JPS6139953A - 光デイスクの製造方法 - Google Patents
光デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS6139953A JPS6139953A JP16177584A JP16177584A JPS6139953A JP S6139953 A JPS6139953 A JP S6139953A JP 16177584 A JP16177584 A JP 16177584A JP 16177584 A JP16177584 A JP 16177584A JP S6139953 A JPS6139953 A JP S6139953A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- freon
- substrates
- tank
- cleaning process
- contg
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオディスク・ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスフッ、静止画・文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録、再生、または消去可能
な光ディスクの製造方法に関するものである。
ク（例えばコンパクトディスフッ、静止画・文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録、再生、または消去可能
な光ディスクの製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
この種の光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこ
とや、Ｓ／Ｎが大きく、ノイズが小さいことなどで情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号記
録、再生ディスクとして近年研究開発が行われている。
とや、Ｓ／Ｎが大きく、ノイズが小さいことなどで情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号記
録、再生ディスクとして近年研究開発が行われている。
第１図に一般的なディジタルオーディオディスクである
コンパクトディスクの概要を示す。これはＰＣＭ変換さ
れたディジタル信号が樹脂基板にピット列状に記録され
、半導体レーザにより再生されるものである。第１図に
おいて１はディスク全体、２は樹脂基板、３は樹脂基板
の表面に刻まれたピット列状のディジタル信号、４はそ
の表面に形成された反射膜、５は反射膜上にコーティン
グされた保護膜、６はディスク読取面からの再生用の半
導体レーザである。
コンパクトディスクの概要を示す。これはＰＣＭ変換さ
れたディジタル信号が樹脂基板にピット列状に記録され
、半導体レーザにより再生されるものである。第１図に
おいて１はディスク全体、２は樹脂基板、３は樹脂基板
の表面に刻まれたピット列状のディジタル信号、４はそ
の表面に形成された反射膜、５は反射膜上にコーティン
グされた保護膜、６はディスク読取面からの再生用の半
導体レーザである。
ここで２反射膜４はディジタル信号３奪半導体レーザ６
により再生する場合に照射光を反射させるために必要々
ものである。
により再生する場合に照射光を反射させるために必要々
ものである。
記録、再生可能な光ディスクの場合は、記録膜としては
ＴｅＯｘで表現される材料（Ｔｏはテルル。
ＴｅＯｘで表現される材料（Ｔｏはテルル。
０は酸素であってテルル（Ｔ’ｅ）とその酸化物を形成
すべく結合されるもの、Ｉはテルル（Ｔｏ ）と酸素（
０）の総原子数の比であってＯ＜ ｘ ＜ ２である〕
が設けられる。
すべく結合されるもの、Ｉはテルル（Ｔｏ ）と酸素（
０）の総原子数の比であってＯ＜ ｘ ＜ ２である〕
が設けられる。
一般に、射出成形または射出、圧縮成形によシ樹脂基板
が作製されたのち、記録膜または反射膜を形成して光デ
ィスクが作製される。成形時に、成形機やディスク取出
機よシ油ミストなどが発生し樹脂基板に付着したり、樹
脂基板の中心孔をポンチを用いた打ち抜き法で設ける場
合に、切り粉が樹脂基板に付着する。また、成形後にホ
コリやゴミなどのコンタミネーションが樹脂基板に付着
する。この様な場合に記録膜や反射膜を形成すれば、ピ
ンホールなどの欠陥が発生し、光ディスクとしての信頼
性に欠けるなどの問題点を有していた。
が作製されたのち、記録膜または反射膜を形成して光デ
ィスクが作製される。成形時に、成形機やディスク取出
機よシ油ミストなどが発生し樹脂基板に付着したり、樹
脂基板の中心孔をポンチを用いた打ち抜き法で設ける場
合に、切り粉が樹脂基板に付着する。また、成形後にホ
コリやゴミなどのコンタミネーションが樹脂基板に付着
する。この様な場合に記録膜や反射膜を形成すれば、ピ
ンホールなどの欠陥が発生し、光ディスクとしての信頼
性に欠けるなどの問題点を有していた。
発明の目的
本発明はこれらの問題点を解消するものであり、ピンホ
ールなどの欠陥の無い、安定した信頼性の高い記録膜や
反射膜を形成することのできる光ディスクの製造方法を
提供するものである。
ールなどの欠陥の無い、安定した信頼性の高い記録膜や
反射膜を形成することのできる光ディスクの製造方法を
提供するものである。
発明の構成
本発明は、樹脂基板を成形後に、フレオンと水と界面活
性剤とのエマルジョンの超音波洗浄工程と、フレオンの
超音波洗浄工程と、フレオンの加熱浸漬工程と、フレオ
ンの蒸気洗浄工程との４つの工程を有する洗浄工程と、
イオン発生と清浄空気ブローによるイオン洗浄工程とを
組合わせた洗浄処理を施こすことにより、記録膜または
反射膜を形成するものである。゛ 実施例の説明 第２図に本発明の光ディスクの製造方法の一実施例を示
す。第２図は原理を説明するだめの模式断面図である。
性剤とのエマルジョンの超音波洗浄工程と、フレオンの
超音波洗浄工程と、フレオンの加熱浸漬工程と、フレオ
ンの蒸気洗浄工程との４つの工程を有する洗浄工程と、
イオン発生と清浄空気ブローによるイオン洗浄工程とを
組合わせた洗浄処理を施こすことにより、記録膜または
反射膜を形成するものである。゛ 実施例の説明 第２図に本発明の光ディスクの製造方法の一実施例を示
す。第２図は原理を説明するだめの模式断面図である。
７は洗浄装置全体を示し、８はフレオンに水と界面活性
剤とを加えたエマルジョン槽、９はこの槽の超音波発生
装置、１ｏはフレオンの槽、１１はこの槽の超音波発生
装置、１２はフレオンの槽、１３はこの槽の加熱装置、
１４はフレオンの蒸気洗浄槽、１５はこの槽の蒸発用加
熱装置である。
剤とを加えたエマルジョン槽、９はこの槽の超音波発生
装置、１ｏはフレオンの槽、１１はこの槽の超音波発生
装置、１２はフレオンの槽、１３はこの槽の加熱装置、
１４はフレオンの蒸気洗浄槽、１５はこの槽の蒸発用加
熱装置である。
また、１６はイオンを発生させる装置であり、１７は清
浄空気をブローする装置である。
浄空気をブローする装置である。
樹脂基板２が、２０枚程度並べられた樹脂基板収納容器
１８に入れられている。この樹脂基板収納容器が、順次
フレオンと水と界面活性剤とのエマルジョン超音波洗浄
槽８と、フレオンの超音波洗浄槽１０と、フレオンの加
熱浸漬槽１２と、フレオンの蒸気洗浄槽１４と、イオン
洗浄工程とを通過したのちに記録膜または反射膜が形成
される。
１８に入れられている。この樹脂基板収納容器が、順次
フレオンと水と界面活性剤とのエマルジョン超音波洗浄
槽８と、フレオンの超音波洗浄槽１０と、フレオンの加
熱浸漬槽１２と、フレオンの蒸気洗浄槽１４と、イオン
洗浄工程とを通過したのちに記録膜または反射膜が形成
される。
第３図は本発明の他の実施例であ沙、この場合も原理で
説明するために模式断面図にて示す。
説明するために模式断面図にて示す。
樹脂基板２が、２０枚程度並べられた樹脂基板収納容器
１８に入れられている。これが順次、フレオンと水と界
面活性剤とのエマルジョン超音波洗浄槽８と、フレオン
の超音波洗浄槽１ｏと、フレオンの加熱浸漬槽１２と、
フレオンの蒸気洗浄槽１４との４つの工程と、イオン発
生した清浄空気発生装置２０によるイオン洗浄工程とを
通過したのち、記録膜または反射膜が形成される。
１８に入れられている。これが順次、フレオンと水と界
面活性剤とのエマルジョン超音波洗浄槽８と、フレオン
の超音波洗浄槽１ｏと、フレオンの加熱浸漬槽１２と、
フレオンの蒸気洗浄槽１４との４つの工程と、イオン発
生した清浄空気発生装置２０によるイオン洗浄工程とを
通過したのち、記録膜または反射膜が形成される。
ン、レオンとしては、化学式ＣＣＩ Ｆ−ＣＣｌＦ２で
表わされるトリクロル・トリフルオルエタンで帝シ、界
面活性剤は１〜５ｗｔ％、水は１〜１０ｗｔ％。
表わされるトリクロル・トリフルオルエタンで帝シ、界
面活性剤は１〜５ｗｔ％、水は１〜１０ｗｔ％。
残すがフレオンよシ構成されるエマルジョンカ最も洗浄
の効果があった。イオン洗浄装置は、樹脂基板を、記録
膜または反射膜形成する前に保留するため特に重要であ
り、これにより洗浄の相乗効果が得られた。
の効果があった。イオン洗浄装置は、樹脂基板を、記録
膜または反射膜形成する前に保留するため特に重要であ
り、これにより洗浄の相乗効果が得られた。
発明の効果
以上のように本発明によれば、樹脂基板を成形後に、７
レオンと水と界面活性剤とのエマルジョンの超音波洗浄
工程と、フレオンの超音波工程と、フレオンの加熱浸漬
工程と、フレオンの蒸気洗浄工程との４つの工程を有す
る湿式洗浄工程と、イオン発生と清浄空気ブローによる
イオン洗浄工程とを組合わせて、樹脂基板を洗浄したの
ち記録膜または反射膜を形成すれば、樹脂基板に付着し
たコンタミネーションを完全に除去することができ、ピ
ンホールなどの欠陥の無い、信頼性の高い、安定した膜
を作製することができる。また、本発明の洗浄処理は自
動化を図ることができるだめ、大量に安価に良質の光デ
ィスクを作製することができるという効果がある。
レオンと水と界面活性剤とのエマルジョンの超音波洗浄
工程と、フレオンの超音波工程と、フレオンの加熱浸漬
工程と、フレオンの蒸気洗浄工程との４つの工程を有す
る湿式洗浄工程と、イオン発生と清浄空気ブローによる
イオン洗浄工程とを組合わせて、樹脂基板を洗浄したの
ち記録膜または反射膜を形成すれば、樹脂基板に付着し
たコンタミネーションを完全に除去することができ、ピ
ンホールなどの欠陥の無い、信頼性の高い、安定した膜
を作製することができる。また、本発明の洗浄処理は自
動化を図ることができるだめ、大量に安価に良質の光デ
ィスクを作製することができるという効果がある。
第１図ａ、ｂ、ｃは光ディスクの一種ディジタルオーデ
ィオディスクの平面図、断面図および要部拡大図、第２
図は本発明の光ディスクの製造方法の一実施例を示す模
式断面図、第３図は本発明の他の実施例を示す模式断面
図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、３
・・・・・ディジタル信号、４・・・・・・反射膜、５
・・・・・・保護膜、６・・・オン超音波洗浄槽、１２
・・・・・・フレオン加熱浸漬槽、１４・・・・・・フ
レオン蒸気洗浄槽、９，１１・・・・・・超音波発生装
置、１３，１５・・・・・・加熱装置、１６・・・・・
・イオン発生装置、１７・・・・・・清浄空気ブロー装
置、２ｏ・・・・・・イオン化清浄空気ブロー装置、７
，１９・・・・・・洗浄装置。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第３図 ２０
ィオディスクの平面図、断面図および要部拡大図、第２
図は本発明の光ディスクの製造方法の一実施例を示す模
式断面図、第３図は本発明の他の実施例を示す模式断面
図である。 １・・・・・・ディスク、２・・・・・・樹脂基板、３
・・・・・ディジタル信号、４・・・・・・反射膜、５
・・・・・・保護膜、６・・・オン超音波洗浄槽、１２
・・・・・・フレオン加熱浸漬槽、１４・・・・・・フ
レオン蒸気洗浄槽、９，１１・・・・・・超音波発生装
置、１３，１５・・・・・・加熱装置、１６・・・・・
・イオン発生装置、１７・・・・・・清浄空気ブロー装
置、２ｏ・・・・・・イオン化清浄空気ブロー装置、７
，１９・・・・・・洗浄装置。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第３図 ２０
Claims (2)
- （１）樹脂基板を成形後に、フレオンと水と界面活性剤
とを加えたエマルジョンの超音波洗浄工程と、フレオン
の超音波洗浄工程と、フレオンの加熱浸漬工程と、フレ
オンの蒸気洗浄工程との４つの工程を有する洗浄工程と
、イオン発生と清浄空気ブローによるイオン洗浄工程と
を組合わせた洗浄処理を施こして、記録膜または反射膜
を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。 - （２）フレオンは、化学式ＣＣｌ＿２Ｆ−ＣＣｌＦ＿２
で表わされるトリクロル・トリフルオルエタンであり、
界面活性剤は１〜５ｗｔ％、水は１〜１０ｗｔ％、残り
がフレオンで構成されるエマルジョンであることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の光ディスクの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16177584A JPS6139953A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 光デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16177584A JPS6139953A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 光デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139953A true JPS6139953A (ja) | 1986-02-26 |
Family
ID=15741666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16177584A Pending JPS6139953A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 光デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6139953A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63167445A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Pioneer Electronic Corp | デイスク製造方法 |
| JPS63167447A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Pioneer Electronic Corp | デイスク製造方法 |
| WO2020112028A1 (en) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | Nanowall Technology Pte Ltd | A workpiece, a workpiece processing method and a workpiece processing system thereof |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP16177584A patent/JPS6139953A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63167445A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Pioneer Electronic Corp | デイスク製造方法 |
| JPS63167447A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-11 | Pioneer Electronic Corp | デイスク製造方法 |
| WO2020112028A1 (en) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | Nanowall Technology Pte Ltd | A workpiece, a workpiece processing method and a workpiece processing system thereof |
| CN113168852A (zh) * | 2018-11-30 | 2021-07-23 | 纳沃科技私人有限公司 | 一种工件、工件加工方法及工件加工系统 |
| US20230295383A1 (en) * | 2018-11-30 | 2023-09-21 | Nanowall Technology Pte Ltd | A workpiece, a workpiece processing method and a workpiece processing system thereof |
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