JPS6130612B2 - - Google Patents
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- JPS6130612B2 JPS6130612B2 JP25031383A JP25031383A JPS6130612B2 JP S6130612 B2 JPS6130612 B2 JP S6130612B2 JP 25031383 A JP25031383 A JP 25031383A JP 25031383 A JP25031383 A JP 25031383A JP S6130612 B2 JPS6130612 B2 JP S6130612B2
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 165
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 90
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 claims description 29
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は重成分ガスと軽成分ガスの混合ガスを
重成分ガスと軽成分ガスに分離するガス分離装置
に係り、特に製・廃品ガスの濃度を制御すること
のできるようにしたガス分離装置に関する。
重成分ガスと軽成分ガスに分離するガス分離装置
に係り、特に製・廃品ガスの濃度を制御すること
のできるようにしたガス分離装置に関する。
［発明の技術的背景］
従来、ガス分離装置は第１図ａに示すごとく、
ガス分離器を複数台並列接続した分離要素段を複
数段直列に接続したガス分離カスケード１と、図
示していない原料供給系とガス分離カスケード１
の間を繋ぐフイード配管２と、図示していない製
品捕集系とガス分離カスケード１の間を繋ぐプロ
ダクト配管３と、図示していない廃品捕集系とガ
ス分離カスケード１の間を繋ぐテイル配管４と、
フイード配管２の途中に設けられたフイード調節
弁５と、プロダクト配管３の途中に設けられたプ
ロダクト調節弁６と、テイル配管４の途中に設け
られたテイル調節弁７とから構成されている。
ガス分離器を複数台並列接続した分離要素段を複
数段直列に接続したガス分離カスケード１と、図
示していない原料供給系とガス分離カスケード１
の間を繋ぐフイード配管２と、図示していない製
品捕集系とガス分離カスケード１の間を繋ぐプロ
ダクト配管３と、図示していない廃品捕集系とガ
ス分離カスケード１の間を繋ぐテイル配管４と、
フイード配管２の途中に設けられたフイード調節
弁５と、プロダクト配管３の途中に設けられたプ
ロダクト調節弁６と、テイル配管４の途中に設け
られたテイル調節弁７とから構成されている。
このガス分離装置において、被分離ガスである
軽成分ガスと重成分ガスの混合ガスが原料供給系
から供給されフイード配管２を通つてガス分離カ
スケード１へ導入される。
軽成分ガスと重成分ガスの混合ガスが原料供給系
から供給されフイード配管２を通つてガス分離カ
スケード１へ導入される。
被分離ガスは第１図ｂに示したように、ガス分
離カスケード１内の分離要素段８で順々に分離さ
れて、軽成分ガスの温度が高まつたガスは製品ガ
スとしてプロダクト配管３，３ａを通つて製品捕
集系へ捕集され、軽成分ガスの濃度の低下したガ
スは廃品ガスとしてテイル配管４を通つて廃品捕
集系へ捕集される。
離カスケード１内の分離要素段８で順々に分離さ
れて、軽成分ガスの温度が高まつたガスは製品ガ
スとしてプロダクト配管３，３ａを通つて製品捕
集系へ捕集され、軽成分ガスの濃度の低下したガ
スは廃品ガスとしてテイル配管４を通つて廃品捕
集系へ捕集される。
ガス分離装置において、製品ガスと廃品ガスの
軽成分ガスの濃度を変える場合には、フイード配
管２、プロダクト配管３、テイル配管４に設置さ
れた流量調節弁５，６，７により被分離ガス量お
よび製品ガス、廃品ガス流量を調節することで製
品ガスの軽成分ガスの濃度と廃品ガスの軽成分ガ
スの濃度を制御していた。第１図ｂはガス分離カ
スケード１内の任意の分離要素段８，８ａの配管
接続状態を示している。
軽成分ガスの濃度を変える場合には、フイード配
管２、プロダクト配管３、テイル配管４に設置さ
れた流量調節弁５，６，７により被分離ガス量お
よび製品ガス、廃品ガス流量を調節することで製
品ガスの軽成分ガスの濃度と廃品ガスの軽成分ガ
スの濃度を制御していた。第１図ｂはガス分離カ
スケード１内の任意の分離要素段８，８ａの配管
接続状態を示している。
すなわち、符号８ａで示す分離要素段はボトム
段であつて、任意の分離要素段８とボトム段８ａ
にはフイード配管２ａ、プロダクト配管３ａ、テ
イル配管４ａが接続されており、順々に分離され
たガスは製品捕集系および廃品捕集系へ捕集さ
れ、ボトム段８ａは第１図ａにおけるテイル配管
４に接続される。
段であつて、任意の分離要素段８とボトム段８ａ
にはフイード配管２ａ、プロダクト配管３ａ、テ
イル配管４ａが接続されており、順々に分離され
たガスは製品捕集系および廃品捕集系へ捕集さ
れ、ボトム段８ａは第１図ａにおけるテイル配管
４に接続される。
［背景技術の問題点］
上記装置において、ガス分離カスケード１へ供
給される被分離ガス流量をＦ、被分離ガス中の軽
成分ガスの濃度をＸF、ガス分離カスケード１で
濃縮分離された製品ガスの流量をＰ、製品ガス中
の軽成分ガスの濃度をＸP、ガス分離カスケード
減損分離された廃品ガスの流量をＴ、廃品ガス中
の軽成分ガスの濃度をＸTとすると、ガス分離カ
スケード１へ出入する軽成分ガス量のバランスに
より第(1)式が得られる。
給される被分離ガス流量をＦ、被分離ガス中の軽
成分ガスの濃度をＸF、ガス分離カスケード１で
濃縮分離された製品ガスの流量をＰ、製品ガス中
の軽成分ガスの濃度をＸP、ガス分離カスケード
減損分離された廃品ガスの流量をＴ、廃品ガス中
の軽成分ガスの濃度をＸTとすると、ガス分離カ
スケード１へ出入する軽成分ガス量のバランスに
より第(1)式が得られる。
Ｆ・ＸF＝Ｐ・ＸP＋Ｔ・ＸT …(1)
第(1)式を変形すると第(2)式と第(3)式が得られ
る。
る。
ＸP＝（Ｆ・ＸF−Ｔ・ＸT）／Ｐ …(2)
ＸT＝（Ｆ・ＸF−Ｐ・ＸP）／Ｔ …(3)
テイル調節弁７を調節して製品ガスの流量Ｐを
変える場合について考えてみると、製品ガスの流
量Ｐを増加させると第(2)式の分母が大きくなるた
め製品ガス中の軽成分ガスの濃度ＸPは小さくな
り、逆に製品ガスの流量Ｐを減少させると第(2)式
の分母が小さくなるため製品ガス中の軽成分ガス
の濃度ＸPは大きくなる。流量調節弁を調節して
廃品ガスの流量Ｔを変える場合についても同様
に、廃品ガスの流量Ｔを変化させると第(3)式に従
い廃品ガス中の軽成分ガスの濃度が変化する。
変える場合について考えてみると、製品ガスの流
量Ｐを増加させると第(2)式の分母が大きくなるた
め製品ガス中の軽成分ガスの濃度ＸPは小さくな
り、逆に製品ガスの流量Ｐを減少させると第(2)式
の分母が小さくなるため製品ガス中の軽成分ガス
の濃度ＸPは大きくなる。流量調節弁を調節して
廃品ガスの流量Ｔを変える場合についても同様
に、廃品ガスの流量Ｔを変化させると第(3)式に従
い廃品ガス中の軽成分ガスの濃度が変化する。
ところで、ガス分離カスケード１へ出入するガ
スのバランスにより第(4)式が得られるが、第(1)式
と第(4)式との関係から第(5)式が得られる。
スのバランスにより第(4)式が得られるが、第(1)式
と第(4)式との関係から第(5)式が得られる。
Ｆ＝Ｐ＋Ｔ …(4)
Ｔ／Ｐ＝（ＸP−ＸF）／（ＸF−ＸT） …(5)
例えば第(5)式のＴ／Ｐの値が10程度のガス分離
カスケードである場合、すなわち、廃品ガス流量
Ｔは製品ガス流量Ｐの10倍の値である。従つて、
廃品ガス流量と製品ガス流量を同一流量だけ変化
させた場合を比べると、第(3)式から得られる廃品
ガス中の軽成分ガスの濃度変化分は第(2)式から得
られる製品ガス中の軽成分ガスの濃度の変化分の
1/10の値である。製品ガス流量と廃品ガス流量を
余り大きく変化させるとガス分離カスケード１内
でのガス流量分布が崩れ分離損失が大きくなる。
製品ガス流量と廃品ガス流量を変更できる量には
限界があり、一般に廃品ガス中の軽成分ガスの濃
度の制御範囲は製品ガス中の軽成分ガスの濃度の
制御範囲より狭い。
カスケードである場合、すなわち、廃品ガス流量
Ｔは製品ガス流量Ｐの10倍の値である。従つて、
廃品ガス流量と製品ガス流量を同一流量だけ変化
させた場合を比べると、第(3)式から得られる廃品
ガス中の軽成分ガスの濃度変化分は第(2)式から得
られる製品ガス中の軽成分ガスの濃度の変化分の
1/10の値である。製品ガス流量と廃品ガス流量を
余り大きく変化させるとガス分離カスケード１内
でのガス流量分布が崩れ分離損失が大きくなる。
製品ガス流量と廃品ガス流量を変更できる量には
限界があり、一般に廃品ガス中の軽成分ガスの濃
度の制御範囲は製品ガス中の軽成分ガスの濃度の
制御範囲より狭い。
［発明の目的］
本発明は上記背景技術の問題点を解決するため
になされたもので、ガス分離カスケードの濃度制
御範囲を大きくとれるようにして生産のフレキシ
ビリテイを高め、もつて廃品濃度を最適値に制御
して経済的運転を行なうことができるガス分離装
置を提供することにある。
になされたもので、ガス分離カスケードの濃度制
御範囲を大きくとれるようにして生産のフレキシ
ビリテイを高め、もつて廃品濃度を最適値に制御
して経済的運転を行なうことができるガス分離装
置を提供することにある。
［発明の概要］
すなわち本発明は、複数のガス分離器を並列に
接続して形成された分離要素段を複数段に直列接
続したガス分離カスケードと、このガス分離カス
ケードへ被分離ガスを供給するフイード配管と、
該ガス分離カスケードで濃縮分離された製品ガス
を捕集するプロダクト配管と、該ガス分離カスケ
ードで減損分離された廃品ガスを捕集するテイル
配管と、このテイル配管と該ガス分離カスケード
内の任意の分離要素段を形成する３本または２本
の分離要素ヘツダ配管のいずれか１ヘツダ配管と
の間を接続するバイパス配管と、バイパス配管を
流れるガス量を調整する流量調節弁とから構成さ
れたガス分離装置である。また、上記分離装置に
おいて、複数のガス分離器を並列接続しかつ該
各々のガス分離カスケードのフイード配管へ被分
離ガスを供給する統合フイールド配管と、前記複
数のガス分離カスケードのプロダクト配管を通り
濃縮分離された製品ガスを一括捕集する統合プロ
ダクト配管と、前記複数のガス分離カスケードの
テイル配管を通つた減損分離された廃品ガスを一
括捕集する統合テイル配管と、前記複数のガス分
離カスケード内の任意の分離要素段を形成する３
本または２本の分離要素ヘツダ配管のいずれか１
ヘツダ配管から導出されるバイパス配管を集合し
て統合テイル配管に接続する統合バイパス配管
と、この統合バイパス配管に流量調節弁を設けた
ことを特徴とするガス分離装置である。
接続して形成された分離要素段を複数段に直列接
続したガス分離カスケードと、このガス分離カス
ケードへ被分離ガスを供給するフイード配管と、
該ガス分離カスケードで濃縮分離された製品ガス
を捕集するプロダクト配管と、該ガス分離カスケ
ードで減損分離された廃品ガスを捕集するテイル
配管と、このテイル配管と該ガス分離カスケード
内の任意の分離要素段を形成する３本または２本
の分離要素ヘツダ配管のいずれか１ヘツダ配管と
の間を接続するバイパス配管と、バイパス配管を
流れるガス量を調整する流量調節弁とから構成さ
れたガス分離装置である。また、上記分離装置に
おいて、複数のガス分離器を並列接続しかつ該
各々のガス分離カスケードのフイード配管へ被分
離ガスを供給する統合フイールド配管と、前記複
数のガス分離カスケードのプロダクト配管を通り
濃縮分離された製品ガスを一括捕集する統合プロ
ダクト配管と、前記複数のガス分離カスケードの
テイル配管を通つた減損分離された廃品ガスを一
括捕集する統合テイル配管と、前記複数のガス分
離カスケード内の任意の分離要素段を形成する３
本または２本の分離要素ヘツダ配管のいずれか１
ヘツダ配管から導出されるバイパス配管を集合し
て統合テイル配管に接続する統合バイパス配管
と、この統合バイパス配管に流量調節弁を設けた
ことを特徴とするガス分離装置である。
［発明の実施例］
以下第２図および第３図を参照して本発明に係
るガス分離装置の実施例を説明する。
るガス分離装置の実施例を説明する。
第２図は本発明の第１の実施例を示したもので
ある。
ある。
すなわち、第２図ａにおいて、ガス分離カスケ
ード１は第１図ａに示した分離装置と同様にフイ
ード配管２を介して図示していない原料供給系と
接続され、プロダクト配管３を介して図示してい
ない製品捕集系と接続され、テイル配管４を介し
て図示していない廃品捕集系と接続されている。
また、フイード配管２の途中にはフイード調節弁
５が設置され、プロダクト配管３の途中にはプロ
ダクト調節弁６が設置され、テイル配管４の途中
にはテイル調節弁７が設置されている。
ード１は第１図ａに示した分離装置と同様にフイ
ード配管２を介して図示していない原料供給系と
接続され、プロダクト配管３を介して図示してい
ない製品捕集系と接続され、テイル配管４を介し
て図示していない廃品捕集系と接続されている。
また、フイード配管２の途中にはフイード調節弁
５が設置され、プロダクト配管３の途中にはプロ
ダクト調節弁６が設置され、テイル配管４の途中
にはテイル調節弁７が設置されている。
ここで本発明では、特に第２図ｂで示したよう
に、ガス分離カスケード１内の任意の分離要素段
８の３本または２本の分離要素ヘツダ配管１１の
中の１本とテイル配管４の間がバイパス配管９で
接続され、バイパス配管９の途中にはバイパス調
節弁１０が設置されている。
に、ガス分離カスケード１内の任意の分離要素段
８の３本または２本の分離要素ヘツダ配管１１の
中の１本とテイル配管４の間がバイパス配管９で
接続され、バイパス配管９の途中にはバイパス調
節弁１０が設置されている。
第２図ｂはバイパス配管９付近の詳細を示した
もので、ボトム段８ａ、分離要素段８とを接続す
る分離要素ヘツダ配管１１中からバイパス配管９
の一端が接続され、バイパス配管９の他端はテイ
ル配管４に接続されている。
もので、ボトム段８ａ、分離要素段８とを接続す
る分離要素ヘツダ配管１１中からバイパス配管９
の一端が接続され、バイパス配管９の他端はテイ
ル配管４に接続されている。
次にこのガス分離装置の作用について説明す
る。
る。
原料供給系から供給される被分離ガスはフイー
ド配管２を通つてガス分離カスケード１へ導入さ
れる。被分離ガスはガス分離カスケード１内の各
分離要素段８で順々に分離されて、濃縮分離され
た製品ガスと減損分離された廃品ガスとしてガス
分離カスケード１から排出される。製品ガスはプ
ロダクト配管３を通つて製品捕集系へ捕集され、
廃品ガスはテイル配管４を通つて廃品捕集系へ捕
集される。バイパス調節弁１０を閉じているとき
にはバイパス配管９にガスが流れないので、第１
図に示した従来のガス分離装置と同じ運転状態と
なる。
ド配管２を通つてガス分離カスケード１へ導入さ
れる。被分離ガスはガス分離カスケード１内の各
分離要素段８で順々に分離されて、濃縮分離され
た製品ガスと減損分離された廃品ガスとしてガス
分離カスケード１から排出される。製品ガスはプ
ロダクト配管３を通つて製品捕集系へ捕集され、
廃品ガスはテイル配管４を通つて廃品捕集系へ捕
集される。バイパス調節弁１０を閉じているとき
にはバイパス配管９にガスが流れないので、第１
図に示した従来のガス分離装置と同じ運転状態と
なる。
すなわち、フイード調節弁５、プロダクト調節
弁６、テイル調節弁７を調節して製品ガス中の軽
成分ガスの濃度と廃品ガス中の軽成分ガスの濃度
を制御するよう運転する。
弁６、テイル調節弁７を調節して製品ガス中の軽
成分ガスの濃度と廃品ガス中の軽成分ガスの濃度
を制御するよう運転する。
本発明では廃品ガス中の軽成ガスの濃度の最適
値が前述の３つの調節弁の調節で制御可能な範囲
を越えているとき、バイパス調節弁１０を開き、
このバイパス調節弁１０を調節することでガス分
離カスケード１内の分離要素段８の分離要素ヘツ
ダ配管１１を流れる軽成分ガスの濃度の高いガス
がバイパス配管９を通つてテイル配管４に流れ込
み、廃品ガスの軽成分ガスの濃度を高めることが
できる。バイパス調節弁１０を調節しバイパス配
管９を流れるガスの流量を調整すれば、廃品ガス
の軽い成分ガスの濃度を連続的に変えことができ
る。
値が前述の３つの調節弁の調節で制御可能な範囲
を越えているとき、バイパス調節弁１０を開き、
このバイパス調節弁１０を調節することでガス分
離カスケード１内の分離要素段８の分離要素ヘツ
ダ配管１１を流れる軽成分ガスの濃度の高いガス
がバイパス配管９を通つてテイル配管４に流れ込
み、廃品ガスの軽成分ガスの濃度を高めることが
できる。バイパス調節弁１０を調節しバイパス配
管９を流れるガスの流量を調整すれば、廃品ガス
の軽い成分ガスの濃度を連続的に変えことができ
る。
例えば前述の３つの調節弁を駆使して得られる
廃品ガス中の軽成分ガスの濃度の上限をXt2と
し、ガス分離カスケード１内の分離要素段８の分
離要素ヘツダ配管１１を流れるガスの軽成分ガス
中の濃度をXbとし、バイパス配管９を流れるガ
スの流量をQbとし、バイパス配管９を流れるガ
ス流と合流する前のテイル配管４を流れるガスの
流量をQtとすると、軽成分ガスの濃度Xt2のガス
と軽成分ガスの濃度Xbのガスがテイル配管４内
で合流して得られるガスの軽成分ガスの濃度X′t2
は式(6)で与えられる。
廃品ガス中の軽成分ガスの濃度の上限をXt2と
し、ガス分離カスケード１内の分離要素段８の分
離要素ヘツダ配管１１を流れるガスの軽成分ガス
中の濃度をXbとし、バイパス配管９を流れるガ
スの流量をQbとし、バイパス配管９を流れるガ
ス流と合流する前のテイル配管４を流れるガスの
流量をQtとすると、軽成分ガスの濃度Xt2のガス
と軽成分ガスの濃度Xbのガスがテイル配管４内
で合流して得られるガスの軽成分ガスの濃度X′t2
は式(6)で与えられる。
X′t2＝（Xt2・Qt＋Xb・Qb）
／（Qt＋Qb） …(6)
Xb＞Xt2であるから、X′t2＞Xt2である。
従つて、従来の３つの調節弁で制御する装置と
比較して制御可能な廃品ガスの軽成分ガスの濃度
の上限がX′t2へ上昇する。X′t2はXbの値によつて
変るとともにバイパス配管９のガス流量Qbによ
つても変る。よつてバイパス調節弁１０を調節し
てQbを変えてやればX′t2を連続的に変えること
ができ、廃品ガス中の軽成分ガスの濃度の制御範
囲が拡大される。
比較して制御可能な廃品ガスの軽成分ガスの濃度
の上限がX′t2へ上昇する。X′t2はXbの値によつて
変るとともにバイパス配管９のガス流量Qbによ
つても変る。よつてバイパス調節弁１０を調節し
てQbを変えてやればX′t2を連続的に変えること
ができ、廃品ガス中の軽成分ガスの濃度の制御範
囲が拡大される。
第３図は本発明の第２の実施例を示す流れ線図
である。
である。
第３図の実施例では複数のガス分離カスケード
１（図では３組であるが、特に限定されるもので
はない）を並列接続とし、被分離ガスを供給する
統合フイード配管１２に各ガス分離カスケード１
のフイード配管２が接続されている。また、各ガ
ス分離カスケード１のプロダクト配管３は統合プ
ロダクト配管１３に接続され、各ガス分離カスケ
ード１のテイル配管４は統合テイル配管１４に接
続されている。
１（図では３組であるが、特に限定されるもので
はない）を並列接続とし、被分離ガスを供給する
統合フイード配管１２に各ガス分離カスケード１
のフイード配管２が接続されている。また、各ガ
ス分離カスケード１のプロダクト配管３は統合プ
ロダクト配管１３に接続され、各ガス分離カスケ
ード１のテイル配管４は統合テイル配管１４に接
続されている。
前記第１の実施例で示した各ガス分離カスケー
ド１のバイパス配管９は各ガス分離カスケード１
のテイル配管４と接続せず統合バイパス配管１５
の一端に接続され、統合バイパス配管１５の他端
は統合テイル配管１４に接続されている。さらに
統合フイード配管１２、統合プロダクト配管１
３、統合テイル配管１４、統合バイパス配管１５
の途中にそれぞれフイード調節弁５、プロダクト
調節弁６、テイル調節弁７、バイパス調整弁１０
が接続されている。単一のカスケードの場合だけ
でなく、このように複数のガス分離カスケードを
並列接続した場合にも廃品ガス中の軽成分ガスの
濃度の制御範囲が拡大される。
ド１のバイパス配管９は各ガス分離カスケード１
のテイル配管４と接続せず統合バイパス配管１５
の一端に接続され、統合バイパス配管１５の他端
は統合テイル配管１４に接続されている。さらに
統合フイード配管１２、統合プロダクト配管１
３、統合テイル配管１４、統合バイパス配管１５
の途中にそれぞれフイード調節弁５、プロダクト
調節弁６、テイル調節弁７、バイパス調整弁１０
が接続されている。単一のカスケードの場合だけ
でなく、このように複数のガス分離カスケードを
並列接続した場合にも廃品ガス中の軽成分ガスの
濃度の制御範囲が拡大される。
［発明の効果］
以上説明したように本発明は分離要素段うちボ
トム段のフイード配管とウエスト配管との間にバ
イパス調節弁を有するバイパス配管を設けたガス
分離装置である。従つて、通常のカスケード制御
では対応できる濃度範囲ではバイパス調節弁を全
閉にしておき、その制御に対応できないような高
い廃品濃度で運転する必要が生じた場合、つまり
テイル調節弁を全開にしても目標とする廃品濃度
に制御できない場合、バイパス調節弁を調節する
ことによつて種々の状況の変化による最適な製品
ガスの濃度と廃品ガスの濃度の変化に対応するこ
とができる。
トム段のフイード配管とウエスト配管との間にバ
イパス調節弁を有するバイパス配管を設けたガス
分離装置である。従つて、通常のカスケード制御
では対応できる濃度範囲ではバイパス調節弁を全
閉にしておき、その制御に対応できないような高
い廃品濃度で運転する必要が生じた場合、つまり
テイル調節弁を全開にしても目標とする廃品濃度
に制御できない場合、バイパス調節弁を調節する
ことによつて種々の状況の変化による最適な製品
ガスの濃度と廃品ガスの濃度の変化に対応するこ
とができる。
よつて、廃品ガスの軽成分ガスの濃度の制御可
能範囲が拡大し、常に適切な状態でガス分離装置
を運転することができる。
能範囲が拡大し、常に適切な状態でガス分離装置
を運転することができる。
第１図ａは従来のガス分離装置を示す流れ線
図、第１図ｂは第１図ａの分離要素段の流れ線
図、第２図ａは本発明の第１の実施例を示す流れ
線図、第２図ｂは第２図ａの分離要素段の流れ線
図、第３図は本発明の第２の実施例を示す流れ線
図である。 １……ガス分離カスケード、２……フイード配
管、３……プロダクト配管、４……テイル配管、
５……フイード調節弁、６……プロダクト調節
弁、７……テイル調節弁、８……分離要素段、９
……バイパス配管、１０……バイパス調節弁、１
１……分離要素ヘツダ配管、１２……統合フイー
ド配管、１３……統合プロダクト配管、１４……
統合テイル配管、１５……統合バイパス配管。
図、第１図ｂは第１図ａの分離要素段の流れ線
図、第２図ａは本発明の第１の実施例を示す流れ
線図、第２図ｂは第２図ａの分離要素段の流れ線
図、第３図は本発明の第２の実施例を示す流れ線
図である。 １……ガス分離カスケード、２……フイード配
管、３……プロダクト配管、４……テイル配管、
５……フイード調節弁、６……プロダクト調節
弁、７……テイル調節弁、８……分離要素段、９
……バイパス配管、１０……バイパス調節弁、１
１……分離要素ヘツダ配管、１２……統合フイー
ド配管、１３……統合プロダクト配管、１４……
統合テイル配管、１５……統合バイパス配管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 複数のガス分離器を並列に接続して形成され
る分離要素段を複数段に直列接続したガス分離カ
スケードと、このガス分離カスケードへ被分離ガ
スを供給するフイード配管と、該ガス分離カスケ
ードで濃縮分離された製品ガスを捕集するプロダ
クト配管と、該ガス分離カスケードで減損分離さ
れた廃品ガスを捕集するテイル配管と、このテイ
ル配管と該ガス分離カスケード内の任意の分離要
素段を形成する３本または２本の分離要素ヘツダ
配管のいずれか１ヘツダ配管との間を接続するバ
イパス配管と、バイパス配管を流れるガス量を調
整する流量調節弁とを具備したことを特徴とする
ガス分離装置。 ２ 複数のガス分離器を並列接続して形成される
分離要素段を直列接続した複数のガス分離カスケ
ードと、この複数のガス分離カスケードを並列接
続し、かつガス分離カスケードのフイード配管へ
被分離ガスを供給する統合フイールド配管と、前
記複数のガス分離カスケードのプロダクト配管を
通り濃縮分離された製品ガスを一括捕集する統合
プロダクト配管と、前記複数のガス分離カスケー
ドのテイル配管を通つた減損分離された廃品ガス
を一括捕集する統合テイル配管と、前記複数のガ
ス分離カスケード内の任意の分離要素段を形成す
る３本または２本の分離要素ヘツダ配管のいずれ
か１ヘツダ配管より導出されるバイパス配管を集
合して統合テイル配管に接続する統合バイパス配
管と、この統合バイパス配管に設けられた流量調
節弁とを具備したことを特徴とするガス分離装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25031383A JPS60137423A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | ガス分離装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25031383A JPS60137423A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | ガス分離装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60137423A JPS60137423A (ja) | 1985-07-22 |
| JPS6130612B2 true JPS6130612B2 (ja) | 1986-07-15 |
Family
ID=17206047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25031383A Granted JPS60137423A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | ガス分離装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60137423A (ja) |
-
1983
- 1983-12-26 JP JP25031383A patent/JPS60137423A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60137423A (ja) | 1985-07-22 |
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