JPS61285228A - 改質されたポリエ−テルスルホン樹脂 - Google Patents

改質されたポリエ−テルスルホン樹脂

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Publication number
JPS61285228A
JPS61285228A JP12717185A JP12717185A JPS61285228A JP S61285228 A JPS61285228 A JP S61285228A JP 12717185 A JP12717185 A JP 12717185A JP 12717185 A JP12717185 A JP 12717185A JP S61285228 A JPS61285228 A JP S61285228A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyether sulfone
resin
sulfone resin
ionizing radiation
irradiating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12717185A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadayoshi Mukai
向井 貞喜
Takehiko Iinuma
飯沼 武彦
Yoshinobu Ozeki
尾関 義信
Koichi Katayama
耕一 片山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd, Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP12717185A priority Critical patent/JPS61285228A/ja
Publication of JPS61285228A publication Critical patent/JPS61285228A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0333Organic insulating material consisting of one material containing S
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers

Landscapes

  • Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は改質されたポリエーテルスルホン樹脂に関する
。さらに詳しくは寸法安定性、耐熱性が従来より向上し
た改質されたポリエーテルスルホン樹脂;二関するもの
である。
〔従来技術〕
ポリエーテルスルホン樹脂は、高い耐熱性を有し、機械
強度、電気的特性、難燃性などの優れた透明な樹脂でフ
ィルムや成形品の形態で多方面ζ:利用されつつあるが
、熱硬化性樹脂と比べると寸法安定性が劣り耐熱性もま
だ不充分で一部への利用範囲は限定されている。
一般に7二−リング処理した樹脂や無機質充填剤を混合
した樹脂かもとの樹脂と比べ寸法安定性や耐熱性の面で
良好な性能を示すことは知られておりポリエーテルスル
ホン樹脂についても同様の傾向を示すと期待できるが、
アニーリング処理では性能差が小さく、無機質充填剤の
混合でも充分な性能の樹脂を得るには無機質充填剤の混
合比率を大きくせねばならず柔軟性や透明性など他の物
性を著しく損いバランスのとれた物性を有するものは得
られない。
〔発明の目的〕
本発明は、従来のポリエーテルスルホン樹脂を上回る寸
法安定性、耐熱性を有する改質ポリエーテルスルホン樹
脂を得べく鋭意検討した結果、ポリエーテルスルホン樹
脂に電離性放射線を特定の線量で照射する事により他の
物性を大きく損なわすζ:寸法安定性、耐熱性のより優
れたポリエーテルスルホン樹脂を得る事を見出し到達し
たものである。
〔発明の構成〕
本発明は、常温〜200℃の線膨張係数が4.OX 1
0−’cra/cm・℃以下、240℃における溶融押
出製膜法による厚さ100μのフィルムの加熱収縮率が
3.0%以下で常温における引張強度が5 kgf/m
n1以上であることを特徴とする改質されたポリエーテ
ルスルホン樹脂である。
本発明で用いられるポリエーテルスルホン樹脂はその構
造単位が芳香核゛結合、エーテル結合、スルホン結合よ
りなる重合体で次の構造式(二より定義される。
一方本発明で用いる電離性放射線ζ二は電子線、α線、
β線、r線などがあげられ、放射線源としてラジオアイ
ソトープ、電子線加速器、原子炉などを用いることがで
きる。
ポリエーテルスルホン樹脂に照射する電離性放射線の線
量は1〜150 Mrad 、好ましくは2〜100M
radである。l Mrad未満では常温〜200℃の
線膨張係数が4.OX 10 ””ca’crn ・℃
以下、 240℃における溶融押出製膜法による厚さ1
00μのフィルムの加熱収縮率が3.0%以下とならず
、150 Mradを越えると常温;二おける引張強度
が6 kgf/WA未満となる。
本発明はポリエーテルスルホン樹脂をフィルムや射出成
形品などに成形加工後電離性放射線を照射すること(二
より実施されるが、成形前のペレットやパウダーの状態
で実施することもできる。照射雰囲気は空気中あるいは
窒素など不活性ガス中いずれでもよく、温度は樹脂や成
形品の融着、変形を防ぐ為樹脂の軟化点以下に保つ必要
があるがその範囲内ならばいかなる温度でもかまわない
本発明は電離性放射線の照射により実施されるが、アニ
ーリングや無機質充填剤の混合を併用してもよく、さら
(二本発明におけるポリエーテルスルホン樹脂は目的に
応じ滑剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、顔料、染料、架橋
剤等の添加剤や無機質充填剤を加えてもかまわない。
〔発明の効果〕
本発明によって得られた改質ポリエーテルスルホン樹脂
は改質機構が定かではないが電離性放射線の作用により
高いゲル分率で架橋しなくても機械強度など一般の物性
を保持しつつさらに従来のポリエーテルスルホン樹脂よ
り優れた寸法安定性や耐熱性、特に従来より25%〜3
0%以上小さい線膨張係数及び加熱収縮率を有しており
、改質方法も架橋剤添加工程がなく線量も比較的低く経
済的で工業上有利である。
本発明の改質ポリエーテルスルホン樹脂は、フレキシブ
ルプリント回路板や高密度記録用基板、太陽電池等の用
途に適する。
〔実施例〕
ポリエーテルスルホン樹脂(IC1社製ポリエーテルス
ルホン4100 G )を製膜してlOOμのフィルム
を作成し、このフィルムに加速電圧750 KVの電子
線加速器を用い空気中で表−1に示す線量の電子線を照
射して、フィルムの加熱収縮率、線膨張係数及び引張強
度を測定した。その結果を表−1(=示す。
m熟成量率はフィルムを240℃のオイルバスに10分
間浸漬して寸法収縮率を測定したもので、他の物性を含
めデータは全てMD力方向値である。
表−1 特許出願人  住友ベークライト株式会社日新電機株式
会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 常温〜200℃の線膨張係数が4.0×10^−^5c
    m/cm.℃以下、240℃における溶融押出製膜法に
    よる厚さ100μのフィルムの加熱収縮率が3.0%以
    下で常温における引張強度が6kgf/mm^2以上で
    あることを特徴とする改質されたポリエーテルスルホン
    樹脂。
JP12717185A 1985-06-13 1985-06-13 改質されたポリエ−テルスルホン樹脂 Pending JPS61285228A (ja)

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JP12717185A JPS61285228A (ja) 1985-06-13 1985-06-13 改質されたポリエ−テルスルホン樹脂

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JP12717185A JPS61285228A (ja) 1985-06-13 1985-06-13 改質されたポリエ−テルスルホン樹脂

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JPS61285228A true JPS61285228A (ja) 1986-12-16

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ID=14953418

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JP12717185A Pending JPS61285228A (ja) 1985-06-13 1985-06-13 改質されたポリエ−テルスルホン樹脂

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100752790B1 (ko) 2006-06-13 2007-08-29 한국화학연구원 마이크로파를 이용한 폴리에테르 술폰 수지의 제조방법
US20120282434A1 (en) * 2009-10-07 2012-11-08 Hexcel Composites, Ltd. Thermosetting resin adhesive containing irradiated thermoplastic toughening agent

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100752790B1 (ko) 2006-06-13 2007-08-29 한국화학연구원 마이크로파를 이용한 폴리에테르 술폰 수지의 제조방법
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