JPS6129841A - 写真用支持体およびその形成方法 - Google Patents
写真用支持体およびその形成方法Info
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- JPS6129841A JPS6129841A JP15085784A JP15085784A JPS6129841A JP S6129841 A JPS6129841 A JP S6129841A JP 15085784 A JP15085784 A JP 15085784A JP 15085784 A JP15085784 A JP 15085784A JP S6129841 A JPS6129841 A JP S6129841A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/915—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means using mechanical or physical means therefor, e.g. corona
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
（産業上の利用分野）
本発明は写真用支持体に関し、更に詳しくは親水性化処
理された写真用支持体およびその形成方法に関する。 （従来の技術） 通常の写真感光材料は、支持体上に、ゼラチン等の保護
コロイドに感光性ハロゲン化銀粒子を分散させた感光性
乳剤層、保護層、ハレーション防止層等の構成層を塗設
して得られるが、該支持体が疎水性の高分子樹脂である
場合、またはそのような樹脂層を表面に有している場合
、親水性の保護コロイドをバイングーとする構成層との
付着を良くするために、支持体に親水性化処理を施こす
。 そのような親水性化処理のひとつとして、コロナ放電処
理があり、好ましい処理方法および諸条件が、例えばカ
ナダ特許第７５０３２３号、同７９５７７３号。 米国特許第３４１１９０８号、同３５３１３１４号、同
３５４９４０６号。 同３５７３９１６号、同３６０７３４５号、同３８３３
３８０号公報等に記載されている。 しかしながら、従来知られたコロナ放電処理を施した支
持体に写真感光材料の構成層を塗布すると、ラワン目状
の塗布ムラとかピンホールといった塗布故障が発生する
ことがあった。 （発明の目的） 本発明の１的は、前記した塗布故障の発生のない写真用
支持体を提供することにあり、更に第２の目的は、その
ような支持体の形成方法を提供することにある。 （発明の構成） 本発明者らは、コロナ放電処理の諸条件を検討し、高周
波の放電によって処理された支持体は、親水性層の付着
性は良いが前述した塗布故障の発生があること、および
、低周波の放電によって最終的に支持体を処理すると、
そのような最終処理によって付着性の効果が高まるとい
うわけでもないのにかかわらず、前述した塗布故障が起
こらなくなることを見出した。 即ち本発明の目的は、高分子樹脂からなる層を有し、比
較的低周波の交流によるコロナ放電域に、少なくとも１
回さらされたことを特徴とする写真用支持体により達成
される。 更に本発明の第２の目的は、高分子樹脂からなる層を有
する写真用支持体を、比較的低周波の交流によるコロナ
放電域と相対的に走行させながら、該放電域を少なくと
も１回通過させることを特徴とする写真用支持体の形成
方法により達成される。 以下、本発明について更に詳述する。 本発明にかかわる高分子樹脂からなる層を有する支持体
は、ポリエステル系ベース（例えば、ポリエチレンテレ
フタレート、セルロースアセテート、ポリカーボネート
等）、ポリ塩化ビニルベース。 ポリスチレンベースおよびポリオレフィンコート紙等、
通常の写真感光材料に用いられる支持体であり、とりわ
け本発明の効果の者しいものはポリオレフィンコート紙
（例えばポリエチレンコート紙）である。 本発明の支持体は、比較的低周波の交流によるコロナ放
電域に、少なくとも１回さらされているので前述した塗
布故障を防止することができる。 但し、支持体と写真構成層との付着という観点から、通
常のコロナ放電処理（例えば５ＫＨｚから２０ＫＨｚま
での周波数の交流による）を施して後、本発明の比較的
低周波の交流によるコロナ放電処理を施すのが好ましい
。また低周波としては２００）（ｚ未満が好ましい。 前記２つのコロナ放電処理は、引き続いて行なっても良
いし、高周波のコロナ放電処理の後、相当な時間を経て
、低周波のコロナ放電処理をしても良い。但し、引き続
いて行なわない場合には、３０分より艮い時開を経るこ
とが好ましい。 低周波の下限としては、ある程度の密度で放電電流を発
生し得る周波数であれば、何でも差し支えない。 コロナ放電処理としては、支持体を連続的に走行させな
がら、および／または、コロナ放電器を移動させながら
、相対走行速度２０ｍ／分以上２５０ｍ／分以下の範囲
で行なうのが好ましい。あまり低速度であると、コロナ
放電域での支持体の滞留時間が長くなり支持体表面を荒
らすことになるし、あまり高速度であると、支持体表面
改質の効果を得る為に、高電圧を掛けるのでショートし
てしまったり、操作性が良（なかったりという不都合が
生じる。 支持体表面がどの程度親水性化したかについては、支持
体表面のぬれ性、即ち水滴（通常は蒸留水）をたらした
とき、滴が支持体表面に接触する接触端での角度で評価
することができる。この接触角が３５゛から７５゛位で
、写真構成層の支持体に対する付着は良好である。 また、本発明に係る支持体に写真構成層を塗布する場合
、横段状の塗布ムラが発生することがあるが、これは、
例えば米国特許第３５４９４０６号に記載されている様
なコロナ放電による帯電パターンによるものと思われる
。従って、前述の塗布をする前に、何らかの手段で帯電
状態を均一にする（例えば米国特許第３５３１３１４号
）か、電荷を除去してやる必要がある。塗布の前に、イ
オン化した空気中に支持体を通過させてやると、電荷は
中和されて除去され、横段状の塗布ムラは発生しなくな
る。 本発明の支持体は、交流式のイオン発生器により形成さ
れたイオン化空気雰囲気中を中通過させてのち、塗布さ
れることが好ましい。 また、本発明の支持体は、低周波によるコロナ放電処理
直後に写真構成層を塗設するよりも、相当の時間を経て
のちに塗設した方が、前述の横段状の塗布ムラのみなら
ず、ラワン目状の塗布ムラおよびピンホールをも防止で
きるので好ましい。 即ち、少なくとも３０分を過ぎてから塗布するのが好ま
しい。 以下、本発明を実施例にで説明するが、本発明の態様は
これに限定されるものではない。 （実施例） 中１００ｃｍのポリエチレンコート紙に表に示すコロナ
処理条件および塗布速度で、下記の処決の塗布液を、ス
ライドホッパーにて４層積層して塗布した。塗布液の液
温は３８℃である。
理された写真用支持体およびその形成方法に関する。 （従来の技術） 通常の写真感光材料は、支持体上に、ゼラチン等の保護
コロイドに感光性ハロゲン化銀粒子を分散させた感光性
乳剤層、保護層、ハレーション防止層等の構成層を塗設
して得られるが、該支持体が疎水性の高分子樹脂である
場合、またはそのような樹脂層を表面に有している場合
、親水性の保護コロイドをバイングーとする構成層との
付着を良くするために、支持体に親水性化処理を施こす
。 そのような親水性化処理のひとつとして、コロナ放電処
理があり、好ましい処理方法および諸条件が、例えばカ
ナダ特許第７５０３２３号、同７９５７７３号。 米国特許第３４１１９０８号、同３５３１３１４号、同
３５４９４０６号。 同３５７３９１６号、同３６０７３４５号、同３８３３
３８０号公報等に記載されている。 しかしながら、従来知られたコロナ放電処理を施した支
持体に写真感光材料の構成層を塗布すると、ラワン目状
の塗布ムラとかピンホールといった塗布故障が発生する
ことがあった。 （発明の目的） 本発明の１的は、前記した塗布故障の発生のない写真用
支持体を提供することにあり、更に第２の目的は、その
ような支持体の形成方法を提供することにある。 （発明の構成） 本発明者らは、コロナ放電処理の諸条件を検討し、高周
波の放電によって処理された支持体は、親水性層の付着
性は良いが前述した塗布故障の発生があること、および
、低周波の放電によって最終的に支持体を処理すると、
そのような最終処理によって付着性の効果が高まるとい
うわけでもないのにかかわらず、前述した塗布故障が起
こらなくなることを見出した。 即ち本発明の目的は、高分子樹脂からなる層を有し、比
較的低周波の交流によるコロナ放電域に、少なくとも１
回さらされたことを特徴とする写真用支持体により達成
される。 更に本発明の第２の目的は、高分子樹脂からなる層を有
する写真用支持体を、比較的低周波の交流によるコロナ
放電域と相対的に走行させながら、該放電域を少なくと
も１回通過させることを特徴とする写真用支持体の形成
方法により達成される。 以下、本発明について更に詳述する。 本発明にかかわる高分子樹脂からなる層を有する支持体
は、ポリエステル系ベース（例えば、ポリエチレンテレ
フタレート、セルロースアセテート、ポリカーボネート
等）、ポリ塩化ビニルベース。 ポリスチレンベースおよびポリオレフィンコート紙等、
通常の写真感光材料に用いられる支持体であり、とりわ
け本発明の効果の者しいものはポリオレフィンコート紙
（例えばポリエチレンコート紙）である。 本発明の支持体は、比較的低周波の交流によるコロナ放
電域に、少なくとも１回さらされているので前述した塗
布故障を防止することができる。 但し、支持体と写真構成層との付着という観点から、通
常のコロナ放電処理（例えば５ＫＨｚから２０ＫＨｚま
での周波数の交流による）を施して後、本発明の比較的
低周波の交流によるコロナ放電処理を施すのが好ましい
。また低周波としては２００）（ｚ未満が好ましい。 前記２つのコロナ放電処理は、引き続いて行なっても良
いし、高周波のコロナ放電処理の後、相当な時間を経て
、低周波のコロナ放電処理をしても良い。但し、引き続
いて行なわない場合には、３０分より艮い時開を経るこ
とが好ましい。 低周波の下限としては、ある程度の密度で放電電流を発
生し得る周波数であれば、何でも差し支えない。 コロナ放電処理としては、支持体を連続的に走行させな
がら、および／または、コロナ放電器を移動させながら
、相対走行速度２０ｍ／分以上２５０ｍ／分以下の範囲
で行なうのが好ましい。あまり低速度であると、コロナ
放電域での支持体の滞留時間が長くなり支持体表面を荒
らすことになるし、あまり高速度であると、支持体表面
改質の効果を得る為に、高電圧を掛けるのでショートし
てしまったり、操作性が良（なかったりという不都合が
生じる。 支持体表面がどの程度親水性化したかについては、支持
体表面のぬれ性、即ち水滴（通常は蒸留水）をたらした
とき、滴が支持体表面に接触する接触端での角度で評価
することができる。この接触角が３５゛から７５゛位で
、写真構成層の支持体に対する付着は良好である。 また、本発明に係る支持体に写真構成層を塗布する場合
、横段状の塗布ムラが発生することがあるが、これは、
例えば米国特許第３５４９４０６号に記載されている様
なコロナ放電による帯電パターンによるものと思われる
。従って、前述の塗布をする前に、何らかの手段で帯電
状態を均一にする（例えば米国特許第３５３１３１４号
）か、電荷を除去してやる必要がある。塗布の前に、イ
オン化した空気中に支持体を通過させてやると、電荷は
中和されて除去され、横段状の塗布ムラは発生しなくな
る。 本発明の支持体は、交流式のイオン発生器により形成さ
れたイオン化空気雰囲気中を中通過させてのち、塗布さ
れることが好ましい。 また、本発明の支持体は、低周波によるコロナ放電処理
直後に写真構成層を塗設するよりも、相当の時間を経て
のちに塗設した方が、前述の横段状の塗布ムラのみなら
ず、ラワン目状の塗布ムラおよびピンホールをも防止で
きるので好ましい。 即ち、少なくとも３０分を過ぎてから塗布するのが好ま
しい。 以下、本発明を実施例にで説明するが、本発明の態様は
これに限定されるものではない。 （実施例） 中１００ｃｍのポリエチレンコート紙に表に示すコロナ
処理条件および塗布速度で、下記の処決の塗布液を、ス
ライドホッパーにて４層積層して塗布した。塗布液の液
温は３８℃である。
１、 ハロゲン化銀乳剤（母乳剤）
臭化銀２０モル％を含む塩臭化銀０．５３モル／Ｑ。
ゼラチン１０％溶液。かぶり防止剤その他席用される添
加剤を含有している。 （乳剤ＡＩ）・・・青感性イエロー発色乳剤前記母乳剤
を青感性に増感し下記イエローカプラ（０，４０モル１
モルＡｇ）をゼラチン液中にＤＢＰ油滴分散させた分散
液更にゼラチン含有率を調節するため加えるゼラチン液
（添加ゼラチン液）混合し、ゼラチンについて６％に稀
釈し塗布液に仕上げた。 （乳剤Ｂｌ）・・・緑感性マゼンタ発色乳剤前記乳剤Ａ
１と同手順により緑感性に増感された母乳剤と下記マゼ
ンタカプラ（０，２０モル１モルＡｇ）のＤＢＰ油滴分
散液と添加ゼラチン溶液によりゼラチンについて６％の
塗布液に仕上げた。 ２、 中間層液・・・ゼラチン５％溶液イエローカプラ マゼンタカプラ Ｑ しり 尚、塗布はコロナ放電処理の後、２時間を経て行い、ま
たスライドホッパーの前に、交流によるイオン発生装置
を設置した。 表より明らかな様に、低周波の交流によるコロナ放電処
理により、塗布故障が発生しなくなることがわかる。 手続補正書（方式） 昭和５９年１１月１９日
加剤を含有している。 （乳剤ＡＩ）・・・青感性イエロー発色乳剤前記母乳剤
を青感性に増感し下記イエローカプラ（０，４０モル１
モルＡｇ）をゼラチン液中にＤＢＰ油滴分散させた分散
液更にゼラチン含有率を調節するため加えるゼラチン液
（添加ゼラチン液）混合し、ゼラチンについて６％に稀
釈し塗布液に仕上げた。 （乳剤Ｂｌ）・・・緑感性マゼンタ発色乳剤前記乳剤Ａ
１と同手順により緑感性に増感された母乳剤と下記マゼ
ンタカプラ（０，２０モル１モルＡｇ）のＤＢＰ油滴分
散液と添加ゼラチン溶液によりゼラチンについて６％の
塗布液に仕上げた。 ２、 中間層液・・・ゼラチン５％溶液イエローカプラ マゼンタカプラ Ｑ しり 尚、塗布はコロナ放電処理の後、２時間を経て行い、ま
たスライドホッパーの前に、交流によるイオン発生装置
を設置した。 表より明らかな様に、低周波の交流によるコロナ放電処
理により、塗布故障が発生しなくなることがわかる。 手続補正書（方式） 昭和５９年１１月１９日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）高分子樹脂からなる層を有し、比較的低周波の交流
によるコロナ放電域に、少なくとも１回さらされたこと
を特徴とする写真用支持体。 ２）予め比較的高周波の交流によるコロナ放電域にさら
されて、しかる後に前記比較的低周波の交流によるコロ
ナ放電域にさらされたことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の写真用支持体。 ３）前記比較的低周波の交流の周波数が２００Ｈｚ未満
であることを特徴とする特許請求の範囲第１項または第
２項記載の写真用支持体。 ４）前記比較的高周波の交流の周波数が５ＫＨ２以上２
０ＫＨｚ以下であることを特徴とする特許請求の範囲第
２項または３項記載の写真用支持体。 ５）前記高分子樹脂がポリオレフィンまたはポリエステ
ルであることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし
４項の少なくとも１項記載の写真用支持体。 ６）上記ポリオレフィンがポリエチレンであることを特
徴とする特許請求の範囲第５項記載の写真用支持体。 ７）前記比較的低周波の交流によるコロナ放電域にさら
されてのち、相当の時間を経てから、写真構成層が塗設
されることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第
６項の少なくとも１項記載の写真用支持体。 ８）前記相当の時間が３０分より長時間であることを特
徴とする特許請求の範囲第７項記載の写真用支持体。 ９）写真構成層が塗設される前に、イオン化された空気
にさらされることを特徴とする特許請求の範囲第１項な
いし第８項の少なくとも１項記載の写真用支持体。 １０）前記比較的低周波の交流によるコロナ放電域にさ
らされてのち、相当の時間を経てから、イオン化された
空気にさらされることを特徴とする特許請求の範囲第９
項記載の写真用支持体。 １１）前記相当の時間が３０分より長時間であることを
特徴とする特許請求の範囲第１０項記載の写真用支持体
。 １２）前記写真用支持体が、ポリエチレンで被覆された
写真印画紙用支持体であることを特徴とする特許請求の
範囲第１ないし１１項の少なくとも１項記載の写真用支
持体。 １３）高分子樹脂からなる層を有する写真用支持体を、
比較的低周波の交流によるコロナ放電域と、相対的に走
行させながら、該放電域を少なくとも１回通過させるこ
とを特徴とする写真用支持体の形成方法。 １４）前記支持体を、相対的に走行させながら、予め比
較的高周波の交流によるコロナ放電域を少なくとも１回
通過させ、しかる後に前記比較的低周波の交流によるコ
ロナ放電域を通過させることを特徴とする特許請求第１
３項記載の写真用支持体の形成方法。 １５）前記２つのコロナ放電域を引き続いて通過させる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１４項記載の写真用
支持体の形成方法。 １６）前記比較的高周波の交流によるコロナ放電域を通
過させてのち、相当の時間を経てから、前記比較的低周
波の交流によるコロナ放電域を通過させることを特徴と
する特許請求の範囲第１４項記載の写真用支持体の形成
方法。 １７）前記相当の時間が３０分より長時間であることを
特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の写真用支持体
の形成方法。 １８）前記比較的低周波の交流の周波数が２００Ｈｚ未
満であることを特徴とする特許請求の範囲第１３項記載
の写真用支持体の形成方法。 １９）前記比較的高周波の交流の周波数が５ＫＨｚ以上
２０ＫＨｚ以下であることを特徴とする特許請求の範囲
第１４項ないし１７項の少なくとも１項記載の写真用支
持体の形成方法。 ２０）前記比較的低周波の交流の周波数が２００Ｈｚ未
満であることを特徴とする特許請求の範囲第１９項記載
の写真用支持体の形成方法。 ２１）前記高分子樹脂がポリオレフィンまたはポリエス
テルであることを特徴とする特許請求の範囲第１３項な
いし第２０項の少なくとも１項記載の写真用支持体の形
成方法。 ２２）前記ポリオレフィンがポリエチレンであることを
特徴とする特許請求の範囲第２１項記載の写真用支持体
の形成方法。 ２３）前記写真用支持体がポリエチレンで被覆された写
真印画紙用支持体であることを特徴とする特許請求の範
囲第１３項ないし第２２項の少なくとも１項記載の写真
用支持体の形成方法。 ２４）前記相対走行速度が２０ｍ／分以上２５０ｍ／分
以下であることを特徴する特許請求の範囲第１３項ない
し第２３項の少なくとも１項記載の写真用支持体の形成
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15085784A JPS6129841A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 写真用支持体およびその形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15085784A JPS6129841A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 写真用支持体およびその形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6129841A true JPS6129841A (ja) | 1986-02-10 |
Family
ID=15505885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15085784A Pending JPS6129841A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 写真用支持体およびその形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6129841A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63143539A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-15 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 写真感光材料の製造方法 |
| JPH0224647A (ja) * | 1988-05-28 | 1990-01-26 | Felix Schoeller Jr Gmbh & Co Kg | 写真支持材料の製造方法 |
| JPH09141613A (ja) * | 1995-11-16 | 1997-06-03 | Hoshizen:Kk | 自動釘打ち装置 |
-
1984
- 1984-07-20 JP JP15085784A patent/JPS6129841A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63143539A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-15 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 写真感光材料の製造方法 |
| JPH0224647A (ja) * | 1988-05-28 | 1990-01-26 | Felix Schoeller Jr Gmbh & Co Kg | 写真支持材料の製造方法 |
| JPH09141613A (ja) * | 1995-11-16 | 1997-06-03 | Hoshizen:Kk | 自動釘打ち装置 |
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