JPS61284569A - 眞空蒸着装置 - Google Patents
眞空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS61284569A JPS61284569A JP60127307A JP12730785A JPS61284569A JP S61284569 A JPS61284569 A JP S61284569A JP 60127307 A JP60127307 A JP 60127307A JP 12730785 A JP12730785 A JP 12730785A JP S61284569 A JPS61284569 A JP S61284569A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporating dish
- vapor
- deposited
- evaporation
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/01—Manufacture or treatment
- H10W70/05—Manufacture or treatment of insulating or insulated package substrates, or of interposers, or of redistribution layers
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
木宛所は小型電子部品等の製造時に電極その他や薄膜の
形成等に用いられる眞空蒸着装置に関する。
形成等に用いられる眞空蒸着装置に関する。
従来、チップ状電子部品を製造する場合に絶縁基板上に
多数の電極を蒸着形成するには、第８図に示すような眞
空蒸着装置を用いる。即ら直空ポンプで排気される排気
口１を有する基台２上にペルジャー３で覆われた直空蒸
着室４を形成し、この直空蒸着室４内の上部に図示され
ていない支持材によって基台２に支持された被蒸着体取
付基板５を設けこの取付基板５に対向させて下部に蒸発
［６を設け、この蒸発１ｆｆ１６は電熱線７で加熱され
るようになっている。そして取付基板５の下面に多数の
被蒸着体８を支持させ、蒸発皿６を加熱して収容した蒸
発物質を蒸発さけ、これを上方の被蒸着体８に蒸着させ
て被蒸着体８にＳ着膜を形成するものであるが、蒸気の
拡散分布は直空−蒸着室４内全体に均一ではないため取
付基板５への被蒸着体８の取付位置によって蒸着膜の厚
さが不均一になるという問題がある。このような問題を
解決するために、取付基板５を回転させるという方法も
とられたが、その中心部に位置する被蒸着体８は殆ｌυ
ど移動しないため蒸着膜が厚くなってしまう。また、第
９図に示１ように、取Ｈ１板５を椀状に彎曲させ蒸発皿
６からの距離を等しくすることも試みられたが彎曲した
取付基板５への被蒸着体８の取付が困難であり、その効
果も上らなかった。
多数の電極を蒸着形成するには、第８図に示すような眞
空蒸着装置を用いる。即ら直空ポンプで排気される排気
口１を有する基台２上にペルジャー３で覆われた直空蒸
着室４を形成し、この直空蒸着室４内の上部に図示され
ていない支持材によって基台２に支持された被蒸着体取
付基板５を設けこの取付基板５に対向させて下部に蒸発
［６を設け、この蒸発１ｆｆ１６は電熱線７で加熱され
るようになっている。そして取付基板５の下面に多数の
被蒸着体８を支持させ、蒸発皿６を加熱して収容した蒸
発物質を蒸発さけ、これを上方の被蒸着体８に蒸着させ
て被蒸着体８にＳ着膜を形成するものであるが、蒸気の
拡散分布は直空−蒸着室４内全体に均一ではないため取
付基板５への被蒸着体８の取付位置によって蒸着膜の厚
さが不均一になるという問題がある。このような問題を
解決するために、取付基板５を回転させるという方法も
とられたが、その中心部に位置する被蒸着体８は殆ｌυ
ど移動しないため蒸着膜が厚くなってしまう。また、第
９図に示１ように、取Ｈ１板５を椀状に彎曲させ蒸発皿
６からの距離を等しくすることも試みられたが彎曲した
取付基板５への被蒸着体８の取付が困難であり、その効
果も上らなかった。
本発明は上述の問題に鑑み、蒸発皿の位置を固定させず
常に移動させ・るようにして取付基板に対する蒸発皿の
位置を常に変化させ被蒸着体の蒸召膜の膜厚を均等にし
ようとするものである。
常に移動させ・るようにして取付基板に対する蒸発皿の
位置を常に変化させ被蒸着体の蒸召膜の膜厚を均等にし
ようとするものである。
本発明は眞空蒸着室内において、被蒸着体取付基板の下
方に、この取付基板の軸方向と直交する方向に往復運動
する蒸発皿を設け、取付基板に対してこの軸と直交する
方向に蒸発皿が運動し取付基板に対する蒸発皿の位置を
常に変化させることにより蒸発物質の拡散を均等に行わ
せようとするものである。
方に、この取付基板の軸方向と直交する方向に往復運動
する蒸発皿を設け、取付基板に対してこの軸と直交する
方向に蒸発皿が運動し取付基板に対する蒸発皿の位置を
常に変化させることにより蒸発物質の拡散を均等に行わ
せようとするものである。
さらに本発明は眞空蒸着室内において、被蒸着体取付基
板の下方に、この取付基板の軸方向を軸として旋回運動
する蒸発皿を設け、取付基板の軸方向に対して蒸発皿を
旋回させ取付基板に対する蒸発皿の位置を常に変化させ
ることにより蒸発物質の拡散が中心部と周辺部において
均等に行われるようにしたものである。
板の下方に、この取付基板の軸方向を軸として旋回運動
する蒸発皿を設け、取付基板の軸方向に対して蒸発皿を
旋回させ取付基板に対する蒸発皿の位置を常に変化させ
ることにより蒸発物質の拡散が中心部と周辺部において
均等に行われるようにしたものである。
〔作用）
本発明は眞空蒸着室内において、被蒸着体を取付けた取
付基板の軸方向に対して直交する方向に蒸発皿を進退運
動させることにより取付基板に対して蒸発皿の相対位置
を常に変動させることにより多数の被蒸着体に均等に蒸
着膜を形成するものである。
付基板の軸方向に対して直交する方向に蒸発皿を進退運
動させることにより取付基板に対して蒸発皿の相対位置
を常に変動させることにより多数の被蒸着体に均等に蒸
着膜を形成するものである。
さらに本発明は、取付基板の軸方向に対して蒸発皿を旋
回運動させることにより被蒸着体に対する蒸発皿の相対
位置を常に変化させ、多数の被蒸着体に均等な厚さの蒸
着膜を形成するものである。
回運動させることにより被蒸着体に対する蒸発皿の相対
位置を常に変化させ、多数の被蒸着体に均等な厚さの蒸
着膜を形成するものである。
（実施例）
本発明の実施例を添附図面第１図ないし第７図について
説明する。
説明する。
実施例１
第１図ないし第３図について説明する。
４は直空蒸着室で、真空ポンプに連通された排気口１を
有する基台２と、この基台２上に被嵌されたペルジャー
３とより構成されている。直空蒸着室４内には上部に取
付基板５が図示されない支持枠によって基台２上に支持
されて設けられ、下部には電熱線７で１２Ｉｌ繞された
蒸発皿６が設けられている。蒸発皿６の下端には移動体
９が固定゛され、この移動体９に水平方向の回転螺杆１
０が螺合され、回転螺杆１０の一端は直空蒸着室４の外
部に設けた電動機等の回転体１１に接続され他端は基台
２上の図示されない軸受体に軸架されている。さらに電
熱線７の両端は蒸発皿６の上端より円外側に屈曲された
電極片１２．１２に接続され、この電極片１２゜１２は
前記回転螺杆１０の両側にこれと平行に設けられたレー
ル電極１３．１３上に摺動自在に支持されぞいる。また
レール電極１３．１３は４空蒸着室４外部の電源に接続
されるとともに図示されない支持枠によって基台２上に
支持されている。
有する基台２と、この基台２上に被嵌されたペルジャー
３とより構成されている。直空蒸着室４内には上部に取
付基板５が図示されない支持枠によって基台２上に支持
されて設けられ、下部には電熱線７で１２Ｉｌ繞された
蒸発皿６が設けられている。蒸発皿６の下端には移動体
９が固定゛され、この移動体９に水平方向の回転螺杆１
０が螺合され、回転螺杆１０の一端は直空蒸着室４の外
部に設けた電動機等の回転体１１に接続され他端は基台
２上の図示されない軸受体に軸架されている。さらに電
熱線７の両端は蒸発皿６の上端より円外側に屈曲された
電極片１２．１２に接続され、この電極片１２゜１２は
前記回転螺杆１０の両側にこれと平行に設けられたレー
ル電極１３．１３上に摺動自在に支持されぞいる。また
レール電極１３．１３は４空蒸着室４外部の電源に接続
されるとともに図示されない支持枠によって基台２上に
支持されている。
次に上述の実施例の作用を説明する。
取付基板５の下面に多数の例えばセラミック板等の被蒸
着体８を取付けておき、排気口１より真空ポンプで排気
して直空蒸着室４内の圧力を調整した後電熱線７により
蒸発皿６を加熱して中に収納した物質を蒸発させる。同
時に回転体１１を回転させ、回転螺杆１０を回転させる
と、これに螺合した移動体９は蒸発皿６に係合している
ため蒸発皿６をレール電極１３．１３に沿って一方方向
に摺動させる。また回転を逆転させることにより蒸発皿
６は他方に摺動し、水平方向に往復運動をくり返す。
着体８を取付けておき、排気口１より真空ポンプで排気
して直空蒸着室４内の圧力を調整した後電熱線７により
蒸発皿６を加熱して中に収納した物質を蒸発させる。同
時に回転体１１を回転させ、回転螺杆１０を回転させる
と、これに螺合した移動体９は蒸発皿６に係合している
ため蒸発皿６をレール電極１３．１３に沿って一方方向
に摺動させる。また回転を逆転させることにより蒸発皿
６は他方に摺動し、水平方向に往復運動をくり返す。
このとき電°熱線７は電極片１２．１２を介してレール
電極１３．１３に接続され常に電源と接続されている。
電極１３．１３に接続され常に電源と接続されている。
このようにして蒸発皿６が取付基板５の軸と直交する方
向に往復運ｉｈをするから蒸発物質−がＩｎ眞空着室４
内°に均等に拡散され取付基板５の中心部と周辺部とに
よって被蒸着体８に形成される蒸着膜の厚さが異るよう
なことがなく全体的に均一な膜厚を得ることができる。
向に往復運ｉｈをするから蒸発物質−がＩｎ眞空着室４
内°に均等に拡散され取付基板５の中心部と周辺部とに
よって被蒸着体８に形成される蒸着膜の厚さが異るよう
なことがなく全体的に均一な膜厚を得ることができる。
尚取付基板５は必要に応じて回転させる場合もある。
第４図は実施例１の変形例で蒸発皿６の往復運動を直空
蒸着室４の半径位置で行わせるものである。このときは
取付基板５を回転させる必要がある。
蒸着室４の半径位置で行わせるものである。このときは
取付基板５を回転させる必要がある。
実施例２
第５図、第６−について説明する。
直空蒸着室４、取付基板５の構成は実施例１と同様であ
る。
る。
蒸発皿６は回転板１Ｂ上に支持され回転板１８は基台２
より直空蒸着室４の中心に突設された回転軸１４に軸架
され、回転軸１４は基台２の外部に設けた電ｌ！ｌｌｎ
等の回転体１５に接続されている。さらに、蒸発皿６を
囲繞した電熱線７の両端が接続された電極片１２．１２
が回転板１８より下方に突出され下端が下方に設けた固
定円Ｉ！Ａ１７に形成された環状のレール電１ｆｉ１６
．１６に接触し０、レール電極１６．１６は直空蒸着室
４外部の電源に接続されている。
より直空蒸着室４の中心に突設された回転軸１４に軸架
され、回転軸１４は基台２の外部に設けた電ｌ！ｌｌｎ
等の回転体１５に接続されている。さらに、蒸発皿６を
囲繞した電熱線７の両端が接続された電極片１２．１２
が回転板１８より下方に突出され下端が下方に設けた固
定円Ｉ！Ａ１７に形成された環状のレール電１ｆｉ１６
．１６に接触し０、レール電極１６．１６は直空蒸着室
４外部の電源に接続されている。
次にこの実施例の作用を説明する。
直空蒸着室４内に実施例１と同様に被蒸着体８をセット
し、蒸発皿６を加熱しつつ回転軸１４、回転板１８を回
転させると、蒸発皿６が真空蒸着室４中を旋回する。こ
のとき電熱線７が接続した電極片１２．１２は環状のし
＝ル電極１６．１６に接触して回動し常に電熱１１７を
ｆｆｉ源と接触して蒸発を続行させる。また蒸発皿６の
旋回により蒸発物質は真空蒸着室４中に均等に拡散され
取付基板５の中心部と周辺部の被蒸着体８に均等に蒸着
膜が形成される。また取付基板５は必要に応じて回転さ
せる場合もある。
し、蒸発皿６を加熱しつつ回転軸１４、回転板１８を回
転させると、蒸発皿６が真空蒸着室４中を旋回する。こ
のとき電熱線７が接続した電極片１２．１２は環状のし
＝ル電極１６．１６に接触して回動し常に電熱１１７を
ｆｆｉ源と接触して蒸発を続行させる。また蒸発皿６の
旋回により蒸発物質は真空蒸着室４中に均等に拡散され
取付基板５の中心部と周辺部の被蒸着体８に均等に蒸着
膜が形成される。また取付基板５は必要に応じて回転さ
せる場合もある。
第７図は実施例２の変形例で、蒸発皿６の旋回運動を直
空蒸着室４の半径範囲で行わせるものである。この場合
は取付基板５を旋回させる必要がある。
空蒸着室４の半径範囲で行わせるものである。この場合
は取付基板５を旋回させる必要がある。
本発明によれば、直空蒸着空白において、被蒸着体取付
基板の下方に、この取付基板の軸方向と直交する方向に
往復運動する蒸発皿を設けたため、蒸発皿の往復運動に
よって蒸発皿で発生した蒸気が真空蒸着室内に均一に拡
散され上方の取付基板に取付けられた多数の被蒸着体に
、基板の中心部と周辺部において膜厚が異ることなく均
一な蒸着膜を得ることができる。
基板の下方に、この取付基板の軸方向と直交する方向に
往復運動する蒸発皿を設けたため、蒸発皿の往復運動に
よって蒸発皿で発生した蒸気が真空蒸着室内に均一に拡
散され上方の取付基板に取付けられた多数の被蒸着体に
、基板の中心部と周辺部において膜厚が異ることなく均
一な蒸着膜を得ることができる。
また、真空蒸着室内において、被蒸着体取付基板の下方
に、この取付基板の軸方向を軸として旋回運動する蒸発
皿を設けたため、旋回運動する蒸発皿から真空蒸着室内
に蒸気が均一に拡散され多数の被蒸着体に均一な蒸着膜
を形成することができる。
に、この取付基板の軸方向を軸として旋回運動する蒸発
皿を設けたため、旋回運動する蒸発皿から真空蒸着室内
に蒸気が均一に拡散され多数の被蒸着体に均一な蒸着膜
を形成することができる。
第１図は本発明の４空蒸着装置の一実施例を示す縦断正
面図、第２図は同上平面図、第３図は同上急発皿取付部
の縦断側面図、第４図は同上実施例の変形例の作用説明
図、第５図は他の実施例を示す縦断正面図、第６図は同
上レール電極部の平面図、第７図は同上実施例の変形例
の作用説明図、第８図、第９−は夫々従来例の説明図で
ある。 ４・・直空蒸着室、５・・取付基板、６・・蒸発皿、８
・・被蒸着体。
面図、第２図は同上平面図、第３図は同上急発皿取付部
の縦断側面図、第４図は同上実施例の変形例の作用説明
図、第５図は他の実施例を示す縦断正面図、第６図は同
上レール電極部の平面図、第７図は同上実施例の変形例
の作用説明図、第８図、第９−は夫々従来例の説明図で
ある。 ４・・直空蒸着室、５・・取付基板、６・・蒸発皿、８
・・被蒸着体。
Claims (2)
- （１）眞空蒸着室内において、被蒸着体取付基板の下方
に、この取付基板の軸方向と直交する方向に往復運動す
る蒸発皿を設けたことを特徴とする眞空蒸着装置。 - （２）眞空蒸着室内において、被蒸着体取付基板の下方
に、この取付基板の軸方向を軸として旋回運動する蒸発
皿を設けたことを特徴とする眞空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60127307A JPS61284569A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 眞空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60127307A JPS61284569A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 眞空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61284569A true JPS61284569A (ja) | 1986-12-15 |
Family
ID=14956709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60127307A Pending JPS61284569A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | 眞空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61284569A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004311065A (ja) * | 2003-04-02 | 2004-11-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP2006002226A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Kyocera Corp | 蒸着装置 |
| US7820231B2 (en) | 2002-08-01 | 2010-10-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing apparatus |
| US9551063B2 (en) | 2002-02-25 | 2017-01-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Fabrication system and a fabrication method of a light emitting device |
-
1985
- 1985-06-12 JP JP60127307A patent/JPS61284569A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9551063B2 (en) | 2002-02-25 | 2017-01-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Fabrication system and a fabrication method of a light emitting device |
| US7820231B2 (en) | 2002-08-01 | 2010-10-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing apparatus |
| JP2004311065A (ja) * | 2003-04-02 | 2004-11-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP2006002226A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Kyocera Corp | 蒸着装置 |
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