブレツトを用いて光学ガラスの反射防止膜を作
製する電子銃加熱蒸着方法にある。
る蒸着用酸化アルミニウム組成物にある。さらに
は、酸化アルミニウムと酸化チタンとを混合した
タブレツトを用いて光学ガラスの反射防止膜を作
製する電子銃加熱蒸着方法にある。
反射防止膜は化学的に安定で耐久性に富み前記
の特定の屈折率を有し、その膜自身による光損失
（吸収）Ａは次のように定義される。
の特定の屈折率を有し、その膜自身による光損失
（吸収）Ａは次のように定義される。
Ａ（％）＝100−Ｒ（％）−Ｔ（％）
Ｒ（％）＝反射率
Ｔ（％）＝透過率
本発明において、蒸着用酸化アルミニウム組成
物に含有させる酸化チタンの量は0.1重量％〜６
重量％、好ましくは１重量％〜５重量％である。
ここで酸化チタンの含有量が多すぎると薄膜の光
損失が大きくなるので光学薄膜としては特殊な場
合を除いて用い難い。
物に含有させる酸化チタンの量は0.1重量％〜６
重量％、好ましくは１重量％〜５重量％である。
ここで酸化チタンの含有量が多すぎると薄膜の光
損失が大きくなるので光学薄膜としては特殊な場
合を除いて用い難い。
電子銃加熱蒸着用タブレツトは、前記重量割合
で酸化アルミニウムと酸化チタンとを混合した
後、さらに焼結する温度まで加熱することにより
得られる。なおこの酸化アルミニウムと酸化チタ
ンとを混合して作つた蒸着材料は電子銃加熱ばか
りでなく、スパツタリングのターゲツトとしても
好適な反射防止膜が得られる。
で酸化アルミニウムと酸化チタンとを混合した
後、さらに焼結する温度まで加熱することにより
得られる。なおこの酸化アルミニウムと酸化チタ
ンとを混合して作つた蒸着材料は電子銃加熱ばか
りでなく、スパツタリングのターゲツトとしても
好適な反射防止膜が得られる。
この実施例を次に示す。
実施例 １
酸化アルミニウムに酸化チタンを重量比で１％
添加し充分混合し、500Kg/cm2の圧力でプレス成型
した後、約1300℃、約３時間の焼結を行つて蒸着
試験の錠剤（タブレツト）を得た。次いでこの試
薬を蒸着装置に配置された電子銃に装填した。真
空度１×10-5Torrになるまで排気後、BK7（ガラ
スの屈折率ｎ＝1.52）ガラス基板上に注意しなが
ら電子銃の出力を上げ、錠剤の温度を上げて溶解
し、さらに光学的膜厚がnd＝125mmとなるまで蒸
着した。
添加し充分混合し、500Kg/cm2の圧力でプレス成型
した後、約1300℃、約３時間の焼結を行つて蒸着
試験の錠剤（タブレツト）を得た。次いでこの試
薬を蒸着装置に配置された電子銃に装填した。真
空度１×10-5Torrになるまで排気後、BK7（ガラ
スの屈折率ｎ＝1.52）ガラス基板上に注意しなが
ら電子銃の出力を上げ、錠剤の温度を上げて溶解
し、さらに光学的膜厚がnd＝125mmとなるまで蒸
着した。
BK7基板上に蒸着された本試薬の蒸着膜は屈折
率ｎ＝1.62で吸収もなく、基板に対する付着力が
大きく、かつ化学的に安定で耐久性に富み、前記
高性能多層反射防止膜の中間屈折率物質としてき
わめて満足すべき薄膜が得られた。
率ｎ＝1.62で吸収もなく、基板に対する付着力が
大きく、かつ化学的に安定で耐久性に富み、前記
高性能多層反射防止膜の中間屈折率物質としてき
わめて満足すべき薄膜が得られた。
実施例 ２
酸化アルミニウムに酸化チタンを重量比で2.5
％添加し、前記実施例と同様な方法で錠剤を得
た。前記実施例と同様な方法で蒸着を行なつた所
実施例１と同様に、破裂飛散することなく、容易
に蒸着できた。光学的性質も前記実施例と同様で
あつた。
％添加し、前記実施例と同様な方法で錠剤を得
た。前記実施例と同様な方法で蒸着を行なつた所
実施例１と同様に、破裂飛散することなく、容易
に蒸着できた。光学的性質も前記実施例と同様で
あつた。
実施例 ３
酸化アルミニウムに酸化チタンを重量比で５％
添加し、前記実施例と同様な方法で錠剤を得前記
実施例と同様な方法で蒸着を行つた所、きわめて
容易に蒸着できた。BK7基板上に蒸着された本実
施例の蒸着膜の屈折率はｎ＝1.63で実施例１、実
施例２にくらべわずかに高い。吸収、付着力、耐
久性等については実施例１、２と同様に満足すべ
き薄膜が得られた。
添加し、前記実施例と同様な方法で錠剤を得前記
実施例と同様な方法で蒸着を行つた所、きわめて
容易に蒸着できた。BK7基板上に蒸着された本実
施例の蒸着膜の屈折率はｎ＝1.63で実施例１、実
施例２にくらべわずかに高い。吸収、付着力、耐
久性等については実施例１、２と同様に満足すべ
き薄膜が得られた。
比較例 １
酸化アルミニウムに酸化チタンを重量比で7.5
％添加し前記実施例と同様な方法で錠剤を得、前
記実施例と同様な方法で蒸着を行つた所、きわめ
て容易に蒸着できた。BK7基板上に蒸着された本
実施例の蒸着膜の屈折率はｎ＝1.65で付着力、耐
久性等については実施例１、２、３と同様満足す
べき状態であつた。しかし、この蒸着膜による光
損失（吸収）は１〜２％あり、光学薄膜としては
実用上満足なものとはいえなかつた。
％添加し前記実施例と同様な方法で錠剤を得、前
記実施例と同様な方法で蒸着を行つた所、きわめ
て容易に蒸着できた。BK7基板上に蒸着された本
実施例の蒸着膜の屈折率はｎ＝1.65で付着力、耐
久性等については実施例１、２、３と同様満足す
べき状態であつた。しかし、この蒸着膜による光
損失（吸収）は１〜２％あり、光学薄膜としては
実用上満足なものとはいえなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 酸化チタンを含有することを特徴とする蒸着
用酸化アルミニウム組成物。 ２ 酸化チタンの含有量が0.1重量％〜６重量％
である特許請求の範囲第１項記載の蒸着用酸化ア
ルミニウム組成物。 ３ 酸化アルミニウムと酸化チタンを混合して焼
結し、電子銃加熱蒸着用タブレツトとした特許請
求の範囲第１項記載の蒸着用酸化アルミニウム組
成物。 ４ 酸化チタンを含有する蒸着用酸化アルミニウ
ム組成物を用いて光学ガラスの反射防止膜を製造
することを特徴とする反射防止膜製造方法。 ５ 電子銃加熱によつて反射防止膜を製造する特
許請求の範囲第４項記載の反射防止膜製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11310079A JPS5638467A (en) | 1979-09-04 | 1979-09-04 | Aluminum oxide composition for deposition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11310079A JPS5638467A (en) | 1979-09-04 | 1979-09-04 | Aluminum oxide composition for deposition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5638467A JPS5638467A (en) | 1981-04-13 |
| JPS6128027B2 true JPS6128027B2 (ja) | 1986-06-28 |
Family
ID=14603475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11310079A Granted JPS5638467A (en) | 1979-09-04 | 1979-09-04 | Aluminum oxide composition for deposition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5638467A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5634615Y2 (ja) * | 1977-12-08 | 1981-08-15 | ||
| JPS54118364U (ja) * | 1978-02-08 | 1979-08-18 | ||
| NZ204822A (en) * | 1982-07-09 | 1986-04-11 | Greater Manchester Council | Refuse treatment:removal of glass after rotary pulverisation |
| JPH068042Y2 (ja) * | 1987-03-11 | 1994-03-02 | 株式会社吉野工業所 | 中蓋付き容器 |
| JP3416580B2 (ja) | 1999-07-13 | 2003-06-16 | 松下電器産業株式会社 | 固体撮像装置、これを用いたカメラ、および固体撮像装置の製造方法 |
| US10371581B2 (en) * | 2017-06-02 | 2019-08-06 | Sensata Technologies, Inc. | Alumina diffusion barrier for sensing elements |
| CN109503149A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-03-22 | 北京富兴凯永兴光电技术有限公司 | 一种高折射率光学镀膜材料及制备方法、光学增透膜 |
-
1979
- 1979-09-04 JP JP11310079A patent/JPS5638467A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5638467A (en) | 1981-04-13 |
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