JPH09225953A

JPH09225953A - 写真用支持体の製造方法

Info

Publication number: JPH09225953A
Application number: JP8061923A
Authority: JP
Inventors: Yuji Suzuki; 祐次鈴木; Tokuo Ishikawa; 徳夫石川; Satoshi Sakamaki; 聡坂牧
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1996-02-23
Filing date: 1996-02-23
Publication date: 1997-09-02

Abstract

(57)【要約】【課題】高温乾燥で高速製膜しても平面性が良好で、
かつ、透明性を損なうような面状故障のないセルロース
トリアセテートフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】セルローストリアセテートフィルム用ド
ープを流延して形成したバンド又はドラムから剥ぎ取っ
たセルローストリアセテートフィルムを乾燥させる乾燥
部（２０）と、セルローストリアセテートフィルムの凹
凸を平坦にする平面性改良部（５０）とを有し、平面性
改良部は、セルローストリアセテートフィルムを加熱ロ
ーラ（５４）と、冷却ローラ（５６）とを具備するセル
ローストリアセテートフィルムの製造方法において、平
面性改良部の上流の塗布部（６０）で連続的に塗膜を塗
布する際、セルローストリアセテートフィルムに塗設さ
れる塗膜の最上層或いは最上層近傍にカチオン性ポリマ
ーもしくはアニオン性ポリマーを付与する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平面性が良好で、且
つ、透明性を損なう面状故障の無いセルローストリアセ
テートフィルムを製造する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】セルローストリアセテートフィルムの製
造方法の一つに、バンド又はドラム上にドープを流延
し、その後膜として剥ぎ取り、乾燥する溶液製膜法があ
る。

【０００３】従来、この溶液製膜法における乾燥方法と
しては、例えば、図３に示すように、流延面（ドラムの
表面）７１から剥ぎ取ったセルローストリアセテートフ
ィルム７３を乾燥室７２内に設けられた多数のローラ７
４の間に掛け渡し、その多数のローラ７４間を移動させ
る（ローラ搬送方式という）間に、熱風ａ、赤外線など
で乾燥させる方法が提案されている（米国特許第２，３
１９，０５３号明細書等）。

【０００４】また、流延面から剥ぎ取ったセルロースト
リアセテートフィルムの両側縁部をテンタークリップ等
で保持しながら、延伸させることなく搬送しつつ乾燥す
る方法もある（特開昭６２−４６６２５号公報、特開昭
６２−４６６２６号公報）。この方法は、流延面から剥
ぎ取ったセルローストリアセテートフィルムの残留溶媒
が非常に多く、ローラ搬送方式で行うとローラ表面との
接触によりセルローストリアセテートフィルムの表面が
損なわれる場合に効果がある。

【０００５】ところで、溶液製膜法は製膜速度が遅いこ
とが大きな難点であり、乾燥工程においても乾燥速度を
上げることが工業上重要な課題となっていた。そこで、
流延面上からできるだけ早くセルローストリアセテート
フィルムを剥ぎ取って、セルローストリアセテートフィ
ルムの両面から高温で乾燥させることが好ましく、その
ためのゲル化剤、例えば、ブタノールなどの高沸点溶剤
をドープに含ませたり（米国特許第２，６０７，７０４
号明細書、米国特許第２，７３９，０６９号明細書）、
また、乾燥温度を高くしたりする方法が提案されてい
る。

【０００６】しかしながら、上述した従来の方法では、
セルローストリアセテートフィルムは平面性が悪いもの
しか得られなかった。すなわち、セルローストリアセテ
ートフィルムは、乾燥工程で搬送される際、搬送方向に
連続的なしわ（以後、スジバリと言う）が発生し、この
スジバリは高温になるにしたがって多発する傾向があっ
た。例えば、ピッチが３０〜５０ｍｍ、搬送時の凹凸の
高さが５〜６ｍｍ（静止時で張力がない場合０．５〜
１．０ｍｍ）のスジバリが発生していた。

【０００７】このスジバリは、セルローストリアセテー
トフィルムを写真フィルム等の支持体として用いたと
き、塗布乳剤層の厚みむらの原因となるものであった。

【０００８】そこで、このような問題点を解決する方法
として次のような製膜法を本発明者らは提案した。すな
わち、セルローストリアセテートフィルム用ドープをバ
ンド又はドラム上に流延する流延工程と、この流延工程
のバンド又はドラムから剥ぎ取ったセルローストリアセ
テートフィルムを乾燥させる乾燥工程と、この乾燥工程
で乾燥させられたセルローストリアセテートフィルムの
凹凸を平坦にする平面性改良工程とを有し、平面性改良
工程は、乾燥工程を経たセルローストリアセテートフィ
ルムを加熱ローラで加熱しつつ搬送して平坦にするロー
ラ加熱工程と、このローラ加熱工程の直後に冷却ローラ
で冷却しつつ搬送してセルローストリアセテートフィル
ムを固化させるローラ冷却工程とを具備する製造方法で
ある。

【０００９】この方法によれば、高温乾燥により乾燥速
度を上げて高速製膜しても、スジバリが発生せず、平面
性が良好なセルローストリアセテートフィルムを製膜で
きる。したがって厚さの均一な乳剤層の形成が可能とな
った。しかしながら、その後さらに研究を重ねた結果、
この方法では平面性改良工程の加熱ローラ上にフィルム
の中の可塑剤が析出しこれがフィルムに薄膜状に付着す
ることがあり、また、フィルムに斑点状の模様が生ずる
という問題が発生し、まだ満足しうる方法ではなかっ
た。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】したがって本発明は、
高温乾燥、高速製膜してもスジバリが発生せず、平面性
が良好なセルローストリアセテートフィルムの製膜方法
を提供することを目的とする。特に本発明は、高温乾燥
で高速製膜しても平面性が良好で、かつ、透明性を損な
うような面状故障（可塑剤の付着、斑点状の模様の発
生）のないセルローストリアセテートフィルムの製造方
法を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の上記の課題は次
のような製膜方法によって達成された。すなわち本発明
は、（１）セルローストリアセテートフィルム用ドープ
をバンド又はドラム上に流延する流延工程と、この流延
工程のバンド又はドラムから剥ぎ取ったセルローストリ
アセテートフィルムを乾燥させる乾燥工程と、この乾燥
工程で乾燥させられたセルローストリアセテートフィル
ムの表面を平坦にする平面性改良工程とを有し、平面性
改良工程は、乾燥工程を経たセルローストリアセテート
フィルムを加熱ローラで加熱しつつ搬送して平坦にする
ローラ加熱工程と、このローラ加熱工程にひき続いて冷
却ローラで冷却しつつ搬送してセルローストリアセテー
トフィルムを固化させるローラ冷却工程とを具備するセ
ルローストリアセテートフィルムの製造方法において平
面性改良部の上流で該セルローストリアセテートフィル
ム上に連続的に塗膜を塗布する際、セルローストリアセ
テートフィルムの両面の、塗設される塗膜の最上層或い
は最上層近傍にカチオン性ポリマーもしくはアニオン性
ポリマーを付与することを特徴とする製膜方法、及び
（２）（１）項記載の方法において平面性改良部のロー
ラー加熱工程での加熱装置が遠赤外線ヒーターであり、
当該遠赤外線ヒーターから搬送フィルムを見て当該搬送
フィルムの裏側の面に上記平面性改良部の上流で、マッ
ト剤を塗布することを特徴とする（１）項記載のセルロ
ーストリアセテートフィルムの製造方法を提供するもの
である。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明では、平面性改良部の上流
で連続的にゼラチン含有下塗層、導電性ポリマーなどの
材料を塗布する際に、上記のようなアニオン性ポリマー
もしくはカチオン性ポリマー又はマット剤の塗布を同時
に行う。本発明においては、アニオン性ポリマー又はカ
チオン性ポリマーのいずれかがセルローストリアセテー
トフィルムの両面にある。アニオン性ポリマーとしては
カルボキシル基を含み、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、無水マレイン酸、マレイン酸を含む単独又は
共重合体があげられる。好ましいのはマレイン酸誘導体
を含むポリマーである。特に好ましいのはスチレン−マ
レイン酸誘導体からなる共重合体である。具体的な実施
態様としては、平面性改良工程の前にセルローストリア
セテートフィルムの表面のゼラチン含有層が塗設されて
いる側に、上記のスチレン−マレイン酸共重合体（以下
単にスチレン−マレイン酸共重合体という）を塗布する
ことがあげられる。その塗布量は、セルローストリアセ
テートフィルム１ｍ² 当り、通常０．１〜５０ｍｇ、好
ましくは０．５〜２０ｍｇ、より好ましくは、１〜１５
ｍｇである。塗布方法は特に限定しないが、例えばワイ
ヤーバー法、スライドコート法、ローラーコート法、デ
ィップコート法、グラビアコート法などいずれも用いる
ことができる。この場合のゼラチン含有層厚みは一般に
０．１〜０．５μが好ましいが、これに制限されない。
必要により硬膜剤、界面活性剤、合成高分子物質、マッ
ト剤が混入しても効果は変わらない。

【００１３】本発明に用いられるスチレン−マレイン酸
共重合体は、多数のマレイン酸ユニットを含むが、この
ユニットの１つ以上がエステル化されていればすべて本
発明に含まれる。従って、各マレイン酸ユニットは、１
個又は２個のカルボキシル基がすべてエステル化されて
いなくても、共重合体全体中に少なくとも１つのエステ
ル化されたカルボキシル基を持てばよい。もちろん、エ
ステル化されていないマレイン酸ユニット、半エステル
化されたマレイン酸ユニット、及びエステル化されたマ
レイン酸ユニットが混在する共重合体も本発明に含まれ
る。これらの共重合体は１０〜７０％のエステル化度が
好ましく、又、エステル化されていないカルボキシル基
の１個以上は、アルカリ金属塩であることが好ましい。
本発明において好ましく用いられるスチレン−マレイン
酸共重合体は次の一般式（Ｉ）で表わされる。

【００１４】

【化１】

【００１５】（Ｒ''、Ｒ''' は水素原子、Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋを含むアルカリ金属原子、炭素数１〜１２のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基（それ
ぞれ置換基を含んでもよい）を表わし、ｗは２０〜６５
モル％、ｘは３５〜８０モル％を表わす。）本発明において、特に好ましいスチレン−マレイン酸共
重合体は下記、一般式（II）で表わされる。

【００１６】

【化２】

【００１７】ここにｎ₁ 、ｎ₂ 、ｎ₃ ：１又は２ｗ：２０〜６０モル％ｘ：０〜４０モル％ｙ＋ｚ：１０〜７０モル％でｙ≠０、ｚ＝０〜４０モル％Ｍ：リチウム、ナトリウム、カリウムの如きアルカリ金属原子Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ ：水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フエニル基上記一般式で表わされる共重合体は、通常のスチレン−
無水マレイン酸共重合体を

【００１８】

【化３】

【００１９】（Ｒ：水素原子、低級アルキル基、フエニ
ル基、ｎ：１又は２）で示されるアルコールでエステル
化し、残りのカルボキシル基の一部又は全部をアルカリ
金属塩にすることにより得られる。合成法の詳細は、特
開昭５１−２３７２２号公報の記載を参考にすることが
できる。本発明に用いられるスチレン−マレイン酸共重
合体の具体例を以下に例示するが、本発明はこれに限定
されるものではない。

【００２０】

【化４】

【００２１】本発明において使用されるスチレン−マレ
イン酸共重合体は、好ましくは２０００〜５００００
０、特に好ましくは５０００〜５００００の分子量を有
することが有利である。本発明において使用されるスチ
レン−マレイン酸共重合体の内、好ましいものは、前記
一般式（II）で表わされるが、中でも好ましいものは、
前記一般式（II）において、ｎ₁ 、ｎ₂ 、ｎ₃ ：１；
ｗ：４０〜６０モル％；ｘ：２０〜４０モル％；ｙ：１
０〜３０モル％；ｚ：０〜１０モル％；Ｍ：ナトリウム
又はカリウム；Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ ：水素原子の場合であ
る。

【００２２】本発明に係るスチレン−マレイン酸共重合
体をゼラチン含有下塗層を有するプラスチックフィルム
上に塗布するには、該共重合体を該プラスチックフィル
ムの非溶剤に溶解した溶液を用いて塗布する。ここに、
プラスチックフィルムの非溶剤とは、写真感光材料の支
持体として用いられるセルローストリアセテートフィル
ムなどに対して親和性のない溶剤を意味し、かかる溶剤
は、該プラスチックフィルムを膨潤ないし、溶解するこ
とはない。

【００２３】また本発明の他の実施態様としては平面性
改良工程の前に、セルローストリアセテートフィルムの
ゼラチン含有層が塗設されない面（一般にハロゲン化銀
乳剤層を塗設する面の裏側であり、これをバック面とい
う）にカチオン性ポリマーを塗布する。その塗布量はセ
ルローストリアセテートフィルム１ｍ² 当り、通常０．
０１〜０．２ｇ、好ましくは０．０１〜０．１ｇであ
る。その塗布方法は特に限定しないが例えばスライドコ
ート法、ローラーコート法、ディップコート法などいず
れも用いることができる。また、当該カチオン性ポリマ
ーの上層に一般に写真感光材料に塗設されるセルロース
エステル等をバインダーとするマット剤、滑り剤、界面
活性剤、染料を付与してもその効果は変わらない。

【００２４】カチオン性ポリマーは帯電防止剤である四
級アンモニウム塩を含む。好ましくは、イオネン型、ス
チレン誘導体又はアクリルエステル誘導体で四級アンモ
ニウム塩を含むポリマーである。より好ましくは下記一
般式(III) で表わされるカチオンポリマーである。

【００２５】

【化５】

【００２６】式中、Ｒ₁ 及びＲ₂ はそれぞれ炭素数が好
ましくは１〜１０のアルキル基、置換アルキル基（置換
基としては、例えば、シクロアルキル基、ヒドロキシル
基、シアノ基、アミド基、カルボキシル基、アルコキシ
カルボニル基、カルバモイル基等）、シクロアルキル
基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基（例えば
アリル基）である。これらＲ₁ とＲ₂ は互いに結合し
て、アルキレン鎖（例えばエチレン）を形成してもよ
い。Ｒ₃ は炭素数１０以下のアルキレン基、アラルキレ
ン基を表わす。Ｘ₁ ^-及びＸ₂ ^-はアニオンをそれぞれ表わ
し、好ましいのはハロゲンイオン、Ｒ₄ Ｏ−ＳＯ₂ −Ｏ
−、Ｒ₄ −ＳＯ₂ −Ｏ−、（ＨＯ）₂ ＰＯ−Ｏ−を表わ
し、特に好ましくは、クロライド、ブロマイドの如きハ
ロゲンイオンである。ｎは約１０乃至約３００であり、
好ましくは約３０乃至約２００である。一般式(II)又は
(III) で示される前記化合物は、例えば特公昭５７−５
６０５９号に記載の方法により合成される。一般式(I
I)、(III)で表わされるカチオンポリマーの具体例を次
にあげるが、本発明はこれに限定されるものではない。

【００２７】

【化６】

【００２８】本発明において平面性改良工程においてロ
ーラー加熱工程での加熱装置が遠赤外線ヒーターである
場合当該遠赤外線ヒーターから搬送フィルムを見て当該
搬送フィルムの裏側の面にマット剤を付与する。このマ
ット剤として平均粒径０．０１〜１μｍの微粒子からな
るものがあげられその塗布量はセルローストリアセテー
トフィルム１ｍ² 当り、通常１〜２００ｍｇ、好ましく
は１〜５０ｍｇ、より好ましくは３〜２０ｍｇとする。
このようなマット剤としては一般に二酸化ケイ素を用い
る。ゼラチン分散液に二酸化ケイ素を分散する場合はゼ
ラチンの安定性のためアルキル基でシランカップリング
し無極性化した二酸化ケイ素粒子を用いる。その他マッ
ト剤材料として硫酸ストロンチウムバリウムなどの無機
化合物、ポリメチルメタクリエート、ポリスチレン等の
有機ポリマーなどを用いることができる。塗布方法は、
セルローストリアセテートの非溶剤にセルロースエステ
ル（例えば）セルロースジアセテートなどのポリマーを
バインダーにマット剤を分散した液、あるいはゼラチン
分散液にセルロースエステル（例えば）セルロースジア
セテートなどのポリマーをバインダーにマット剤を分散
した液をスライドコート法、ローラーコート法、ディッ
プコート法などの塗布方法で付与する。

【００２９】本発明の平面性改良工程についてさらに説
明する。平面性改良工程のローラ加熱工程及び冷却工程
においてセルローストリアセテートフィルムを加熱及び
冷却するには、それぞれ複数の加熱ローラ群と冷却ロー
ラ群とを設け、加熱ローラ群で加熱した後冷却ローラ群
で冷却しても、それぞれ径の大きな一個の加熱ローラと
冷却ローラとを設け、一個の加熱ローラで加熱した後一
個の冷却ローラで冷却しても、径の大きな一個のローラ
の半面を加熱部とし他の半面を冷却部とし、すなわち一
個のローラに加熱ローラと冷却ローラとを兼用させ、半
面の加熱部で加熱した後他の半面の冷却部で冷却するよ
うにしてもよい。しかし、収縮による擦傷が発生しにく
いので、ローラ群を用いる方法が好ましい。

【００３０】加熱ローラの温度は、セルローストリアセ
テートフィルムが十分軟化する温度であればよく、好ま
しくは１００〜１９０℃、より好ましくは１２０〜１７
０℃である。なお、加熱ローラの温度が高温過ぎると、
膜中の可塑剤が浸出して好ましくない。加熱ローラを加
熱するには、加熱ローラ自体にヒーター等の内蔵熱源を
設けて加熱しても、熱風で加熱しても、遠赤外線ヒータ
等の外部熱源で加熱してもよい。また、内蔵熱源と熱風
を組み合わせても、内蔵熱源と外部熱源を組み合わせて
も、熱風と外部熱源を組み合わせても、内蔵熱源と外部
熱源と熱風とを組み合わせてもよい。

【００３１】冷却ローラの温度は、セルローストリアセ
テートフィルムの剛性が十分に得られる温度であればよ
く、好ましくは１０〜９５℃、より好ましくは２０〜８
０℃である。冷却ローラを所定温度に維持するには、温
風、又は所定温度の冷媒を用いた冷却ローラ等を用い
る。

【００３２】加熱ローラによる加熱の終了後冷却ローラ
による冷却までの間隔は、加熱ローラにより凹凸が平坦
にされたセルローストリアセテートフィルムがその平面
状態を維持したまま冷却ローラで冷却される間隔であ
り、セルローストリアセテートフィルムの剛性等によっ
て適当に設定される。本発明のセルローストリアセテー
トフィルムの製造方法では、乾燥工程で、搬送テンショ
ンによって幅方向に座屈変形してスジバリが発生して平
面性が悪化したセルローストリアセテートフィルムを、
加熱ローラで巻回して搬送することにより軟化させると
同時にスジバリを無くして平坦にし、直ちに、冷却ロー
ラで巻回して搬送することにより固化して平面に矯正す
る。

【００３３】本発明のセルローストリアセテートフィル
ムの製造方法を図面に基づいて説明する。

【００３４】図１は、セルローストリアセテートフィル
ムの製造方法を実施する製造装置の模式図である。

【００３５】図１において、符号１０はセルローストリ
アセテートフィルム用ドープを流延する流延部、符号２
０及び３０は、流延部１０から剥ぎ取られたセルロース
トリアセテートフィルム４０を順次乾燥する第１乾燥部
及び第２乾燥部であり、符号５０は第２乾燥部３０から
送られてきたセルローストリアセテートフィルム４０の
スジバリを無くす平面性改良部である。そして、第１乾
燥部２０と第２乾燥部３０との間に下塗り塗布部６０が
設けられている。

【００３６】流延部１０は、所定温度に冷却されている
バンド１１とその上部に設けられた流延口１２からなっ
ている。また、第１及び第２乾燥部２０及び３０は、そ
れぞれ、熱風ａを室内に供給するための熱風供給口２１
及び３１が設けられ、また、セルローストリアセテート
フィルム４０を搬送するためのローラ２２及び３２が複
数設けられている。

【００３７】平面性改良部５０は、加熱室５１と冷却室
５２とが隣接して設けられており、加熱室５１には多数
の加熱ローラ５３を略同一平面上に隣接して配置した加
熱ローラ群５４が設けられ、冷却室５２には冷却ローラ
５５を略同一平面上に隣接して配置した冷却ローラ群５
６が加熱ローラ群５４に連続して配置されている。ま
た、加熱室５１には熱風供給口５７が設けられ、この熱
風供給口５７から熱風ｂが室内に供給されるようになっ
ており、冷却室５２には、冷却風供給口５８が設けら
れ、この冷却風供給口５８から冷却風ｃが室内に供給さ
れるようになっている。

【００３８】以上のような製造装置でセルローストリア
セテートフィルムを製造するには、まず、所定組成のド
ープを流延口１２からバンド１１に流延し、流延された
ドープが発泡しない温度条件で乾燥させつつ搬送する。
そして、ある程度自己保持性が出た時バンド１１から剥
ぎ取り、その後、第１乾燥部２０に送り込み、熱風供給
口２１から熱風ａを送り込みつつローラ２２で搬送し、
下塗りができる状態まで乾燥させる。こうして乾燥した
セルローストリアセテートフィルム４０を下塗り塗布部
６０に送り、写真感光材料用の下塗り剤を塗布する。そ
して、下塗りされたセルローストリアセテートフィルム
４０を第２乾燥部３０へ送り、第１乾燥室２０と同様に
乾燥させる。

【００３９】次に、セルローストリアセテートフィルム
４０を平面性改良部５０に送り、まず、加熱室５１にお
いて熱風を吹き込みつつ加熱ローラ群５４で巻回しつつ
搬送することにより、軟化させるとともに発生している
スジバリをとり表面を平面にし、次に、冷却室５２にお
いて冷風を吹き込みつつ冷却ローラ群５６により平面状
態のまま固化させる。したがって、冷却室５２から排出
されたセルローストリアセテートフィルム４０は、表面
の凹凸がない平面状態の良好なまま巻き取られる。図２
は、セルローストリアセテートフィルムの製造方法を実
施する製造装置の平面性改良部を変更した他の例の模式
図である。

【００４０】この製造装置は、加熱室５１において加熱
ローラ５３に対向して遠赤外線ヒーター５９が配置され
ており、その他の構成は図１の製造装置と同様である。
この製造装置では、加熱室５１において、遠赤外線ヒー
ター５９で加熱ローラ５３及びセルローストリアセテー
トフィルムを加熱することになる。なお、熱風による加
熱は、同時に行っても行わなくてもよい。

【００４１】次に、本発明を適用する感材について説明
する。本発明では支持体と感材構成層を接着させるため
に、表面処理することが好ましい。薬品処理、機械的処
理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処
理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処
理、混酸処理、オゾン酸化処理、などの表面活性化処理
が挙げられる。表面処理の中でも好ましいのは、紫外線
照射処理、火焔処理、コロナ処理、グロー処理である。

【００４２】感光層にはマット剤を含むことが好まし
い。マット剤としては乳剤面、バック面とどちらでもよ
いが、乳剤側の最外層に添加するのが特に好ましい。マ
ット剤は処理液可溶性でも処理液不溶性でもよく、好ま
しくは両者を併用することである。例えばポリメチルメ
タクリレート、ポリ（メチルメタクリレート／メタクリ
ル酸＝９／１又は５／５（モル比））、ポリスチレン粒
子などが好ましい。粒径としては０．８〜１０μｍが好
ましく、その粒径分布も狭いほうが好ましく、平均粒径
の０．９〜１．１倍の間に全粒子数の９０％以上が含有
されることが好ましい。また、マット性を高めるために
０．８μｍ以下の微粒子を同時に添加することも好まし
く例えばポリメチルメタクリレート（０．２μｍ）、ポ
リ（メチルメタクリレート／メタクリル酸＝９／１（モ
ル比）、０．３μｍ））、ポリスチレン粒子（０．２５
μｍ）、コロイダルシリカ（０．０３μｍ）が挙げられ
る。

【００４３】本発明ではハロゲン化銀乳剤は、通常、物
理熟成、化学熟成および分光増感を行ったものを使用す
る。このような工程で使用される添加剤はＲＤＮｏ．１
７６４３、同Ｎｏ．１８７１６および同Ｎｏ．３０７１
０５に記載されており、その該当箇所を後掲の表にまと
めた。本発明の感光材料には、感光性ハロゲン化銀乳剤
の粒子サイズ、粒子サイズ分布、ハロゲン組成、粒子の
形状、感度の少なくとも１つの特性の異なる２種類以上
の乳剤を、同一層中に混合して使用することができる。
ＵＳ４，０８２，、５５３に記載の粒子表面をかぶらせ
たハロゲン化銀粒子、ＵＳ４，６２６，４９８、特開昭
５９−２１４８５２に記載の粒子内部をかぶらせたハロ
ゲン化銀粒子、コロイド銀を感光性ハロゲン化銀乳剤層
および／または実質的に非感光性の親水性コロイド層に
適用することが好ましい。粒子内部または表面をかぶら
せたハロゲン化銀粒子とは、感光材料の未露光部を問わ
ず、一様に（非像様に）現像が可能となるハロゲン化銀
粒子のことをいい、その調製法は、ＵＳ４，６２６，４
９８、特開昭５９−２１４８５２に記載されている。粒
子内部がかぶらされたコア／シェル型ハロゲン化銀粒子
の内部核を形成するハロゲン化銀は、ハロゲン組成が異
なっていてもよい。粒子内部または表面をかぶらせたハ
ロゲン化銀としては、塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩
沃臭化銀のいずれをも用いることができる。これらのか
ぶらされたハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズとしては
０．０１〜０．７５μｍ、特に０．０５〜０．６μｍが
好ましい。また、粒子形状は規則的な粒子でもよく、多
分酸乳剤でもよいが、単分散性（ハロゲン化銀粒子の重
量または粒子数の少なくとも９５％が平均粒子径の±４
０％以内の粒子径を有するもの）であることが好まし
い。

【００４４】本発明では、カラー感材には非感光性微粒
子ハロゲン化銀を使用することが好ましい。非感光性微
粒子ハロゲン化銀とは、色素画像を得るための像様露光
時においては感光せずに、その現像処理において実質的
に現像されないハロゲン化銀微粒子であり、あらかじめ
カブラされていないほうが好ましい。微粒子ハロゲン化
銀は、臭化銀の含有率が０〜１００モル％であり、必要
に応じて塩化銀および／または沃化銀を含有してもよ
い。好ましくは沃化銀を０．５〜１０モル％含有するも
のである。微粒子ハロゲン化銀は、平均粒径（投影面積
の円相当直径の平均値）が０．０１〜０．５μｍが好ま
しく、０．０２〜０．２μｍがより好ましい。微粒子ハ
ロゲン化銀は、通常の感光性ハロゲン化銀と同様の方法
で調製できる。ハロゲン化銀粒子の表面は、光学的に増
感される必要はなく、また分光増感も不要である。ただ
し、これを塗布液に添加するのに先立ち、あらかじめト
リアゾール系、アザインデン系、ベンゾチアゾリウム
系、もしくはメルカプト系化合物または亜鉛化合物など
の公知の安定剤を添加しておくことが好ましい。この微
粒子ハロゲン化銀粒子含有層に、コロイド銀を含有させ
ることができる。本発明の感光材料の塗布銀量は、６．
０ｇ／ｍ² 以下が好ましく、４．５ｇ／ｍ² 以下が最も
好ましい。

【００４５】カラー感材においては本発明に使用できる
写真用添加剤はＲＤに記載されており、下記の表に関連
する記載箇所を示した。添加剤の種類ＲＤ17643 ＲＤ18716 ＲＤ307105 １．化学増感剤２３頁６４８頁右欄８６６頁２．感度上昇剤６４８頁右欄３．分光増感剤、２３〜２４頁６４８頁右欄８６６〜８６８頁強色増感剤〜６４９頁右欄４．増白剤２４頁６４７頁右欄８６８頁５．光吸収剤、２５〜２６頁６４９頁右欄８７３頁フィルター〜６５０頁左欄染料、紫外線吸収剤６．バインダー２６頁６５１頁左欄８７３〜８７４頁７．可塑剤、２７頁６５０頁右欄８７６頁潤滑剤８．塗布助剤、２６〜２７頁６５０頁右欄８７５〜８７６頁表面活性剤９．スタチツク２７頁６５０頁右欄８７６〜８７７頁防止剤 10．マット剤８７８〜８７９頁

【００４６】本発明の支持体はカラーネガ又はカラーリ
バーサル感材に使用することができるが、カラーネガ感
材に使用するのが特に好ましい。

【００４７】

【実施例】次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説
明する。

【００４８】実施例１セルローストリアセテート２１重量％、トリフェニルホ
スフェート３重量％、メチレンクロライド６５重量％、
メタノール７重量％及びブタノール４重量％からなるド
ープを調製し、図１に示す製造装置を用い、バンド流延
機で流延した。乾燥工程の途中の塗布部６０において写
真乳剤塗布用支持体として下記の機能性付与（下塗、帯
電防止性）を行った。なお、図１は塗布部６０では塗布
機は１つしか図示していないが塗布部６０として、乳剤
層塗布面、バック面に各２層ずつ塗布することが可能な
設備を用いた。

【００４９】第１乾燥室２０の温度７０℃、第２乾燥室
３０の温度１２０℃として乾燥した。平面性改良部にお
ける加熱ローラ５３の半径は５ｃｍで、１２ｃｍピッチ
で２０個配置し、冷却ローラ５５の半径は５ｃｍで、１
２ｃｍピッチで２０個配置し、加熱室５１は１２０℃、
冷却室５２は１００℃、加熱方式は図２に示すような遠
赤外線ヒーターを用い搬送されるセルローストリアセテ
ートフィルムが１５０℃になるよう加熱した。

【００５０】搬送フィルムの乳剤層塗布面は当該遠赤外
線ヒーターに向いている。加熱室５１、冷却室５２の可
塑剤露点は６０℃以下になるよう、給気風量（ｂ，ｃ）
を調整した。上記条件に設定された製造装置を用いて乳
剤層塗布面及びバック面の第１層にゼラチン含有層を
０．１〜０．５μで塗布した。この際バック面の第１層
ゼラチン含有下塗層中にマット剤として平均粒径０．０
１〜０．１μｍの二酸化ケイ素（エアロジルＲ９７２、
商品名）の微粒子を１ｍ² あたり３〜９ｍｇ付与した。
当該二酸化ケイ素の微粒子はゼラチン含有塗布液中に微
量のセルロースジアセテートと共に分散し塗布した。塗
布液中の分散ゼラチンの安定化のため二酸化ケイ素微粒
子はアルキル基でシランカップリングし無極性化したも
のを用いた。乳剤層塗布面、バック面の第２層にスチレ
ン−マレイン酸共重合体（ＰＡ−１）を１ｍ² あたり１
〜８ｍｇ塗布した。こうして厚み１２２μｍのセルロー
ストリアセテートフィルムを搬送速度６０ｃｍ／秒で１
８０分間連続製造した。得られたフィルムの平面性は良
好であった。フィルムの乳剤層塗布面及びバック面に可
塑剤付き故障は発生しなかった。また、バック面にも斑
点状模様などの焼き付き故障は発生しなかった。

【００５１】比較例１乳剤層塗布面及びバック面の第１層にゼラチン含有下塗
層（マット剤を含有しない）を０．１〜０．５μｍで塗
布するが、第２層を塗布しない以外は実施例１と全く同
様にして厚み１２２μｍのセルローストリアセテートフ
ィルムを搬送速度６０ｃｍ／秒で１８０分間製造した。
得られたフィルムの平面性は良好であったが、乳剤層塗
布及びバック面に可塑剤付き故障が発生し、バック面に
斑点状接着模様が発生した。

【００５２】比較例２バック面の第１層ゼラチン含有下塗層中にマット剤を添
加しなかった以外は実施例１と全く同様にして、乳剤層
塗布面及びバック面に各２層ずつ塗布し、実施例１と全
く同様にして厚み１２２μｍのセルローストリアセテー
トフィルムを製造した。得られたセルローストリアセテ
ートフィルムの平面性は良好であり、乳剤層塗布、バッ
ク面に可塑剤が付く故障は発生しなかったが、バック面
に斑点状の模様が発生した。

【００５３】実施例２実施例１と同じ組成のドープを調製し、同様に図１に示
した装置により同じバンド流延機を用いて製膜したの
ち、同じ乾燥条件及び平面性改良条件を全く同じにして
厚さ１２０μｍのセルローストリアセテートフィルムを
搬送速度６０ｃｍ／秒で１８０分間製膜した。ただし、
平面性改良工程前の乳剤層塗布面及びバック面への処理
は次のようにして行った。乳剤層塗布面の第１層にゼラ
チン含有下塗層を０．１〜０．５μで塗布した。第２層
にスチレン−マレイン酸共重合体（ＰＡ−３）を１ｍ²
あたり１〜８ｍｇ塗布した。一方、バック面の第１層に
帯電防止剤（ＰＣ−１）を塗布量１ｍ² あたり０．１〜
１．０ｇ塗布し、さらにバック面第２層にマット剤とし
て平均粒径０．０１〜０．１μｍの二酸化ケイ素の微粒
子を有機溶剤にセルロースジアセテートをバインダーと
して分散し１ｍ² あたり１０〜２０ｍｇで付与した。平
面性は良好であった。バック面に可塑剤付き故障と焼き
付き故障のいずれも発生しなかった。また乳剤層塗布面
にも可塑剤付き故障は発生しなかった。

【００５４】比較例３乳剤層塗布面及びバック面に第１層をそれぞれ塗布する
が、第２層を塗布しない以外は実施例２と全く同様にし
て厚み１２０μｍのセルローストリアセテートフィルム
を搬送速度６０ｃｍ／秒で１８０分間製造した。得られ
たフィルムの平面性は良好であったが乳剤層塗布面に可
塑剤付き故障が発生し、バック面に接着故障が発生し
た。

【００５５】比較例４乳剤層塗布面の第２層のスチレン−マレイン酸共重合体
を省いた以外は実施例１と全く同様にして厚み１２０μ
ｍのセルローストリアセテートフィルムを搬送速度６０
ｃｍ／秒で１８０分間製造した。バック面の可塑剤付き
故障と接着故障は発生しなかったが乳剤層塗布面に可塑
剤付き故障が発生した。

【００５６】

【発明の効果】本発明によれば、高温乾燥、高温製膜を
行っても、透明性を損なう、フィルム表面の可塑剤の付
着、斑点の形成などを防止でき、平面性の良好な、セル
ローストリアセテートフィルムを製造することができ
る。したがって本発明によればセルローストリアセテー
トフィルムの平面性を良好に保持しつつ高温高速乾燥す
ることができるので、セルローストリアセテートフィル
ムの製造速度を著しく高めることができる。その結果、
均一な乳剤層が形成された品質の良好な写真フィルム等
を、安価に製造できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のセルローストリアセテートフィルムの
製造方法を実施する製造装置の模式図である。

【図２】本発明のセルローストリアセテートフィルムの
製造方法を実施する製造装置の遠赤外線ヒーターを用い
た平面性改良部の模式図である

【図３】従来のセルローストリアセテートフィルムの製
造方法を実施する製造装置の模式図である。

【符号の説明】

１０流延部２０第１乾燥部３０第２乾燥部４０セルローストリアセテートフィルム５０平面性改良部５１加熱室５２冷却室５３加熱ローラ５４加熱ローラ群５５冷却ローラ５６冷却ローラ群５９遠赤外線ヒーター６０下塗層塗布部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】セルローストリアセテートフィルム用ド
ープをバンド又はドラム上に流延する流延工程と、この
流延工程のバンド又はドラムから剥ぎ取ったセルロース
トリアセテートフィルムを乾燥させる乾燥工程と、この
乾燥工程で乾燥させられたセルローストリアセテートフ
ィルムの表面を平坦にする平面性改良工程とを有し、平
面性改良工程は、乾燥工程を経たセルローストリアセテ
ートフィルムを加熱ローラで加熱しつつ搬送して平坦に
するローラ加熱工程と、このローラ加熱工程にひき続い
て冷却ローラで冷却しつつ搬送してセルローストリアセ
テートフィルムを固化させるローラ冷却工程とを具備す
るセルローストリアセテートフィルムの製造方法におい
て平面性改良部の上流で該セルローストリアセテートフ
ィルム上に連続的に塗膜を塗布する際、セルローストリ
アセテートフィルムの両面の、塗設される塗膜の最上層
或いは最上層近傍にカチオン性ポリマーもしくはアニオ
ン性ポリマーを付与することを特徴とする製膜方法。
【請求項２】請求項１記載の方法において平面性改良
部のローラー加熱工程での加熱装置が遠赤外線ヒーター
であり、当該遠赤外線ヒーターから搬送フィルムを見て
当該搬送フィルムの裏側の面に上記平面性改良部の上流
で、マット剤を塗布することを特徴とする請求項１記載
のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。