JPS613098A - 荷電ビ−ム装置 - Google Patents
荷電ビ−ム装置Info
- Publication number
- JPS613098A JPS613098A JP12386584A JP12386584A JPS613098A JP S613098 A JPS613098 A JP S613098A JP 12386584 A JP12386584 A JP 12386584A JP 12386584 A JP12386584 A JP 12386584A JP S613098 A JPS613098 A JP S613098A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- charged beam
- charged
- auxiliary
- power source
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、電子線やイオン等の荷電粒子線（以降、荷電
ビームと称する。）を静電レンズまたは磁界レンズを用
いて細く集束することが出来る荷電ビーム装置に関し、
特に複数の荷電ビーム軸（荷電ビームの中心軸）を備え
た荷電ビーム装置に関するものである。
ビームと称する。）を静電レンズまたは磁界レンズを用
いて細く集束することが出来る荷電ビーム装置に関し、
特に複数の荷電ビーム軸（荷電ビームの中心軸）を備え
た荷電ビーム装置に関するものである。
従来、荷電ビームを静電レンズまたは磁界レンズを用い
て細く集束することの出来る荷電ビーム装置においては
、１つの荷電ビーム軸を備えたものが使われてきた。ま
た、複数の荷電ビーム軸を備えた形式の装置も最近報告
されているが（例えば、Ｊ、Ｖａｃ、Ｓｃｉ、Ｔｅｃｈ
ｎａｌ、ＩＱ４）、１９８１．Ｐ、９６８；Ｔ、５ａｓ
ａｋｉ） 、ここでは、レンズ強度を独立に変えること
ができないため、それぞれのレンズ特性のバラツキの調
整や、高さの異なる試料面（例えば、ウェハ）上へのビ
ームの集束が不可能であった。特に、サブミクロン領域
の微細パターンの転写を行なう半導体露光装置に応用し
た場合には、この欠点は顕著である。
て細く集束することの出来る荷電ビーム装置においては
、１つの荷電ビーム軸を備えたものが使われてきた。ま
た、複数の荷電ビーム軸を備えた形式の装置も最近報告
されているが（例えば、Ｊ、Ｖａｃ、Ｓｃｉ、Ｔｅｃｈ
ｎａｌ、ＩＱ４）、１９８１．Ｐ、９６８；Ｔ、５ａｓ
ａｋｉ） 、ここでは、レンズ強度を独立に変えること
ができないため、それぞれのレンズ特性のバラツキの調
整や、高さの異なる試料面（例えば、ウェハ）上へのビ
ームの集束が不可能であった。特に、サブミクロン領域
の微細パターンの転写を行なう半導体露光装置に応用し
た場合には、この欠点は顕著である。
本発明の目的は、上述の欠点を除去し、複数の荷電ビー
ム軸の各々の軸上に設けられたレンズの強度を独立に調
整可能な荷電ビーム装置を提供することにある。
ム軸の各々の軸上に設けられたレンズの強度を独立に調
整可能な荷電ビーム装置を提供することにある。
本発明は、上述の目的を達成するためＫ、段差を有する
照射面に対して複数の荷電ビームのそれぞれが適正に焦
点を結ぶように、レンズの強度をそれぞれの荷電ビーム
に対して独立に調整し得る補正手段を設けている。
照射面に対して複数の荷電ビームのそれぞれが適正に焦
点を結ぶように、レンズの強度をそれぞれの荷電ビーム
に対して独立に調整し得る補正手段を設けている。
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図および第２図は本発明の一実施例を示す図で、そ
れぞれ静電レンズ系、磁界レンズ系の場合を示す。第１
図（第２図）において、１は複数の電子銃またはイオン
銃、２Ａ（２Ｂ）は荷電ビーム、８Ａ（３Ｂ）および４
Ａ（４Ｂ）は荷電ビームＨＡ（２Ｂ）を集束させるため
のレンズ系で、それぞれコンデンサレンズおよび対物レ
ンズ、５Ａ（５Ｂ）は荷電ビーム２Ａ（２Ｂ）を偏向さ
せるための偏向器、６は段差のある試料である。また、
７ Ａ （’７ Ｂ ）および８Ａ（８Ｂ）は、それぞ
れ対物レンズ４Ａ（４Ｂ）における主レンズ用の電極（
コイル）および補助レンズ用の電極（コイル）を示す。
れぞれ静電レンズ系、磁界レンズ系の場合を示す。第１
図（第２図）において、１は複数の電子銃またはイオン
銃、２Ａ（２Ｂ）は荷電ビーム、８Ａ（３Ｂ）および４
Ａ（４Ｂ）は荷電ビームＨＡ（２Ｂ）を集束させるため
のレンズ系で、それぞれコンデンサレンズおよび対物レ
ンズ、５Ａ（５Ｂ）は荷電ビーム２Ａ（２Ｂ）を偏向さ
せるための偏向器、６は段差のある試料である。また、
７ Ａ （’７ Ｂ ）および８Ａ（８Ｂ）は、それぞ
れ対物レンズ４Ａ（４Ｂ）における主レンズ用の電極（
コイル）および補助レンズ用の電極（コイル）を示す。
さらに、９Ａ（９Ｂ）、１０Ａ（１０Ｂ）およびＩＩＡ
（１１Ｂ）は、それぞれ対物レンズ用の主レンズ電源、
補助レンズ電源およびコンデンサレンズ用の電源であり
、第１図の場合には電圧を、第２図の場合には電流を、
それぞれの電極（コイル）に与えている。
（１１Ｂ）は、それぞれ対物レンズ用の主レンズ電源、
補助レンズ電源およびコンデンサレンズ用の電源であり
、第１図の場合には電圧を、第２図の場合には電流を、
それぞれの電極（コイル）に与えている。
次に、作用を説明する。
電子銃またはイオン銃１から放出された荷電ビーム２Ａ
（２Ｂ）は、コンデンサレンズ８Ａ（８Ｂ）と対物レン
ズ４Ａ（４Ｂ）によって細く集束され、段差のある試料
６面上に照射される。この時、複数の荷電ビーム２Ａ（
２Ｂ）は試料６面上で同時に集束条件を満さねばならな
いが、実際上はコンデンサレンズ３Ａ（３Ｂ）や対物レ
ンズ４Ａ（４Ｂ）の個々の特性の違いや、試料６面上の
段差のために、コンデンサレンズや対物レンズの強さは
、それぞれの荷電ビーム軸で異った値に設定することが
必要となってくる。本実施例では、対物レンズ４Ａ（４
Ｂ）内に設けられた補助レンズ８Ａ （８Ｂ ’＞が各
荷電ビーム軸ごとに分離されていて、レンズ強度の補正
が各軸ごとに調整できるような構造になっている。第１
図（第２図）は、荷電ビーム２Ａ（２Ｂ）が補助レンズ
８ Ａ （８Ｂ）により補正された後、段差のある試料
６０表面上に集束した状態を示している。
（２Ｂ）は、コンデンサレンズ８Ａ（８Ｂ）と対物レン
ズ４Ａ（４Ｂ）によって細く集束され、段差のある試料
６面上に照射される。この時、複数の荷電ビーム２Ａ（
２Ｂ）は試料６面上で同時に集束条件を満さねばならな
いが、実際上はコンデンサレンズ３Ａ（３Ｂ）や対物レ
ンズ４Ａ（４Ｂ）の個々の特性の違いや、試料６面上の
段差のために、コンデンサレンズや対物レンズの強さは
、それぞれの荷電ビーム軸で異った値に設定することが
必要となってくる。本実施例では、対物レンズ４Ａ（４
Ｂ）内に設けられた補助レンズ８Ａ （８Ｂ ’＞が各
荷電ビーム軸ごとに分離されていて、レンズ強度の補正
が各軸ごとに調整できるような構造になっている。第１
図（第２図）は、荷電ビーム２Ａ（２Ｂ）が補助レンズ
８ Ａ （８Ｂ）により補正された後、段差のある試料
６０表面上に集束した状態を示している。
静電レンズ系（第１図）の対物レンズ４Ａ用の電源は、
主レンズ電源９Ａの高電圧電源に加算される形で補助レ
ンズ電源１０Ａが構成されている。
主レンズ電源９Ａの高電圧電源に加算される形で補助レ
ンズ電源１０Ａが構成されている。
えることによって実現する。
一方、磁界レンズ系（第２図）の対物レンズ４Ｂ用の電
源は、主レンズ電源９Ｂの大電流電源に加算される形で
補助レンズ電源１０Ｂが構成されている。すなわち、主
レンズ用のコイル７Ｂには一定の電流を流し、補助レン
ズ用のコイル８Ｂには各荷電ビーム軸ごとにレンズ強度
の調節ができるように補助レンズ電１１０Ｂによって異
った電流が流せるようになっている。
源は、主レンズ電源９Ｂの大電流電源に加算される形で
補助レンズ電源１０Ｂが構成されている。すなわち、主
レンズ用のコイル７Ｂには一定の電流を流し、補助レン
ズ用のコイル８Ｂには各荷電ビーム軸ごとにレンズ強度
の調節ができるように補助レンズ電１１０Ｂによって異
った電流が流せるようになっている。
なお、本実施例では対物レンズ内に補助レンズを設けた
が、コンデンサレンズ内に補助レンズを設けることも可
能であり、さらに、対物レンズやコンデンサレンズと独
立した別構成の補助レンズを設けても良いことはもちろ
んである。
が、コンデンサレンズ内に補助レンズを設けることも可
能であり、さらに、対物レンズやコンデンサレンズと独
立した別構成の補助レンズを設けても良いことはもちろ
んである。
本発明は以上説明したように、個々のレンズ特性が異な
る場合でも補助レンズを用いて調節することにより各レ
ンズ特性を一様にできるので、断差のある照射面上に適
正に焦点を結ぶことができる。また、レンズ電源は主電
源に補助電源を加算する形で構成されているため小型化
が可能となる。
る場合でも補助レンズを用いて調節することにより各レ
ンズ特性を一様にできるので、断差のある照射面上に適
正に焦点を結ぶことができる。また、レンズ電源は主電
源に補助電源を加算する形で構成されているため小型化
が可能となる。
第１図および第２図は本発明の一実施例を示す構成図で
、それぞれ静電レンズ系、磁界レンズ系の場合を示す。 ２Ａ、２Ｂ・・・・・荷電ビーム。 ６・・・・ ・・・（段差のある）試料。 ８Ａ・・・・・・・・補助レンズ（用の電極）。 ８Ｂ・・・−・・・・・補助レンズ（用のコイル）。 １０Ａ、１０Ｂ・・・補助レンズ電源。
、それぞれ静電レンズ系、磁界レンズ系の場合を示す。 ２Ａ、２Ｂ・・・・・荷電ビーム。 ６・・・・ ・・・（段差のある）試料。 ８Ａ・・・・・・・・補助レンズ（用の電極）。 ８Ｂ・・・−・・・・・補助レンズ（用のコイル）。 １０Ａ、１０Ｂ・・・補助レンズ電源。
Claims (1)
- 複数の荷電ビームをレンズで集束せしめる荷電ビーム装
置において、前記複数の荷電ビームのそれぞれに対して
前記レンズの強度を独立に調整する補正手段を備えたこ
とを特徴とする荷電ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12386584A JPS613098A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | 荷電ビ−ム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12386584A JPS613098A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | 荷電ビ−ム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS613098A true JPS613098A (ja) | 1986-01-09 |
Family
ID=14871295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12386584A Pending JPS613098A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | 荷電ビ−ム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS613098A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01150150A (ja) * | 1987-12-08 | 1989-06-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
| US6231873B1 (en) | 1986-01-10 | 2001-05-15 | Shiseido Company, Ltd | Cosmetic containing fine soft microcapsules |
| WO2002047135A1 (en) * | 2000-12-06 | 2002-06-13 | Advantest Corporation | Electron beam exposure system and electron lens |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423476A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-22 | Akashi Seisakusho Kk | Composite electron lens |
-
1984
- 1984-06-18 JP JP12386584A patent/JPS613098A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423476A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-22 | Akashi Seisakusho Kk | Composite electron lens |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6231873B1 (en) | 1986-01-10 | 2001-05-15 | Shiseido Company, Ltd | Cosmetic containing fine soft microcapsules |
| JPH01150150A (ja) * | 1987-12-08 | 1989-06-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子写真感光体 |
| WO2002047135A1 (en) * | 2000-12-06 | 2002-06-13 | Advantest Corporation | Electron beam exposure system and electron lens |
| US6777694B2 (en) | 2000-12-06 | 2004-08-17 | Advantest Corporation | Electron beam exposure system and electron lens |
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