JPS61284844A - 光デイスク用原盤の製造方法 - Google Patents
光デイスク用原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPS61284844A JPS61284844A JP60126544A JP12654485A JPS61284844A JP S61284844 A JPS61284844 A JP S61284844A JP 60126544 A JP60126544 A JP 60126544A JP 12654485 A JP12654485 A JP 12654485A JP S61284844 A JPS61284844 A JP S61284844A
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- JP
- Japan
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- film
- plating
- master disk
- master
- disk
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画・文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画・文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。
再生または消去可能な光ディスクを製造するだめの光デ
ィスク用原盤の製造方法に関するものである。
ィスク用原盤の製造方法に関するものである。
従来の技術
この種の光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこ
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生、消去可能な光ディスクとしても近年研究開
発されている。
とや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことなど情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録、再生、消去可能な光ディスクとしても近年研究開
発されている。
第３図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。
であるコンパクトディスクの概要を示す。
これはＰＧＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にピ
ント列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。
ント列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。
第３図において、１はディスク、２は樹脂基板、３は樹
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、６は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光であ
る。
脂基板２に刻まれたピット列状のディジタル信号部、４
はその表面に形成された反射膜、６は反射膜４にコーテ
ィングされた保護膜、６は再生用の半導体レーザ光であ
る。
樹脂基板２は、一般的に射出成形や射出・圧縮成形など
の成形法で量産される。光ディスク用原盤は樹脂基板２
を成形で得るだめに必要なもので、成形金型に取付けら
れる。
の成形法で量産される。光ディスク用原盤は樹脂基板２
を成形で得るだめに必要なもので、成形金型に取付けら
れる。
第２図に従来の光ディスク用原盤の製造方法を示す。第
２図ａ −ｆは各々の工程を示す断面図である。ガラス
基板７に７オトレジスト８が塗布され、レーザ光９によ
りディジタル信号が記録され現像によりディジタル信号
部１ｏが形成される。
２図ａ −ｆは各々の工程を示す断面図である。ガラス
基板７に７オトレジスト８が塗布され、レーザ光９によ
りディジタル信号が記録され現像によりディジタル信号
部１ｏが形成される。
次に、ニッケル（Ｎｉ）などの金属薄膜１１が蒸着法に
より形成され、その上にニッケル（Ｎｉ）のメッキ処理
によりメッキ膜１２が形成される。その後、ガラス基板
７と剥離すれば光ディスク用原盤が形成される。
より形成され、その上にニッケル（Ｎｉ）のメッキ処理
によりメッキ膜１２が形成される。その後、ガラス基板
７と剥離すれば光ディスク用原盤が形成される。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成で得られた光ディスク用
原盤の信号面のニッケル（Ｎ１）などの金属薄膜１１は
、蒸着等の方法により形成するため、蒸着条件により酸
化などの膜質が不安定になることがあり、機械的な強度
が劣化し、樹脂基板の成形数の増加にともない表面状態
が変化しエラーフラッグの増加などディスク特性が悪化
するなどの問題点を有していた。
原盤の信号面のニッケル（Ｎ１）などの金属薄膜１１は
、蒸着等の方法により形成するため、蒸着条件により酸
化などの膜質が不安定になることがあり、機械的な強度
が劣化し、樹脂基板の成形数の増加にともない表面状態
が変化しエラーフラッグの増加などディスク特性が悪化
するなどの問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、光ディスク用原盤の信頼性
を向上し、寿命を長くすることのできる光ディスク用原
盤の製造方法を提供するものである。
を向上し、寿命を長くすることのできる光ディスク用原
盤の製造方法を提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題を解決するために本発明の光ディスク用原盤の
製造方法は、ガラス基板に７オトレジストを塗布し、レ
ーザ光により信号を記録し現像してガラス原盤を形成し
たのち、上記ガラス原盤上にメッキ処理に用いる材料と
は異種の金属薄膜を蒸着等の方法で形成し、メッキ処理
を施こすことによりメッキ膜を形成したのち、上記金属
薄膜をエツチング等の方法で除去、しメッキ膜だけで構
成したものである。
製造方法は、ガラス基板に７オトレジストを塗布し、レ
ーザ光により信号を記録し現像してガラス原盤を形成し
たのち、上記ガラス原盤上にメッキ処理に用いる材料と
は異種の金属薄膜を蒸着等の方法で形成し、メッキ処理
を施こすことによりメッキ膜を形成したのち、上記金属
薄膜をエツチング等の方法で除去、しメッキ膜だけで構
成したものである。
作用
本発明は上記した構成によって、ガラス基板にフォトレ
ジストを塗布し、レーザ光により信号を記録し現像しガ
ラス原盤を形成したのち、メッキ材料とは異種の金属薄
膜を蒸着等の方法で形成し、メッキ処理を施こしメッキ
膜を形成したのち、上記金属薄膜を除去すれば、メッキ
膜だけで構成される光ディスク用原盤が得られるために
、表面に信頼性のや＼劣る蒸着等により形成された金属
薄膜が存在しないため、膜質の優れたメッキ膜が表面を
構成することにより信頼性の高い寿命の長い光ディスク
用原盤が得られる。
ジストを塗布し、レーザ光により信号を記録し現像しガ
ラス原盤を形成したのち、メッキ材料とは異種の金属薄
膜を蒸着等の方法で形成し、メッキ処理を施こしメッキ
膜を形成したのち、上記金属薄膜を除去すれば、メッキ
膜だけで構成される光ディスク用原盤が得られるために
、表面に信頼性のや＼劣る蒸着等により形成された金属
薄膜が存在しないため、膜質の優れたメッキ膜が表面を
構成することにより信頼性の高い寿命の長い光ディスク
用原盤が得られる。
実施例
本発明の一実施例の光ディスク用原盤の製造方法につい
て図面を参照しながら説明する。
て図面を参照しながら説明する。
第１図ａ −ｇは本発明の光ディスク用原盤の製造工程
を示す断面図である。第１図ａはガラス基板７を示し、
第１図すにおいてガラス基板７上にフォトレジスト８を
塗布したのちディジタル信号に対応したレーザ光９を記
録する工程を示す。第１図ｇは現像工程を示し、上記レ
ーザ光９により形成されたディジタル信号部１ｏが設け
られたガラス原盤が形成される。第１図ｄは上記ガラス
原盤上に次工程のメッキ処理に用いるメッキ材料である
ニッケル（Ｎｉ）とは異種の材料であるアルミニウム（
Ａ４）の金属薄膜１３を蒸着等の方法で設ける工程を示
す。第１図ｅは上記金属薄膜１３上に電気メツキ法にて
ニッケル（Ｎｉ）のメッキ膜１３を形成する工程を示す
。第１図ｆはアルミニウムｑ金属薄膜１３とニッケルの
メッキ膜１２とが設けられた複合基材を示す。第１図ｇ
は、上記複合基材を弱アルカリ液である水酸化ナトリウ
ム（ＮａＯＨ）水溶液に浸漬する化学エツチング法にて
、Ａｌの金属薄膜１３を除去し、Ｎｉのメッキ膜１２だ
けで形成された光ディスク用原盤を示す。
を示す断面図である。第１図ａはガラス基板７を示し、
第１図すにおいてガラス基板７上にフォトレジスト８を
塗布したのちディジタル信号に対応したレーザ光９を記
録する工程を示す。第１図ｇは現像工程を示し、上記レ
ーザ光９により形成されたディジタル信号部１ｏが設け
られたガラス原盤が形成される。第１図ｄは上記ガラス
原盤上に次工程のメッキ処理に用いるメッキ材料である
ニッケル（Ｎｉ）とは異種の材料であるアルミニウム（
Ａ４）の金属薄膜１３を蒸着等の方法で設ける工程を示
す。第１図ｅは上記金属薄膜１３上に電気メツキ法にて
ニッケル（Ｎｉ）のメッキ膜１３を形成する工程を示す
。第１図ｆはアルミニウムｑ金属薄膜１３とニッケルの
メッキ膜１２とが設けられた複合基材を示す。第１図ｇ
は、上記複合基材を弱アルカリ液である水酸化ナトリウ
ム（ＮａＯＨ）水溶液に浸漬する化学エツチング法にて
、Ａｌの金属薄膜１３を除去し、Ｎｉのメッキ膜１２だ
けで形成された光ディスク用原盤を示す。
一般的に電気メツキ法にてニッケル（Ｎ１）がガラス原
盤用メッキ材料に用いられるのは、硬度が高く、メッキ
処理法が容易であるためである。また、上記メッキ材料
であるニッケル（Ｎｉ ）とは異種の材料としては、ア
ルミニウム（ムｌ）の他に、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、
チタン（Ｔｉ）などの材料で、Ｎ１とは異種の材料であ
り、酸やアルカリなどの特定の水溶液に対して選択的に
化学エツチングされる材料であればよい。
盤用メッキ材料に用いられるのは、硬度が高く、メッキ
処理法が容易であるためである。また、上記メッキ材料
であるニッケル（Ｎｉ ）とは異種の材料としては、ア
ルミニウム（ムｌ）の他に、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、
チタン（Ｔｉ）などの材料で、Ｎ１とは異種の材料であ
り、酸やアルカリなどの特定の水溶液に対して選択的に
化学エツチングされる材料であればよい。
また、化学エツチングの他に、メッキ材料とは異種の金
属薄膜だけをスパッタリング、イオンエツチングなどの
物理的エツチング法で除去しても有効である。
属薄膜だけをスパッタリング、イオンエツチングなどの
物理的エツチング法で除去しても有効である。
このように、メッキ材料とは異種の金属薄膜を蒸着等の
方法で形成したのち、物理的または化学的エツチング等
の方法で上記金属薄膜を除去すれば、金属学的に安定な
メッキ材料だけで光ディスク用原盤が形成されるため光
ディスク原盤としては信頼性が高く、安定であるなどの
効果がある。
方法で形成したのち、物理的または化学的エツチング等
の方法で上記金属薄膜を除去すれば、金属学的に安定な
メッキ材料だけで光ディスク用原盤が形成されるため光
ディスク原盤としては信頼性が高く、安定であるなどの
効果がある。
発明の効果
以上のように本発明によれば、ガラス基板にフォトレジ
ストを塗布し１．レーザ光により信号を記録し現像して
ガラス原盤を形成したのち、上記ガラス原盤上にメッキ
材料とは異種の金属薄膜を形成したのち、メッキ処理を
施こしメッキ膜を設けたのち、上記金属薄膜をエツチン
グ等の方法で除去することにより光ディスク用原盤を形
成すれば、蒸着等の方法で形成された比較的不安定な要
因の多い金属薄膜が存在しない、安定した信頼性の高い
メッキ膜だけの光ディスク用原盤が得られることにより
、信頼性が向上し、寿命ものび、量産性の優れた光ディ
スク用原盤を提供することができる。
ストを塗布し１．レーザ光により信号を記録し現像して
ガラス原盤を形成したのち、上記ガラス原盤上にメッキ
材料とは異種の金属薄膜を形成したのち、メッキ処理を
施こしメッキ膜を設けたのち、上記金属薄膜をエツチン
グ等の方法で除去することにより光ディスク用原盤を形
成すれば、蒸着等の方法で形成された比較的不安定な要
因の多い金属薄膜が存在しない、安定した信頼性の高い
メッキ膜だけの光ディスク用原盤が得られることにより
、信頼性が向上し、寿命ものび、量産性の優れた光ディ
スク用原盤を提供することができる。
第１図（ａ）〜（ｇ）は本発明の一実施例における光デ
ィスク用原盤の製造方法の工程を示す断面図、第２図（
２Ｌ）〜（ｆ）は従来の光ディスク用原盤の製造方法の
工程を示す断面図、第３図（２Ｌ） 、Φ） 、 （ｅ
）は光ディスクの一種であるディジタルオーディオディ
スクの平面図、断面図、および要部拡大図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、７
・・・・・・ガラス基板、８・・・・・・フォトレジス
ト、９・・・・・・レーザ光、１０・・・・・・ディジ
タル信号部、１２・・・・・・メッキ膜、１３・・・・
・・金属薄膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図
ィスク用原盤の製造方法の工程を示す断面図、第２図（
２Ｌ）〜（ｆ）は従来の光ディスク用原盤の製造方法の
工程を示す断面図、第３図（２Ｌ） 、Φ） 、 （ｅ
）は光ディスクの一種であるディジタルオーディオディ
スクの平面図、断面図、および要部拡大図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、７
・・・・・・ガラス基板、８・・・・・・フォトレジス
ト、９・・・・・・レーザ光、１０・・・・・・ディジ
タル信号部、１２・・・・・・メッキ膜、１３・・・・
・・金属薄膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図
Claims (1)
- ガラス基板にフォトレジストを塗布し、レーザ光により
信号を記録し現像してガラス原盤を形成したのち、上記
ガラス原盤上にメッキ処理に用いる材料とは異種の金属
薄膜を蒸着等の方法で形成し、メッキ処理を施こすこと
によりメッキ膜を形成したのち、上記金属薄膜をエッチ
ング等の方法で除去することによりメッキ膜だけで構成
される光ディスク用原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12654485A JPH0648551B2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 光デイスク用原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12654485A JPH0648551B2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 光デイスク用原盤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61284844A true JPS61284844A (ja) | 1986-12-15 |
| JPH0648551B2 JPH0648551B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=14937808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12654485A Expired - Fee Related JPH0648551B2 (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 光デイスク用原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648551B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5427599A (en) * | 1987-06-09 | 1995-06-27 | International Business Machines Corporation | System for stamping an optical storage disk |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP12654485A patent/JPH0648551B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5427599A (en) * | 1987-06-09 | 1995-06-27 | International Business Machines Corporation | System for stamping an optical storage disk |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0648551B2 (ja) | 1994-06-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |