JPS6352111B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6352111B2 JPS6352111B2 JP56073052A JP7305281A JPS6352111B2 JP S6352111 B2 JPS6352111 B2 JP S6352111B2 JP 56073052 A JP56073052 A JP 56073052A JP 7305281 A JP7305281 A JP 7305281A JP S6352111 B2 JPS6352111 B2 JP S6352111B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cylindrical mesh
- evaporation method
- thin film
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/223—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating specially adapted for coating particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は小型球状、棒状、角状等の基体の全面
に金属薄膜を均一にかつ効率良く真空蒸着させる
金属薄膜蒸着装置に関するものである。
に金属薄膜を均一にかつ効率良く真空蒸着させる
金属薄膜蒸着装置に関するものである。
従来前記形状物に薄膜を真空蒸着する場合、円
筒網籠を真空容器内で水平に置いて回転させ、円
筒網籠内の基体を撹拌しつつ網籠下方または網籠
内より薄膜材料を蒸発させ、円筒網籠内の基体表
面に薄膜を形成する方法が一般に行われている。
筒網籠を真空容器内で水平に置いて回転させ、円
筒網籠内の基体を撹拌しつつ網籠下方または網籠
内より薄膜材料を蒸発させ、円筒網籠内の基体表
面に薄膜を形成する方法が一般に行われている。
しかし、この方法では収納する基体容積に比べ
円筒網籠容積が非常に大きくなり真空容器も大き
くなる。また下方より薄膜材料を蒸発させる場合
はさらに大きな容積を必要とし、無駄な真空空間
が多くなり、真空ポンプの容量を大きくするか、
必要真空度への到達時間が長くなつた。また基体
表面の蒸着膜の膜厚も、基体の円筒網籠内での位
置によつてばらつきが大きく、基体自身が円筒網
籠の下方に集中するため基板への着膜効率が悪い
といつた欠点があつた。
円筒網籠容積が非常に大きくなり真空容器も大き
くなる。また下方より薄膜材料を蒸発させる場合
はさらに大きな容積を必要とし、無駄な真空空間
が多くなり、真空ポンプの容量を大きくするか、
必要真空度への到達時間が長くなつた。また基体
表面の蒸着膜の膜厚も、基体の円筒網籠内での位
置によつてばらつきが大きく、基体自身が円筒網
籠の下方に集中するため基板への着膜効率が悪い
といつた欠点があつた。
本発明は従来の欠点を除いた金属薄膜蒸着装置
を提供することを目的とするものである。
を提供することを目的とするものである。
以下、本発明の実施例について図面と共に説明
する。
する。
第１図は本発明の金属膜蒸着装置の一実施例の
概略構成を示す断面図で、１は真空容器、２は基
体３を収納する浅い縁の付いた円筒状網籠で収納
する基体３がこぼれない大きさの網目を有し真空
容器１内に傾斜した状態で配置されている。４は
薄膜材料の収納るつぼ、５は円筒状網籠２を回転
させる回転軸で、空気漏れのない適宜の軸受装置
（図示せず）で保持され、外部より回転速度可変
のモーターにより回転運動が与えられる。６は、
抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、誘導加熱蒸
着法等の真空蒸着法によりるつぼ４より蒸発する
蒸気流の範囲を示す。
概略構成を示す断面図で、１は真空容器、２は基
体３を収納する浅い縁の付いた円筒状網籠で収納
する基体３がこぼれない大きさの網目を有し真空
容器１内に傾斜した状態で配置されている。４は
薄膜材料の収納るつぼ、５は円筒状網籠２を回転
させる回転軸で、空気漏れのない適宜の軸受装置
（図示せず）で保持され、外部より回転速度可変
のモーターにより回転運動が与えられる。６は、
抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、誘導加熱蒸
着法等の真空蒸着法によりるつぼ４より蒸発する
蒸気流の範囲を示す。
第２図は基体３を収納した円筒状網籠２の上面
図であり、７は円筒状網籠２の外周面より放射状
に内方に延びる複数の撹拌羽根である（尚、第１
図においては図面の簡明化のため撹拌羽根７は図
示していない）。回転軸５を回転させるとそれに
固定された円筒状網籠２は同時に回転し、円筒状
網籠２に収納された基体３は、撹拌羽根７によつ
て上部に持ち上げられ、さらに進むと上部より順
次不規則な運動をしながら円筒状網籠２の底面の
網面上を落下し、るつぼ４より蒸発する薄膜材料
の蒸気流６によつて基体３の表面に薄膜が蒸着さ
れる。これを繰り返すことによつて基体３の表面
に所定の膜厚の蒸着薄膜が形成される。尚、第２
図におけるＡ部分は基体３の団塊領域で、Ｂ部分
は基体３が不規則な運動をしつつ着膜される着膜
領域である。るつぼ４より蒸発した薄膜材料の蒸
気流６を効率良く膜に使用するためには、円筒状
網籠２の底面の網面の着膜領域Ｂに基体３の密度
をできるだけ均一に落下させる必要があり、撹拌
羽根７を取り付けることにより網面での基体３の
密度を均一にすることができ効率的に着膜するこ
とができる。また、円筒状網籠２の傾斜角と回転
速度を変化させることによつて基体３を円筒状網
籠２の着膜領域Ｂにより均一に落下させることが
できる。
図であり、７は円筒状網籠２の外周面より放射状
に内方に延びる複数の撹拌羽根である（尚、第１
図においては図面の簡明化のため撹拌羽根７は図
示していない）。回転軸５を回転させるとそれに
固定された円筒状網籠２は同時に回転し、円筒状
網籠２に収納された基体３は、撹拌羽根７によつ
て上部に持ち上げられ、さらに進むと上部より順
次不規則な運動をしながら円筒状網籠２の底面の
網面上を落下し、るつぼ４より蒸発する薄膜材料
の蒸気流６によつて基体３の表面に薄膜が蒸着さ
れる。これを繰り返すことによつて基体３の表面
に所定の膜厚の蒸着薄膜が形成される。尚、第２
図におけるＡ部分は基体３の団塊領域で、Ｂ部分
は基体３が不規則な運動をしつつ着膜される着膜
領域である。るつぼ４より蒸発した薄膜材料の蒸
気流６を効率良く膜に使用するためには、円筒状
網籠２の底面の網面の着膜領域Ｂに基体３の密度
をできるだけ均一に落下させる必要があり、撹拌
羽根７を取り付けることにより網面での基体３の
密度を均一にすることができ効率的に着膜するこ
とができる。また、円筒状網籠２の傾斜角と回転
速度を変化させることによつて基体３を円筒状網
籠２の着膜領域Ｂにより均一に落下させることが
できる。
本実施例の装置は例えば金属皮膜抵抗器の製造
に用いることができる。金属皮膜抵抗器における
セラミツク素体（基体）は、直径１〜３mm、長さ
５〜10mm程度の大きさであり、直径1.5mm、長さ
６mmの棒状のセラミツク素体の場合、１バツチで
10〜15万個のセラミツク素体に抵抗膜を蒸着させ
ることができる。
に用いることができる。金属皮膜抵抗器における
セラミツク素体（基体）は、直径１〜３mm、長さ
５〜10mm程度の大きさであり、直径1.5mm、長さ
６mmの棒状のセラミツク素体の場合、１バツチで
10〜15万個のセラミツク素体に抵抗膜を蒸着させ
ることができる。
本実施例においては小型棒状基体を従来例と同
一容積の真空容器に約３倍投入でき、また基体表
面に蒸着した薄膜の膜厚ばらつきも従来例の約1/
３に減少した。
一容積の真空容器に約３倍投入でき、また基体表
面に蒸着した薄膜の膜厚ばらつきも従来例の約1/
３に減少した。
以上のように本発明の金属薄膜蒸着装置を構成
したので、小容量の真空容器中に多量の基体を投
入することができ、また円筒状網籠の底面の網面
に均一に基体を落下させることができるため着膜
を効率的に行うことができるとともに基体表面の
蒸着膜厚のばらつきを減少させることができ、そ
の工業的価値は高いものとすることができる。
したので、小容量の真空容器中に多量の基体を投
入することができ、また円筒状網籠の底面の網面
に均一に基体を落下させることができるため着膜
を効率的に行うことができるとともに基体表面の
蒸着膜厚のばらつきを減少させることができ、そ
の工業的価値は高いものとすることができる。
第１図は本発明の一実施例である金属薄膜蒸着
装置の概略構成を示す断面図、第２図は同実施例
の円筒状網籠の上面図である。 １……真空容器、２……円筒状網籠、３……基
体、４……るつぼ、７……撹拌羽根。
装置の概略構成を示す断面図、第２図は同実施例
の円筒状網籠の上面図である。 １……真空容器、２……円筒状網籠、３……基
体、４……るつぼ、７……撹拌羽根。
Claims (1)
- １ 真空容器と、この真空容器中で傾斜した状態
で回転し円筒状の外周面より放射状に内方に延び
る複数の撹拌羽根を設けて小型球状、棒状、角状
等の基体を撹拌する浅い円筒状網籠とを備え、前
記円筒状網籠の傾斜した平面からなる底面の下部
より抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、誘導加
熱蒸着法等の真空蒸着法により金属薄膜材料を蒸
発させ、前記円筒状網籠内の基体表面全面に均一
な金属薄膜を着膜させる金属薄膜蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56073052A JPS57188677A (en) | 1981-05-14 | 1981-05-14 | Vapor depositing device for metallic thin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56073052A JPS57188677A (en) | 1981-05-14 | 1981-05-14 | Vapor depositing device for metallic thin film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57188677A JPS57188677A (en) | 1982-11-19 |
| JPS6352111B2 true JPS6352111B2 (ja) | 1988-10-18 |
Family
ID=13507202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56073052A Granted JPS57188677A (en) | 1981-05-14 | 1981-05-14 | Vapor depositing device for metallic thin film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57188677A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0245051A (ja) * | 1988-08-04 | 1990-02-15 | Shiro Yamada | 植毛用人造毛の製造方法およびその製造装置 |
| EP1136587B1 (en) * | 2000-03-23 | 2013-05-15 | Hitachi Metals, Ltd. | Deposited-film forming apparatus |
| JP4774638B2 (ja) * | 2000-07-13 | 2011-09-14 | 日立金属株式会社 | 乾式表面処理用装置およびこの装置を用いた乾式表面処理方法 |
| JP2006342384A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Moritex Corp | 全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法，製造装置及び全面フィルタ膜付き球レンズ並びに光モジュール |
| JP4899717B2 (ja) * | 2006-08-21 | 2012-03-21 | ソニー株式会社 | 複合粉体の製造方法、及び複合粉体の製造装置 |
| JP5749223B2 (ja) * | 2012-07-13 | 2015-07-15 | 株式会社メイハン | 球状体の被膜形成方法 |
| EP3567128A1 (en) * | 2018-05-08 | 2019-11-13 | IHI Hauzer Techno Coating B.V. | Deposition apparatus and method of coating spherical objects |
| CN115287601B (zh) * | 2022-08-05 | 2023-09-22 | 温州鑫淼电镀有限公司 | 一种塑胶制品的真空镀膜工艺 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS573701B2 (ja) * | 1973-09-27 | 1982-01-22 | ||
| JPS5441155Y2 (ja) * | 1975-05-01 | 1979-12-03 | ||
| JPS5441156Y2 (ja) * | 1975-05-01 | 1979-12-03 |
-
1981
- 1981-05-14 JP JP56073052A patent/JPS57188677A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57188677A (en) | 1982-11-19 |
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