JPS6129351B2 - - Google Patents
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- JPS6129351B2 JPS6129351B2 JP52144594A JP14459477A JPS6129351B2 JP S6129351 B2 JPS6129351 B2 JP S6129351B2 JP 52144594 A JP52144594 A JP 52144594A JP 14459477 A JP14459477 A JP 14459477A JP S6129351 B2 JPS6129351 B2 JP S6129351B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/93—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with a ring other than six-membered
- C07D307/935—Not further condensed cyclopenta [b] furans or hydrogenated cyclopenta [b] furans
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式Ｉ：
〔式中、R1は水素原子、炭素原子数１〜５を有す
るアルキル基、エステル基又はエーテル基を表わ
し、R2及びR3は水素原子又は炭素原子数１〜５
を有するアルキル基を表わし、R4は場合によつ
て塩素原子もしくは弗素原子又はトリフルオルメ
チル基によつて置換されたアリール基を表わし、
ｎは０、１、２又は３を表わす〕で示される二環
式ラクトンを製造する新規方法に関し、一般式
： 〔式中、R1は前記のものを表わす〕で示されるア
ルデヒドを、物質としての、一般式： 〔式中、ｎ、R2、R3及びR4は前記のものを表わ
し、R5は炭素原子数１〜５を有するアルキル基
を表わす〕で示されるリチウムホスホネートと反
応させることを特徴とする。
るアルキル基、エステル基又はエーテル基を表わ
し、R2及びR3は水素原子又は炭素原子数１〜５
を有するアルキル基を表わし、R4は場合によつ
て塩素原子もしくは弗素原子又はトリフルオルメ
チル基によつて置換されたアリール基を表わし、
ｎは０、１、２又は３を表わす〕で示される二環
式ラクトンを製造する新規方法に関し、一般式
： 〔式中、R1は前記のものを表わす〕で示されるア
ルデヒドを、物質としての、一般式： 〔式中、ｎ、R2、R3及びR4は前記のものを表わ
し、R5は炭素原子数１〜５を有するアルキル基
を表わす〕で示されるリチウムホスホネートと反
応させることを特徴とする。
アルキル基R1、R2、R3、R4及びR5としては、
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、第３級ブ
チル基及びペンチル基のような炭素原子数１〜５
を有する直鎖及び分枝鎖のアルキル基がこれに該
当する。メチル基及びエチル基がすぐれている。
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、第３級ブ
チル基及びペンチル基のような炭素原子数１〜５
を有する直鎖及び分枝鎖のアルキル基がこれに該
当する。メチル基及びエチル基がすぐれている。
R1のエーテル基及び−Ｏ−アシル基として
は、当業者に公知の基がこれに該当する。例え
ば、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラ
ニル基、α−エトキシエチル基、トリメチルシリ
ル基、ジメチル基、第３級ブチル−シリル基及び
トリ−ｐ−ベンジル−シリル基のような容易に離
脱しうるエーテル基がすぐれている。アシル基と
しては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ｐ−フエニルベンゾイル基及びベンゾ
イル基が挙げられる。
は、当業者に公知の基がこれに該当する。例え
ば、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラ
ニル基、α−エトキシエチル基、トリメチルシリ
ル基、ジメチル基、第３級ブチル−シリル基及び
トリ−ｐ−ベンジル−シリル基のような容易に離
脱しうるエーテル基がすぐれている。アシル基と
しては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ｐ−フエニルベンゾイル基及びベンゾ
イル基が挙げられる。
R4基は、場合によつては塩素原子もしくは弗
素原子又はトリフルオルメチル基によつてモノ〜
トリ置換されていてもよい。特に、ベンゾール核
が非置換であるか又は塩素原子、弗素原子又はト
リフルオルメチル基でモノ置換されている化合物
がすぐれている。
素原子又はトリフルオルメチル基によつてモノ〜
トリ置換されていてもよい。特に、ベンゾール核
が非置換であるか又は塩素原子、弗素原子又はト
リフルオルメチル基でモノ置換されている化合物
がすぐれている。
オキサ−プロスタグランジンが極めて良好な薬
物学的に有効な化合物であることは公知である。
物学的に有効な化合物であることは公知である。
例えば、16−アリールオキシ−プロスタグラン
ジン−Ｆ2〓はエキメート（Equimate）の名称
で動物用の高度に有効な黄体退縮剤
（Luteolytikum）として市販されている。
ジン−Ｆ2〓はエキメート（Equimate）の名称
で動物用の高度に有効な黄体退縮剤
（Luteolytikum）として市販されている。
オキサープロスタグランジンの合成は、西ドイ
ツ国特許公開公報第2223365号、同第2322673号及
び同第2606051号に記載されている。これから
は、フエノキシプロピルホスホネート溶液を温度
−78℃でブチルリチウム溶液と反応させるか、な
いしは氷冷下でNaH懸濁液と反応させることが明
らかである。引続き、該混合物中に相応するアル
デヒドを混入する。後処理した後に、所望のケト
ンが収率10〜40％で得られる。慎重に反応を実施
する場合でも、その実施の反応では例えばアルカ
リ少過剰でR1における保護基の離脱のような望
ましくない制御不能な副反応が生じるために、再
現可能な収率を得ることはできない。
ツ国特許公開公報第2223365号、同第2322673号及
び同第2606051号に記載されている。これから
は、フエノキシプロピルホスホネート溶液を温度
−78℃でブチルリチウム溶液と反応させるか、な
いしは氷冷下でNaH懸濁液と反応させることが明
らかである。引続き、該混合物中に相応するアル
デヒドを混入する。後処理した後に、所望のケト
ンが収率10〜40％で得られる。慎重に反応を実施
する場合でも、その実施の反応では例えばアルカ
リ少過剰でR1における保護基の離脱のような望
ましくない制御不能な副反応が生じるために、再
現可能な収率を得ることはできない。
従つて、本発明の目的は、室温で実施すること
ができかつ極めて良好な再現可能な収率で進行
し、それによつて工業的利用性も保証されてい
る、二環式ラクトンの製造法を開発することであ
つた。
ができかつ極めて良好な再現可能な収率で進行
し、それによつて工業的利用性も保証されてい
る、二環式ラクトンの製造法を開発することであ
つた。
ところで、所望の二環式ラクトンは、特許請求
の範囲に記載された方法、即ち一般式： 〔式中、R1は前記のものを表わす〕で示されるア
ルデヒドを、物質としての、一般式： 〔式中、ｎ、R2、R3及びR4は前記のものを表わ
し、R5は炭素原子数１〜５を有するアルキル基
を表わす〕で示されるリチウムホスホネートと反
応させる方法によつて、室温でも再現可能な87％
の収率で得ることができることを見い出した。該
方法によれば、ホスホネートのアニオンをその場
でつくらないで、結晶性物質としてそのアルカリ
塩の形で単離し、引続き等モル量のアルデヒドと
反応させる。
の範囲に記載された方法、即ち一般式： 〔式中、R1は前記のものを表わす〕で示されるア
ルデヒドを、物質としての、一般式： 〔式中、ｎ、R2、R3及びR4は前記のものを表わ
し、R5は炭素原子数１〜５を有するアルキル基
を表わす〕で示されるリチウムホスホネートと反
応させる方法によつて、室温でも再現可能な87％
の収率で得ることができることを見い出した。該
方法によれば、ホスホネートのアニオンをその場
でつくらないで、結晶性物質としてそのアルカリ
塩の形で単離し、引続き等モル量のアルデヒドと
反応させる。
アルデヒドとホスホン酸アルカリとの反応は、
例えば窒素やアルゴンのような不活性ガス雰囲気
の存在下に温度−70゜〜80℃、特に室温で、例え
ばエーテル、塩化メチレン、THF、グリメ
（Glyme）、ジオキサン、クロロホルム、ヘキサ
ン、ベンゾール等のような不活性溶剤中で有利に
行なわれる。
例えば窒素やアルゴンのような不活性ガス雰囲気
の存在下に温度−70゜〜80℃、特に室温で、例え
ばエーテル、塩化メチレン、THF、グリメ
（Glyme）、ジオキサン、クロロホルム、ヘキサ
ン、ベンゾール等のような不活性溶剤中で有利に
行なわれる。
アルカリ塩の製造は、当業者に公知の方法に従
い、例えば不活性ガス雰囲気下での等モル量のホ
スホネートとブチルリチウムとの反応によつて行
なわれる。該反応は、温度−70℃〜80℃、特に室
温で、例えばペンタン、ヘキサン、ベンゾール、
トルオール、エーテル、ジオキサン等のような不
活性溶剤中で行なわれる。
い、例えば不活性ガス雰囲気下での等モル量のホ
スホネートとブチルリチウムとの反応によつて行
なわれる。該反応は、温度−70℃〜80℃、特に室
温で、例えばペンタン、ヘキサン、ベンゾール、
トルオール、エーテル、ジオキサン等のような不
活性溶剤中で行なわれる。
例 １
（1S、5R、6R、7R）−６−〔（Ｅ）−３−オキソ
−４−フエノキシ−１−ブテニル〕−７−ベン
ゾイルオキシ−２−オキサビシクロ〔３・３・
０〕−オクタン−３−オン 無水テトラヒドロフラン20ml中の（1S、5R、
6R、7R）−６−ホルミル−７−ベンゾイルオキシ
−２−オキサビシクロ〔３・３・０〕−オクタン
−３−オン（J.Amer.Chem.Soc.、第96巻、第
5865頁、1974年）548mgの溶液にジメチル−２−
オキソ−３−フエノキシプロピルホスホネートの
リチウム塩581mgを加え、1.5時間室温でアルゴン
雰囲気下で撹拌する。引続き、氷酢酸0.3mlを加
え、真空濃縮し、塩化メチレン100mlを混和し、
５％重炭酸ソーダ溶液10mlと振り、それぞれ水10
mlと２回振る。該溶液を硫酸マグネシウムで乾燥
し、真空中で蒸発濃縮し、蒸発濃縮残滓を塩化メ
チレン・イソプロピルエーテルから再結晶する。
この場合、本発明の目的化合物710mgが無色の結
晶として得られる（収率：理論量の87.5％）。融
点：132℃ ジメチル−２−オキソ−３−フエノキシプロピ
ルホスホネートのリチウム塩は次のように製造し
た： 無水エーテル430ml中のジメチル−２−オキソ
−３−フエノキシプロピルホスホネート16.3ｇの
溶液に５℃でアルゴン雰囲気下にヘキサン中の１
〜２モルのブチルリチウム溶液52.6ml及びヘキサ
ン150mlの混合物を滴加し（この場合、白色沈殿
物が析出した）、引続き10分間撹拌した。吸引
別後、リチウム塩14.1ｇが無色の結晶性粉末とし
て得られた。融点：184℃ 例 ２ （1S、5R、6R）−６−〔（Ｅ）−３−オキソ−４
−フエノキシ−１−ブテニル〕−２−オキサビ
シクロ−〔３・３・０〕−オクタン−３−オン 無水テトラヒドロフラン450ml中の（1S、5R、
6R）−６−ホルミル−２−オキサ−ビシクロ
〔３・３・０〕−オクタン−３−オン（E.J.Corey
他、J.Org.Chem.、第39巻、第256頁、1974年）
7.06ｇの溶液にジメチル−２−オキソ−３−フエ
ノキシプロピルホスホン酸塩のリチウム塩（例１
によつて製造）13.3ｇを加え、２時間室温でアル
ゴン雰囲気下で撹拌する。引続き、氷酢酸で中和
し、真空中で濃縮し、塩化メチレン300mlを混和
し、５％重炭酸ソーダ溶液30mlと振り、それぞれ
水30mlと２回振り、硫酸マグネシウムで乾燥し
て、真空中で蒸発濃縮する。残渣をイソプロパノ
ールから再結晶した後、本発明の目的化合物11.0
ｇ（理論量の84.5％）が無色の結晶として得られ
た。融点：91℃
−４−フエノキシ−１−ブテニル〕−７−ベン
ゾイルオキシ−２−オキサビシクロ〔３・３・
０〕−オクタン−３−オン 無水テトラヒドロフラン20ml中の（1S、5R、
6R、7R）−６−ホルミル−７−ベンゾイルオキシ
−２−オキサビシクロ〔３・３・０〕−オクタン
−３−オン（J.Amer.Chem.Soc.、第96巻、第
5865頁、1974年）548mgの溶液にジメチル−２−
オキソ−３−フエノキシプロピルホスホネートの
リチウム塩581mgを加え、1.5時間室温でアルゴン
雰囲気下で撹拌する。引続き、氷酢酸0.3mlを加
え、真空濃縮し、塩化メチレン100mlを混和し、
５％重炭酸ソーダ溶液10mlと振り、それぞれ水10
mlと２回振る。該溶液を硫酸マグネシウムで乾燥
し、真空中で蒸発濃縮し、蒸発濃縮残滓を塩化メ
チレン・イソプロピルエーテルから再結晶する。
この場合、本発明の目的化合物710mgが無色の結
晶として得られる（収率：理論量の87.5％）。融
点：132℃ ジメチル−２−オキソ−３−フエノキシプロピ
ルホスホネートのリチウム塩は次のように製造し
た： 無水エーテル430ml中のジメチル−２−オキソ
−３−フエノキシプロピルホスホネート16.3ｇの
溶液に５℃でアルゴン雰囲気下にヘキサン中の１
〜２モルのブチルリチウム溶液52.6ml及びヘキサ
ン150mlの混合物を滴加し（この場合、白色沈殿
物が析出した）、引続き10分間撹拌した。吸引
別後、リチウム塩14.1ｇが無色の結晶性粉末とし
て得られた。融点：184℃ 例 ２ （1S、5R、6R）−６−〔（Ｅ）−３−オキソ−４
−フエノキシ−１−ブテニル〕−２−オキサビ
シクロ−〔３・３・０〕−オクタン−３−オン 無水テトラヒドロフラン450ml中の（1S、5R、
6R）−６−ホルミル−２−オキサ−ビシクロ
〔３・３・０〕−オクタン−３−オン（E.J.Corey
他、J.Org.Chem.、第39巻、第256頁、1974年）
7.06ｇの溶液にジメチル−２−オキソ−３−フエ
ノキシプロピルホスホン酸塩のリチウム塩（例１
によつて製造）13.3ｇを加え、２時間室温でアル
ゴン雰囲気下で撹拌する。引続き、氷酢酸で中和
し、真空中で濃縮し、塩化メチレン300mlを混和
し、５％重炭酸ソーダ溶液30mlと振り、それぞれ
水30mlと２回振り、硫酸マグネシウムで乾燥し
て、真空中で蒸発濃縮する。残渣をイソプロパノ
ールから再結晶した後、本発明の目的化合物11.0
ｇ（理論量の84.5％）が無色の結晶として得られ
た。融点：91℃
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式Ｉ： 〔式中、R1は水素原子、炭素原子数１〜５を有す
るアルキル基、エステル基又はエーテル基を表わ
し、R2及びR3は水素原子又は炭素原子数１〜５
を有するアルキル基を表わし、R4は場合によつ
て塩素原子もしくは弗素原子又はトリフルオルメ
チル基によつて置換されたアリール基を表わし、
ｎは０、１、２又は３を表わす〕で示される二環
式ラクトンの製造法において、一般式： 〔式中、R1は前記のものを表わす〕で示されるア
ルデヒドを、物質としての、一般式： 〔式中、ｎ、R2、R3及びR4は前記のものを表わ
し、R5は炭素原子数１〜５を有するアルキル基
を表わす〕で示されるリチウムホスホネートと反
応させることを特徴とする、二環式ラクトンの製
造法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2655004A DE2655004C3 (de) | 1976-12-02 | 1976-12-02 | Verfahren zur Herstellung von bicyclischen Laktonen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5371061A JPS5371061A (en) | 1978-06-24 |
| JPS6129351B2 true JPS6129351B2 (ja) | 1986-07-05 |
Family
ID=5994662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14459477A Granted JPS5371061A (en) | 1976-12-02 | 1977-12-01 | Processs for preparing prostaglandine intermediate |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4191823A (ja) |
| JP (1) | JPS5371061A (ja) |
| CH (1) | CH633286A5 (ja) |
| DE (1) | DE2655004C3 (ja) |
| FR (1) | FR2372820B1 (ja) |
| GB (1) | GB1597171A (ja) |
| HU (1) | HU180982B (ja) |
| IT (1) | IT1089428B (ja) |
| NL (1) | NL7712916A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0394263B1 (en) * | 1987-09-04 | 1994-03-16 | The Upjohn Company | Process for production of prostaglandin intermediates |
| TW197439B (ja) * | 1991-04-04 | 1993-01-01 | Ueno Pharmaceutics Applic Res Co Ltd | |
| PT643051E (pt) * | 1992-09-30 | 2000-06-30 | R Tech Ueno Ltd | Processo de producao de cetonas alfa,beta-insaturadas |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4304907A (en) * | 1972-05-10 | 1981-12-08 | The Upjohn Company | Bicyclo lactone intermediates for prostaglandin analogs |
| IT1053781B (it) * | 1974-09-25 | 1981-10-10 | Erba C S P A Ora Farmitalia | Omega nor cicloalcil 13.14 deidro prostaglandine |
| US4001300A (en) * | 1975-02-24 | 1977-01-04 | The Upjohn Company | 2,2-Difluoro-16-phenoxy-PGF2 analogs |
| US4055602A (en) * | 1976-01-08 | 1977-10-25 | The Upjohn Company | 2-Decarboxy-2-hydroxy-methyl-5-oxa-17-phenyl-18,19,20-trinor-PGF-analogs |
| US4059587A (en) * | 1976-05-24 | 1977-11-22 | Merck & Co., Inc. | Certain thiazolidine compounds |
-
1976
- 1976-12-02 DE DE2655004A patent/DE2655004C3/de not_active Expired
-
1977
- 1977-11-23 NL NL7712916A patent/NL7712916A/xx not_active Application Discontinuation
- 1977-11-29 CH CH1460877A patent/CH633286A5/de not_active IP Right Cessation
- 1977-11-30 FR FR7736059A patent/FR2372820B1/fr not_active Expired
- 1977-12-01 JP JP14459477A patent/JPS5371061A/ja active Granted
- 1977-12-01 US US05/856,544 patent/US4191823A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-12-01 HU HU77SCHE631A patent/HU180982B/hu not_active IP Right Cessation
- 1977-12-01 IT IT30252/77A patent/IT1089428B/it active
- 1977-12-02 GB GB50348/77A patent/GB1597171A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT1089428B (it) | 1985-06-18 |
| DE2655004A1 (de) | 1978-06-08 |
| DE2655004B2 (de) | 1979-09-27 |
| JPS5371061A (en) | 1978-06-24 |
| GB1597171A (en) | 1981-09-03 |
| CH633286A5 (de) | 1982-11-30 |
| US4191823A (en) | 1980-03-04 |
| HU180982B (en) | 1983-05-30 |
| FR2372820B1 (fr) | 1986-02-21 |
| FR2372820A1 (fr) | 1978-06-30 |
| DE2655004C3 (de) | 1980-06-19 |
| NL7712916A (nl) | 1978-06-06 |
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