JPS6174152A - 光デイスクの製造装置およびその製造方法 - Google Patents
光デイスクの製造装置およびその製造方法Info
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- JPS6174152A JPS6174152A JP59197169A JP19716984A JPS6174152A JP S6174152 A JPS6174152 A JP S6174152A JP 59197169 A JP59197169 A JP 59197169A JP 19716984 A JP19716984 A JP 19716984A JP S6174152 A JPS6174152 A JP S6174152A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tray
- film
- reflective film
- substrate
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオディスク、ディジタルオーディオディス
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画１文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。
ク（例えばコンパクトディスク）、静止画１文書ファイ
ルなどのディジタル信号を記録。
再生または消去可能な光ディスクの製造装置およびその
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来より、ディジタル信号の記録、再生または消去を行
うことができる光ディスクは、その情報密度が極めて大
きいことや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことな
どで情報媒体として有望視され、ビデオディスクやディ
ジタルオーディオディスクとして商品化され、ディジタ
ル信号記録。
うことができる光ディスクは、その情報密度が極めて大
きいことや、Ｓ／Ｎ比が大きく、ノイズが少ないことな
どで情報媒体として有望視され、ビデオディスクやディ
ジタルオーディオディスクとして商品化され、ディジタ
ル信号記録。
再生ディスクとして近年研究開発が行われている。
第１図に従来の一般的なディジタルオーディオディスク
であるコンパクトディスクの概要を示す。
であるコンパクトディスクの概要を示す。
これはＰＣＭ変換されたディジタル信号が樹脂基板にビ
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。第１図において、１はディスク、２は樹脂基
板、３は樹脂基板２に刻まれたビット列状のディジタル
信号部、４はその表面に形成された反射膜、５は反射膜
４にコーティングされた保護膜、６はディスク読取面か
ら照射する再生用の半導体レーザ光である。
ット列状に記録され、半導体レーザにより再生されるも
のである。第１図において、１はディスク、２は樹脂基
板、３は樹脂基板２に刻まれたビット列状のディジタル
信号部、４はその表面に形成された反射膜、５は反射膜
４にコーティングされた保護膜、６はディスク読取面か
ら照射する再生用の半導体レーザ光である。
ここで、反射膜４はディジタル信号部３を半導体レーザ
光６により再生する場合に照射光を反射させるために必
要なものである。
光６により再生する場合に照射光を反射させるために必
要なものである。
記録、再生可能な光ディスクの場合は、記録膜としては
ＴｅＯｘで表現される材料［Ｔｏはテルル。
ＴｅＯｘで表現される材料［Ｔｏはテルル。
Ｏは酸素であって、テルル（Ｔｅ）とその酸化物を形成
すべく結合されるもの、Ｘはテルル（Ｔｏ）と酸素（０
）の総原子数の比であってＯ＜ ｘ ＜ ２である。〕
が設けられる。
すべく結合されるもの、Ｘはテルル（Ｔｏ）と酸素（０
）の総原子数の比であってＯ＜ ｘ ＜ ２である。〕
が設けられる。
第２図に真空蒸着法を用いた従来の反射膜または記録膜
を形成する光ディスクの製造装置を示す。
を形成する光ディスクの製造装置を示す。
真空容器７の中に樹脂基板２を第２図（ｂ）のようにト
レイ８に設置し、電子ビームガン９により、被蒸着物１
ｏを加熱することにより、八２などの金属を樹脂基板２
の表面に蒸着した反射膜４を形成する。
レイ８に設置し、電子ビームガン９により、被蒸着物１
ｏを加熱することにより、八２などの金属を樹脂基板２
の表面に蒸着した反射膜４を形成する。
この場合、トレイ８にもＡ１反射膜が蒸着されるため、
同じトレイを使用すれば、Ａｊ２反射膜が積層して、真
空容器７内が汚れ易くなり、そのために不純物やコンタ
ミネーションの発生となり、Ａ１反射膜を汚すことや、
剥離した場合には被蒸着物１ｏに混入し化学領域が変化
する。また、トレイ８を洗浄する場合は装置よシ取りは
ずし手間がかかるなど、膜質の信頼性がないことや、量
産に適さないなどの問題点を有していた。
同じトレイを使用すれば、Ａｊ２反射膜が積層して、真
空容器７内が汚れ易くなり、そのために不純物やコンタ
ミネーションの発生となり、Ａ１反射膜を汚すことや、
剥離した場合には被蒸着物１ｏに混入し化学領域が変化
する。また、トレイ８を洗浄する場合は装置よシ取りは
ずし手間がかかるなど、膜質の信頼性がないことや、量
産に適さないなどの問題点を有していた。
発明の目的
本発明は上記従来の問題点を解消するもので、不純物の
少ないコンタミネーションや欠陥の無い信頼性の高い反
射膜や記録膜を形成することのできる光ディスクの製造
装置およびその製造方法を提供するものである。
少ないコンタミネーションや欠陥の無い信頼性の高い反
射膜や記録膜を形成することのできる光ディスクの製造
装置およびその製造方法を提供するものである。
発明の構成
本発明は、基板上に反射膜または記録膜を形成する膜形
成装置と、上記基板を設置するトレイと、上記トレイを
洗浄する洗浄装置と、上記膜形成装置と上記洗浄装置と
に上記トレイを搬送する搬送装置とを設けた構成であり
、これにより上記トレイに設置された基板上に反射膜ま
たは記録膜を形成したのち、上記トレイに付着した不要
の反射膜または記録膜を除去する洗浄装置にて除去した
のちふたたび基板上に反射膜または記録膜を設けるとい
う連続した閉ループ搬送系を有しており、これにより高
信頼性の光ディスクの反射膜または記録膜を形成するも
のである。
成装置と、上記基板を設置するトレイと、上記トレイを
洗浄する洗浄装置と、上記膜形成装置と上記洗浄装置と
に上記トレイを搬送する搬送装置とを設けた構成であり
、これにより上記トレイに設置された基板上に反射膜ま
たは記録膜を形成したのち、上記トレイに付着した不要
の反射膜または記録膜を除去する洗浄装置にて除去した
のちふたたび基板上に反射膜または記録膜を設けるとい
う連続した閉ループ搬送系を有しており、これにより高
信頼性の光ディスクの反射膜または記録膜を形成するも
のである。
実施例の説明
第３図に本発明の光ディスクの製造装置およびその製造
方法の一実施例を示す。第３図（ａ）はその・ 平面図
、第３図（ｂ）は同断面図である。
方法の一実施例を示す。第３図（ａ）はその・ 平面図
、第３図（ｂ）は同断面図である。
１１はＡ１反射膜の形成装置であるＡ２スパッター装置
を示し、１２は予備真空室、１３はスパッター窓、１４
は予備真空室よりなる。樹脂基板２は、搬送用のトレイ
１５に設置され、搬送系１６に置かれている。スパッタ
ー装置１１の中をトレイ１６が通過すれば、スパッター
室１３にて、Ａｎターゲット１７によりへ２膜が樹脂基
板２上に形成される。しかしながら同時にトレイ１５に
もＡ℃反射膜が形成されている。へ２スパンター装置１
１を通過したトレイ１５はディスク取出位置１８で、取
出し手段等（図示せず）によりＡｆｉ反射膜を形成され
たディスク１９だけが取出され、トレイ１５はその１ま
搬送系１６に従って、洗浄装置２Ｑに送られる。洗浄装
置２０は、八２だけを除去するための水酸化カリウム（
ＫＯＨ）の洗浄槽２１と、純水洗浄ののちフロン蒸気に
て乾燥する乾燥槽２２とを有する。トレイ１５がこの洗
浄装置２０を通過すれば、トレイ１５に付着した不要の
Ａｌ１が完全に除去される。次に、トレイ１５は元の基
板設置位置にもどり、ここで樹脂基板２が供給されると
いう閉ループ搬送系を有する。
を示し、１２は予備真空室、１３はスパッター窓、１４
は予備真空室よりなる。樹脂基板２は、搬送用のトレイ
１５に設置され、搬送系１６に置かれている。スパッタ
ー装置１１の中をトレイ１６が通過すれば、スパッター
室１３にて、Ａｎターゲット１７によりへ２膜が樹脂基
板２上に形成される。しかしながら同時にトレイ１５に
もＡ℃反射膜が形成されている。へ２スパンター装置１
１を通過したトレイ１５はディスク取出位置１８で、取
出し手段等（図示せず）によりＡｆｉ反射膜を形成され
たディスク１９だけが取出され、トレイ１５はその１ま
搬送系１６に従って、洗浄装置２Ｑに送られる。洗浄装
置２０は、八２だけを除去するための水酸化カリウム（
ＫＯＨ）の洗浄槽２１と、純水洗浄ののちフロン蒸気に
て乾燥する乾燥槽２２とを有する。トレイ１５がこの洗
浄装置２０を通過すれば、トレイ１５に付着した不要の
Ａｌ１が完全に除去される。次に、トレイ１５は元の基
板設置位置にもどり、ここで樹脂基板２が供給されると
いう閉ループ搬送系を有する。
このようにすれば、トレイ１５に付着した不要の反射膜
が容易に完全に除去することができ、常にＡ２スパッタ
ー装置１１の内部をクリーンに保つことができる。
が容易に完全に除去することができ、常にＡ２スパッタ
ー装置１１の内部をクリーンに保つことができる。
尚、本実施例では、Ａ１の反射膜で示したが、ＴｅＯｘ
などの記録膜でも同じ効果がある。また、反射膜または
記録膜の形成装置としては、スパッター、電子ビーム蒸
着、イオンブレーティングなどの方法が適している。
などの記録膜でも同じ効果がある。また、反射膜または
記録膜の形成装置としては、スパッター、電子ビーム蒸
着、イオンブレーティングなどの方法が適している。
また、トレイの洗浄装置としても、酸やアルカリ、有機
溶剤などによる化学的エツチングの他に機械的なポリソ
ングや、超音波洗浄、逆電解メッキなど、トレイに付着
した不要の反射膜または記録膜を除去できる装置であれ
ばよい。
溶剤などによる化学的エツチングの他に機械的なポリソ
ングや、超音波洗浄、逆電解メッキなど、トレイに付着
した不要の反射膜または記録膜を除去できる装置であれ
ばよい。
発明の効果
以上のように本発明によれば、基板上に反射膜または記
録膜を形成する装置と、上記基板を設置するトレイと、
上記トレイを搬送する装置と、上記トレイを洗浄する装
置とを設けて上記トレイに設置きれた基板上に反射膜ま
たは記録膜を形成したのち、上記トレイに付着した不要
の反射膜または記録膜を洗浄装置にて除去したのち閉ル
ープ搬送系により順次基板上に反射膜または記録膜を形
成すれば、真空装置内をクリーンに保てるためコンタミ
ネーションや不純物やピンホールなどの欠陥の含まれな
い良質の信頼性の高い膜質が得られる。また、装置が連
続で自動化が図れるので大量に、安価に安定した光ディ
スクを提供できるなどの効果がある。
録膜を形成する装置と、上記基板を設置するトレイと、
上記トレイを搬送する装置と、上記トレイを洗浄する装
置とを設けて上記トレイに設置きれた基板上に反射膜ま
たは記録膜を形成したのち、上記トレイに付着した不要
の反射膜または記録膜を洗浄装置にて除去したのち閉ル
ープ搬送系により順次基板上に反射膜または記録膜を形
成すれば、真空装置内をクリーンに保てるためコンタミ
ネーションや不純物やピンホールなどの欠陥の含まれな
い良質の信頼性の高い膜質が得られる。また、装置が連
続で自動化が図れるので大量に、安価に安定した光ディ
スクを提供できるなどの効果がある。
第１図（ａ） 、 （ｂ） 、 （Ｃ）は光ディスクの
一種であるディジタルオーディオディスクの平面図、断
面図および要部拡大図、第２図（ａ） 、 （ｂ）は従
来の光デイスク製造装置の断面図およびトレイに設置さ
れた基板の平面図、第３図（ａ） 、 （ｂ）は本発明
の一実施例における光ディスクの製造装置を示す平面図
と要部断面図である。 １−・・・ディスク、２・・・・樹脂基板、３・・・・
・・ディジタル信号部、４・・−反射膜、５・・−・・
・保護膜、６・・半導体レーザ光、１１・・・・・スパ
ッター装置、１２、ｔ４・−・−予備真空室、１３−
スパッター室、１５・−トレイ、１６−・・搬送系、１
７・−・・・へ２ターゲット、１８・・ディスク取出し
位置、１９ ・−反射膜の設けられたディスク、２０・
・・・洗浄装置、２１−・−洗浄槽、２２・・乾燥槽。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 第３図 ２θ
一種であるディジタルオーディオディスクの平面図、断
面図および要部拡大図、第２図（ａ） 、 （ｂ）は従
来の光デイスク製造装置の断面図およびトレイに設置さ
れた基板の平面図、第３図（ａ） 、 （ｂ）は本発明
の一実施例における光ディスクの製造装置を示す平面図
と要部断面図である。 １−・・・ディスク、２・・・・樹脂基板、３・・・・
・・ディジタル信号部、４・・−反射膜、５・・−・・
・保護膜、６・・半導体レーザ光、１１・・・・・スパ
ッター装置、１２、ｔ４・−・−予備真空室、１３−
スパッター室、１５・−トレイ、１６−・・搬送系、１
７・−・・・へ２ターゲット、１８・・ディスク取出し
位置、１９ ・−反射膜の設けられたディスク、２０・
・・・洗浄装置、２１−・−洗浄槽、２２・・乾燥槽。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 第３図 ２θ
Claims (4)
- （１）基板上に反射膜または記録膜を形成する膜形成装
置と、上記基板を設置するトレイと、上記トレイを洗浄
する洗浄装置と、上記膜形成装置と上記洗浄装置とに上
記トレイを搬送する搬送装置とを有する光ディスクの製
造装置。 - （２）洗浄装置は、酸・アルカリ・有機溶剤などによる
化学的エッチング、機械的ポリシング、超音波洗浄、逆
電解メッキなどであり、上記トレイに付着した反射膜ま
たは記録膜だけを除去することを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の光ディスクの製造装置。 - （３）基板上に反射膜または記録膜を形成する膜形成装
置と、上記基板を設置するトレイと、上記トレイを洗浄
する洗浄装置と、上記膜形成装置と上記洗浄装置とに上
記トレイを搬送する搬送装置とを設け、上記膜形成装置
にて、上記トレイに設置された基板上に反射膜または記
録膜を形成した後、上記トレイに付着した反射膜または
記録膜を上記洗浄装置にて除去し、再び基板上に反射膜
または記録膜を形成する連続した閉ループ搬送系により
順次基板上に反射膜または記録膜を形成することを特徴
とする光ディスクの製造方法。 - （４）洗浄装置としては、酸・アルカリ・有機溶剤など
による化学的エッチング、機械的ポリシング、超音波洗
浄、逆電解メッキなどであり、上記トレイに付着した反
射膜または記録膜だけを除去することを特徴とする特許
請求の範囲第３項記載の光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59197169A JPS6174152A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 光デイスクの製造装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59197169A JPS6174152A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 光デイスクの製造装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6174152A true JPS6174152A (ja) | 1986-04-16 |
Family
ID=16369935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59197169A Pending JPS6174152A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 光デイスクの製造装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6174152A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS589241A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-19 | Pioneer Electronic Corp | 真空連続処理下における被処理物の洗浄装置 |
-
1984
- 1984-09-20 JP JP59197169A patent/JPS6174152A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS589241A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-19 | Pioneer Electronic Corp | 真空連続処理下における被処理物の洗浄装置 |
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