JPS6141159B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6141159B2
JPS6141159B2 JP16432581A JP16432581A JPS6141159B2 JP S6141159 B2 JPS6141159 B2 JP S6141159B2 JP 16432581 A JP16432581 A JP 16432581A JP 16432581 A JP16432581 A JP 16432581A JP S6141159 B2 JPS6141159 B2 JP S6141159B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
chamber
liquid
tank
pair
Prior art date
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Expired
Application number
JP16432581A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5866392A (ja
Inventor
Akira Kuroiwa
Tooru Kurihara
Kenji Terada
Ryohei Yamakawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Giken Kogyo KK
Original Assignee
Toyo Giken Kogyo KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Giken Kogyo KK filed Critical Toyo Giken Kogyo KK
Priority to JP16432581A priority Critical patent/JPS5866392A/ja
Publication of JPS5866392A publication Critical patent/JPS5866392A/ja
Publication of JPS6141159B2 publication Critical patent/JPS6141159B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は薄板状のプリント基板の端子部を効率
良くめつき処理する方法と其の装置に関する。
従来は、電子部品であるプリント基板の端子部
を連続めつきする場合に於て、例えば硫酸ニツケ
ル又はスルフアミン酸ニツケルなどの処理液にて
めつきを行う処理槽内に配設する陽極としては、
チタンに白金コーテングを施したる処理液に対し
て不溶性金属が用いられる。
ところで不溶性金属なる故、陽性の消耗は無い
が、当然めつき液中に溶解している金属イオンが
被処理物表面に金属となつて析出するので、金属
イオン濃度が低下し、其の結果めつき液の電気抵
抗は大となり電解効率が低下し被めつき金属の粒
子が粗となる等の不都合が生ずるので、めつき液
の金属イオン濃度の低下を防ぐため、同種の濃厚
液を補充して操業が行われて来た。本発明は以上
の不都合を解消するため、めつき槽に配設する陽
極として可溶性金属を採用することにより解決し
たものである。以下図面を参照しながら本発明の
方法と装置につき詳細に説明する。
第1図は薄板状の被処理物1を連続めつきする
装置の外観図で、従来法は被処理物の搬送給電手
段としてローラーで挾持給電するか、ブラシにて
挾持して給電していたが、図示は出願人が開発し
た挾持面に給電ワイヤー2aを埋め込んだ一対の
搬送ベルトにて被処理物を挾持して搬送する点を
異にした装置である。そして本発明は第1図に於
ては図示されてい無い被処理物が挾持搬送される
下方のめつき槽の改良に存する。なお説明上第1
図に付した矢印側を正面と称する。
第2図は搬送ベルト2の直下で搬送方向に細長
いめつき槽の断面を示す正面図であつて本発明の
要部である。図に於いて1は被処理物であるプリ
ント基板で、基板の下方はめつき処理を受ける基
板の端子部1aで、上方は基板を挾持して搬送す
る保持部によつて確実に密着押圧されている。そ
して保持部は基板1を挾持する外側面には給電ワ
イヤー2aを全周に埋め込んだ一対のゴム状の弾
性体よりなる搬送ベルト2よりなり、其の内側面
はガイド用支柱11により支承されてるベルトガ
イド3によつて支持されてるので一定位置を常に
保つことが出来る。なお基板を挾持する面を長手
方向中心面Cと称する。一対の搬送ベルト2はそ
れぞれエンドレスで常法により第1図の如くプー
リー18により張設されて回転し、被処理物1を
挾持搬送する。
保持部即ち図で搬送ベルト2の下方には、正面
と背面にプリント基板の出入する図示を略したス
リツト状の切欠けを設けた細長のめつき槽6が配
設され、第2図は其の断面を示す正面図である。
めつき槽6は上段のめつき室6aと下段の密閉さ
れたるノズル室4とに区分され、ノズル室の上面
にはプリント基板端子部1aに向けてめつき液を
噴射するノズル5が中心面に対称に、搬送ベルト
2の進行方向に適当ピツチにて、図で左右両側に
設けられている。実施例ではノズル径2mm、ピツ
チ15mmのノズルであるが、代うるに同容量のスリ
ツトでも同一である。そしてノズル室4の下面に
は後述するポンプ及配管にて循環するめつき液が
圧送されるための開孔16が設けられている。め
つき室6a内には可溶性金属よりなる陽極10
が、複数個の陽極台座9上に、めつき室の正面よ
り背面に向けて左右対称、互に平行に横設されて
いる。そして陽極10の上端13はめつき室6a
の液面17より上方に突出している。又めつき室
6aの左右の側壁には液面調整堰12が設けら
れ、操業中常時めつき液がオーバーフローする如
く側壁内の液面17′より常に低くなつている。
なお実施例のめつき液は、硫酸ニツケル又はスル
フアミル酸ニツケルで、可溶性陽極としては金属
ニツケルが用いられている。
次に作動について概説すると、常法により搬送
用ベルト2を稼動させて、引続きめつき用電源を
通電し、プリント基板の端子即ちめつきすべき部
分1a以外は常法によりマスクテープを貼布し
て、めつき槽6の正面側で一対の搬送ベルト2に
挾持させると、めつき室6aのスリツト切欠(図
示省略)を通過してめつき室6a内に搬送され、
端子はめつき液に浸漬する。他方常法によりポン
プ14を稼動すると、めつき液管理槽8よりめつ
き液を吸引し、パイプ15を介してめつき液はノ
ズル室4内に圧入され、ノズル室内の圧送された
めつき液はノズル5より基板端子1aに向けて強
制的に噴射し、めつき室6a内のめつき液は矢印
の如く陽極10の下部を通り抜けて側壁の上縁よ
り流出する。図例では調整用堰12の上縁より流
出する。流出しためつき液はレシーブタンク7を
経て、排出管15′を介して前記管理槽8に戻
り、以後同様にめつき液は循環し、めつき処理が
完了したプリント基板1はめつき室6aの背面ス
リツト切欠きを抜け、更に搬送ベルトの挾持から
離脱する。
以上述べた如く本発明によれば、めつき処理す
る場合に、陽極として可溶性金属を使用してるの
で、めつき液よりの析出金属と同量の金属が陽極
10より溶出し金属イオン濃度は安定するので、
従来の如き濃厚液補充式と異り自動的に処理量と
同量の金属が補充されるので時間毎の液分析も必
要なく安定した製品の生産を可能とした生産性向
上に寄与するところ大である。
更に本装置によれば、弾性を有する搬送ベルト
にて確かとプリント基板を密着固定することが出
来、製品に損傷を与えることなく、端子部はノズ
ル噴射にて新規なめつき液と更新され、調整堰を
設けて、電極間内水位との差を大とすることによ
り液循環の流速を調整することも出来る。
又明細書及び図面に示すとおり、有機的な本願
構成により、噴射ノズルより噴出後の液循環は、
めつき室の中心に向けて上昇し、再び降下し、室
底を経て再び上昇し側壁よりオーバーフローする
ので、めつき液は均一となり、めつき能力及びめ
つき品質ともに格段の向上を達成することが出来
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は薄板状の被処理物を挾持搬送して連続
めつきする装置の外観図、第2図は本発明の要部
で細長いめつき槽の断面を示す正面図で、第1図
の〜に沿つた縦断面である。 1……薄板状被処理物(プリント基板)、1a
……被めつき部(端子部)、2……搬送用ベル
ト、2a……給電部(ワイヤー)、4……密閉ノ
ズル室、5……ノズル、6……めつき槽、6a…
…めつき室、10……陽極、13……上端、1
7,17′……液面、C……中心面。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 連続めつき装置に於て、陽極としてめつき処
    理液中に溶解している金属と同一金属よりなる板
    状の可溶性金属を採用し、 左右一対の前記陽極板を、複数個の台座等を介
    してめつき室6aの底面に定置することで、底面
    上にめつき液流路を形成して、めつき槽長手方向
    に堰状に配設し、 外側面に給電ワイヤーを埋め込んだ一対のエン
    ドレス搬送ベルトにて被処理物をめつき槽上にて
    密着挟持して、前記被処理物の下端被めつき部分
    を前記一対の陽極間中心面Cを搬送せしめ、 他方めつき室6aの底面中央を逆W字状に形成
    し、その一対のV形頂部斜面より、それぞれ約45
    ゜の角度にてめつき液を噴出して被めつき部分1
    aの両面をめつき処理して、めつき室6aの左右
    上端の液面調節堰よりめつき液を排出するプリン
    ト基板端子部の連続めつき方法。 2 薄板状被処理物1の被めつき部1aの上部を
    保持して搬送する挟持面に、給電部を有する一対
    のエンドレス搬送ベルトにて被処理物を垂下搬送
    する保持部を備えた搬送装置を配設し、 搬送装置の下方で、搬送ベルトの進行方向に正
    面及び背面に薄板状被処理物出入用のスリツト状
    開口を有する細長のめつき槽6を配設し、 前記めつき槽は、下段の密閉ノズル室と上段の
    めつき室に区分し、ノズル室4の上表面中央に2
    列の山形を形成し、其の中心側斜面頂部より45゜
    の角度にてめつき液を噴出し、 他方めつき室6aの底面には、中心面と対称に
    底面と間隔を保持して、めつき液と同一金属イオ
    ンを溶出する可溶性板状の左右一対の陽極をめつ
    き液面17上に突出せしめて堰状に配設し、 めつき装置を稼動して、めつき液面より低い槽
    側壁より流出しためつき液を其の外周に設けたレ
    シーブタンク7を介してポンプ配管にて循環し、
    ノズル室に圧送し、ノズルより噴射してめつき処
    理するプリント基板端子部の連続めつき装置。
JP16432581A 1981-10-16 1981-10-16 プリント基板端子部の連続めつき方法と其の装置 Granted JPS5866392A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16432581A JPS5866392A (ja) 1981-10-16 1981-10-16 プリント基板端子部の連続めつき方法と其の装置

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JP16432581A JPS5866392A (ja) 1981-10-16 1981-10-16 プリント基板端子部の連続めつき方法と其の装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5866392A JPS5866392A (ja) 1983-04-20
JPS6141159B2 true JPS6141159B2 (ja) 1986-09-12

Family

ID=15791011

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JP16432581A Granted JPS5866392A (ja) 1981-10-16 1981-10-16 プリント基板端子部の連続めつき方法と其の装置

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JPS5866392A (ja) 1983-04-20

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